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本發(fā)明涉及半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。一種單晶爐二次加料裝置，包括原料存儲(chǔ)機(jī)構(gòu)，原料存儲(chǔ)機(jī)構(gòu)包括下端開口的石英料筒以及用于封堵石英料筒的下端開口的封堵件；石英料筒的外壁固定有用于搭設(shè)固定在單晶爐的爐體內(nèi)的限位臺(tái)階，石英料筒的內(nèi)部固定有縱向滑動(dòng)連...

本發(fā)明公開一種用于防止液位波動(dòng)影響液位計(jì)顯示的護(hù)罩。一種用于防止液位波動(dòng)影響液位計(jì)顯示的護(hù)罩，包括一下端開口的管狀結(jié)構(gòu)，管狀結(jié)構(gòu)的上端開設(shè)有用于穿過液位計(jì)的穿孔，管狀結(jié)構(gòu)的頂部與液位計(jì)可拆卸連接；管狀結(jié)構(gòu)的外壁上固定有一安裝法蘭，安裝法...

本發(fā)明公開一種半導(dǎo)體制備用高純加熱器及其制備方法。一種半導(dǎo)體制備用高純加熱器包括一石墨發(fā)熱器，還包括一石英封套，石英封套包覆在石墨發(fā)熱器的外圍；石英封套與石墨發(fā)熱器之間夾設(shè)有石英棉；石英封套包括上封蓋、支柱、內(nèi)套和外套，內(nèi)套以及外套均呈...

本發(fā)明公開了一種用于熱壓或冷壓裝備的高精度液壓控制方式，主要有速度控制和壓力控制兩種方式。針對(duì)不同的材料和工藝，在觸摸屏上可自由選擇控制方式。在實(shí)際生產(chǎn)過程中，選擇速度控制時(shí)，設(shè)備在使用過程中，以恒定的液壓速度壓制材料，壓制后的材料成份...

本發(fā)明涉及晶棒加工設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。一種可偏擺的回轉(zhuǎn)工作臺(tái)，包括回轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，還包括搖擺機(jī)構(gòu)以及驅(qū)動(dòng)搖擺機(jī)構(gòu)運(yùn)動(dòng)的搖擺驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)；搖擺機(jī)構(gòu)包括安裝基座、軸承、滑動(dòng)導(dǎo)向座以及底座，底座上安裝有兩個(gè)鏡像對(duì)稱設(shè)置的滑動(dòng)導(dǎo)向座，滑動(dòng)導(dǎo)向座上開設(shè)有滑槽；安...

本發(fā)明公開了一種用于切片機(jī)的張力標(biāo)定系統(tǒng)和方法，基于線性回歸理論，利用最小二乘法求解一元線性回歸方程，實(shí)現(xiàn)了既保證精確度又能節(jié)省操作時(shí)間地標(biāo)定張力電機(jī)，同時(shí)，包含自動(dòng)驗(yàn)證功能，若出現(xiàn)異常數(shù)據(jù)可自動(dòng)識(shí)別，避免偶然誤差的影響。開放張力值補(bǔ)償...

本發(fā)明涉及機(jī)械技術(shù)領(lǐng)域。一種碳化硅材料制備裝卸機(jī)構(gòu)，包括旋轉(zhuǎn)模組，旋轉(zhuǎn)模組包括吊臂、轉(zhuǎn)軸、從動(dòng)鏈輪、主動(dòng)鏈輪、鏈條以及驅(qū)動(dòng)電機(jī)；驅(qū)動(dòng)電機(jī)的動(dòng)力輸出軸連接主動(dòng)鏈輪；吊臂通過軸承與轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動(dòng)連接，吊臂的下方設(shè)置有鏈輪安裝板，鏈輪安裝板上安裝有...

本發(fā)明涉及晶棒加工設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。一種多功能單線碳化硅加工設(shè)備，包括一底座，底座上安裝有收放線機(jī)構(gòu)、工件粘接轉(zhuǎn)臺(tái)、切割頭機(jī)構(gòu)，切割頭機(jī)構(gòu)的正前方安裝有一用于帶動(dòng)工件粘接轉(zhuǎn)臺(tái)前后滑動(dòng)的水平滑臺(tái)，工件粘接轉(zhuǎn)臺(tái)安裝在水平滑臺(tái)上；工件粘接轉(zhuǎn)臺(tái)包括...

本發(fā)明涉及機(jī)械技術(shù)領(lǐng)域。一種氟化爐用熱場(chǎng)結(jié)構(gòu)，包括保溫結(jié)構(gòu)、加熱器結(jié)構(gòu)以及坩堝結(jié)構(gòu)，保溫結(jié)構(gòu)包括內(nèi)外設(shè)置的石墨層以及保溫氈外層；石墨層內(nèi)設(shè)置有用于容納加熱器結(jié)構(gòu)以及坩堝結(jié)構(gòu)的寶塔狀的空腔；保溫結(jié)構(gòu)的底部開設(shè)有上下貫穿的第一通孔；加熱器結(jié)...

