本實用新型提供了一種帶表面活化的真空濺鍍裝置，它包括用于表面改質處理的第一真空室以及設于第一真空室后端的若干真空濺鍍室，所述的第一真空室前端設有真空活化室，所述的真空活化室內設有陰極電弧源。本實用新型在對基材進行改質處理前，通過陰極弧光...

本實用新型公開了一種氣流封隔門閥裝置，它包括多個真空濺鍍室以及設于真空濺鍍室之間的氣體分離緩沖腔，所述的氣體分離緩沖腔中設有兩組氣流封，所述的兩組氣流封并行設置在相鄰兩真空濺鍍室之間。本實用新型在氣體分離緩沖腔中設置氣流封，通過氣流封吸...

本實用新型公開了一種用于真空濺鍍的氣體混合控制裝置，它包括若干氣體儲存裝置以及與所述的氣體儲存裝置相連的真空濺鍍室，它還包括氣體流量控制閥以及計算機，所述的氣體流量控制閥設于所述的每一氣體儲存裝置與氣體預混腔之間，所述的氣體流量控制閥與...

本實用新型公開了一種往復式連續鍍膜裝置，其利用往復式的傳送裝置將基材輸送到不同的鍍膜區進行鍍膜，從而對膜層分布進行控制，再有控制傳送裝置的傳送速度從而實現對膜厚的控制，除此之外，在每個鍍膜區所設置的檢測裝置可以檢測基材的位置并將檢測信號...

本實用新型公開了一種真空離子濺鍍靶材，所述靶材包括兩個相對排列的Ｌ形型材，兩Ｌ形型材的中間設有凸字型材，兩Ｌ形型材與凸字型材之間分別嵌設有Ｔ形型材，兩Ｌ形型材和凸字型材作為掛鉤將兩Ｔ形型材固定在真空濺鍍機內；本實用新型根據撞擊電子的螺旋...