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本發(fā)明公開(kāi)了一種雙入射狹縫光譜儀的設(shè)計(jì)方法以及雙入射狹縫光譜儀，使用凹面光柵、兩個(gè)入射狹縫和兩個(gè)光探測(cè)器搭建光譜儀，包括以下步驟：1)確定第一入射狹縫的入射角以及凹面光柵的槽型周期；2)估算凹面光柵的閃耀角，確定凹面光柵的表面材料和槽型結(jié)構(gòu)...該專利屬于清華大學(xué)深圳研究生院所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過(guò)清華大學(xué)深圳研究生院授權(quán)不得商用。