本發(fā)明涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域。一種新型激光液口距自動(dòng)調(diào)整裝置，包括安裝基座，安裝基座包括水平設(shè)置的第一安裝板，第一安裝板上安裝有高度調(diào)節(jié)螺栓；安裝基座還包括一安裝在第一安裝板上的可前后左右的調(diào)節(jié)架，調(diào)節(jié)架可拆卸安裝在第一安裝板上；還包括一用...

本發(fā)明涉及半導(dǎo)體加工設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。一種氟化爐用真空環(huán)境控制裝置，包括一長(zhǎng)晶腔體，長(zhǎng)晶腔體上設(shè)置有真空口，真空口順序連接有一水平設(shè)置的抽真空過渡通道，抽真空過渡通道包括順序連接的水冷擋板、水冷井以及主連接管路；主連接管路與第一抽真空通道、...

本發(fā)明提供一種單晶爐下腔體硅液導(dǎo)流裝置，包括裝置主體，裝置主體包括第一導(dǎo)流管、第一封裝加熱器、第一固定安裝板、第二導(dǎo)流管、第二固定安裝板、第二封裝加熱器、第三導(dǎo)流管、雙層坩堝和腔體，第一封裝加熱器與第二封裝加熱器均為結(jié)構(gòu)一致的封裝加熱器...

本發(fā)明涉及機(jī)械技術(shù)領(lǐng)域。一種展布機(jī)用靜音高壽命展布機(jī)構(gòu)，其特征在于，包括前后對(duì)稱設(shè)置的導(dǎo)軌，導(dǎo)軌為C形型材，導(dǎo)軌包括上限位部以及下限位部，上限位部與下限位部之間通過連接部相連；還包括左右滑動(dòng)的滑動(dòng)組件，滑動(dòng)組件包括支撐架，支撐架上安裝有...

本發(fā)明公開了多功能碳化硅切片設(shè)備。多功能碳化硅切片設(shè)備，其特征在于，包括切割室，切割室包括一框架；框架安裝有呈倒三角形排布的切割輥以及驅(qū)動(dòng)電機(jī)，驅(qū)動(dòng)電機(jī)帶動(dòng)切割輥轉(zhuǎn)動(dòng)；框架上開設(shè)有前后設(shè)置的三個(gè)呈倒三角形布置的前安裝孔以及三個(gè)呈倒三角形...

本發(fā)明公開了一種水冷式晶棒熔融的高頻感應(yīng)加熱裝置。一種水冷式晶棒熔融的高頻感應(yīng)加熱裝置，包括高頻線圈；高頻線圈的開口側(cè)的兩端分別通過螺栓可拆卸連接兩個(gè)水冷電極；還包括水冷法蘭，水冷法蘭上開設(shè)有用于水冷電極延伸且穿過的穿孔，穿孔與水冷電極...

本發(fā)明提供一種多功能單線碳化硅截?cái)鄼C(jī)加工設(shè)備，包括設(shè)備主體，設(shè)備主體包括一底座，底座的兩側(cè)分別安裝有左立柱和右立柱，左立柱與右立柱通過一直線導(dǎo)軌連接，直線導(dǎo)軌設(shè)置在左立柱的背面和右立柱的背面，直線導(dǎo)軌上安裝有一體式切割頭，一體式切割頭在...

本發(fā)明提供一種帶有高效冷卻循環(huán)水路的碳化硅切片機(jī)，包括切片機(jī)主體，切片機(jī)主體包括砂漿箱組件、過濾桶組件、砂漿板換組件、砂漿流量監(jiān)控組件和砂漿噴淋組件，砂漿板換組件設(shè)置在切割室右門旁邊，砂漿箱組件安裝在切割室下方，砂漿箱組件內(nèi)設(shè)有砂泵，過...

本發(fā)明提供一種氟化爐用鐘罩提拉部套提拉結(jié)構(gòu)，包括裝置主體，裝置主體包括一定位塊，定位塊的上下兩側(cè)均設(shè)有一提拉塊，提拉塊包括第一連接塊，第一連接塊通過銷軸連接第二連接塊，第二連接塊通過內(nèi)六角圓柱頭螺釘與提升臂相連，第二連接塊后方有一調(diào)整螺...

本技術(shù)涉及半導(dǎo)體切割技術(shù)領(lǐng)域。一種可防沉積的砂漿箱，包括一箱體，其特征在于，箱體包括相互對(duì)接導(dǎo)通的進(jìn)料腔以及攪拌腔，攪拌腔呈圓筒形，攪拌腔的徑向外側(cè)對(duì)接有進(jìn)料腔，進(jìn)料腔的頂部開口，且進(jìn)料腔的頂部安裝有過濾網(wǎng)，進(jìn)料腔的底部從遠(yuǎn)離攪拌腔側(cè)至...

本技術(shù)涉及半導(dǎo)體切割技術(shù)領(lǐng)域。一種可調(diào)漿簾厚度的砂漿簾，包括一儲(chǔ)漿槽、分漿管、限流板以及均漿板；儲(chǔ)漿槽的頂部安裝有分漿管，分漿管的頂部開設(shè)有進(jìn)漿口，分漿管的底部開設(shè)有條狀出漿口；儲(chǔ)漿槽的兩側(cè)縱向滑動(dòng)連接有限流板，限流板通過螺釘與儲(chǔ)漿槽可...