亚洲av中文无码字幕色不卡_无码人妻精品一区二区三区99仓本_精品无码成人片一区二区98_亚洲中文字幕无码久久综合网

本發明提供了一種位置測量裝置、測量方法及光刻設備，測量裝置包括讀頭、光柵、光源、光探測模塊和光信號處理模塊；光源用于提供第一頻率的第一光束和第二頻率的第二光束；讀頭與光柵相對設置，讀頭包括第一分光元件，第一分光元件用于對第一光束和第二光...

本發明提供一種硅片溫度控制方法及硅片傳送裝置、存儲介質。硅片溫度控制方法中，并行執行步驟A和步驟B，且控制承片臺不晚于上片轉移機構到達上片交接位置，可以保證上片轉移機構到達上片交接位置后第一時間便將硅片交接給承片臺。相較于現有技術中按序...

本發明提供一種調焦調平系統、調焦調平方法及曝光裝置，所述調焦調平系統在探測器前設置分光光柵；光源單元發出的光束經投影光柵透射后投影成像至待測器件，光束經待測器件反射至分光光柵，分光光柵將含有待測器件表面信息的信號光衍射分離成兩路信號光并...

本發明涉及半導體技術領域，提供了一種掩模版、掩模版檢測裝置、掩模版存在和位姿檢測系統及檢測方法，所述掩模版包括：版體；所述版體上具有非透光區和透光區；所述版體上至少設置兩個檢測位置，分別為第一檢測位置和第二檢測位置；所述檢測位置位于所述...

本發明提供了一種激光退火方法，將一基底設置于運動臺上，將第一激光和第二激光投影至所述基底上，所述第一激光與所述第二激光投影在所述基底上的光斑在掃描方向上具有重疊區域，以對所述基底進行退火，測量所述基底在所述第一激光和/或所述第二激光的照...

本技術提供了一種閥門及曝光設備，閥門包括閥座、葉片和驅動件；閥座為具有內孔的環狀結構；閥座上形成有容置腔，容置腔同軸地環繞在內孔的外周，并還與內孔連通；葉片至少部分地設置在容置腔內，并與閥座可活動地連接；葉片的數量為多個，多個葉片沿所述...

本技術提供了一種吸附組件及晶圓檢測設備，吸附組件包括第一轉接件、吸嘴和至少一個第二轉接件；所述第一轉接件、所述吸嘴、至少一個所述第二轉接件中的任意兩者能夠可拆卸地連接；所述第一轉接件選擇性地與所述吸嘴連接或通過至少一個所述第二轉接件與所...

本發明提供了一種激光退火方法。具體的，可將相鄰第一軌跡(相鄰掃描軌跡)之間的第二軌跡(步進軌跡)優化為至少一曲線軌跡，并讓該第二軌跡與其相鄰的所述第一軌跡均相切，從而通過將相鄰掃描軌跡的步進軌跡優化為與其均相切的弧線軌跡的方式，可以保持...

本技術提供一種直線運動電機、致動模組及光刻設備。基于海爾貝克陣列的磁密分布情況和磁路分布規律可知，在第一導磁體對應第一切向磁鐵的位置處的外側，以及在第二導磁體對應第二切向磁鐵的位置處的外側，磁通密度的飽和度較低，因此可設置相應的第一減重...

本發明提供一種量檢測設備及基于無實物場景的配方設置方法、應用方法，通過獲取待檢測對象的規格信息及預配置待檢測對象的姿態調整初始參數、姿態調整參數自適應算法、探測信號采集初始參數和探測信號采集參數自適應算法仿真模擬生成待檢測對象的檢測圖像...

本發明涉及半導體技術領域，提供了一種半導體量測裝置，包括：工件臺，其用于承載被測基板；多個攝像頭部，能夠移動至被測基板的指定部分的上方對該指定部分進行攝像，并取得測量圖像；圖像處理部，能夠對所述測量圖像進行處理；多個背光源部，能夠移動至...

本技術提供了一種溫控裝置及光刻設備，溫控裝置包括第一組件和第二組件；所述第一組件包括換熱機構和吸附機構；所述吸附機構包括多個吸盤，所有的所述吸盤位于所述換熱機構的同一側，且所有的所述吸盤呈陣列布置；所述第二組件包括驅動部，所述驅動部與所...

本發明提供了一種激光退火設備預熱基板的傳輸方法及系統，所述傳輸方法包括：提供激光退火設備；將經預熱處理的第一基板置于工件臺，第二基板置于預熱處理之前的待機位上等待；判斷第一基板執行激光退火剩余的處理時間與工件臺的下片時間之和是否為預設時...

本發明涉及半導體技術領域，提供了一種退火方法及退火設備，退火方法包括：將基板轉移至退火設備的運動平臺上，并確定所述基板的初始圓心坐標；在運動平臺的上方設置位移傳感器，所述位移傳感器用于測量相對于所述運動平臺上所述基板的距離；所述運動平臺...

本發明提供一種芯片缺陷檢測方法及裝置。其中，芯片缺陷檢測方法是獲取樣本芯片圖像的特征值來表征各個樣本芯片圖像的色差屬性，并以此細分出多種色差區間，且對各個樣本芯片圖像進行色差歸類。以及利用機器學習模型自動訓練生成每種色差區間的標準特征圖...

本發明涉及半導體技術領域，提供了一種晶圓承載裝置及傳輸裝置，晶圓承載裝置包括：承載主體和傳感組件；所述承載主體包括主承載面，所述主承載面用于承載晶圓；所述傳感組件設置于所述承載主體，所述傳感組件具有頭部，所述頭部用于發射光束形成軌跡線并...

本發明提供了一種光學檢測方法，將基底放置于工件臺的預定位置，先令光學檢測模塊逐一拍攝光學檢測模塊的檢測區域內的至少部分待檢測圖案，然后工件臺將基底旋轉預定角度，使得檢測區域之外的待檢測圖案進入檢測區域內，此時，光學檢測模塊逐一拍攝剩余的...

本發明涉及半導體技術領域，提供了一種應用于大基底的運動平臺、半導體設備及圖像采集方法，應用于大基底的運動平臺包括：轉動座、第一吸附組件、第二吸附組件、基座以及轉動驅動組件；所述轉動座以可沿自身中軸線為中心轉動的方式安裝于所述基座上；所述...

本發明涉及半導體技術領域，提供了一種大基底的運動平臺及光刻設備，大基底的運動平臺包括：承片臺組件、基座以及垂向作用組件；所述承片臺組件設置于所述基座，所述垂向作用組件用于為所述承片臺組件施加作用力；所述作用力包括向上的作用力和向下的作用...

本發明公開了一種光刻機曝光方法、光刻設備和存儲介質，及垂向測量修正量計算方法、裝置、設備和介質，本發明通過測量和計算獲得硅片垂向高度的相對偏移誤差，根據所述相對偏移誤差，計算求出優化的硅片表面高度，以所述優化的硅片表面高度為基準進行光刻...