本發明涉及一種用于低溫罩地面加注液氮時的防霜隔熱裝置及方法，屬于低溫液體加注領域。所述裝置包括氮氣鋼瓶、氮氣減壓閥、穩壓閥、氣路轉換開關、測溫儀、氣缸、熱電偶、防霜罩、低溫罩、電子秤、加注閥、液氮供應容器、氦氣調壓閥、氦氣鋼瓶；其中防霜...

本發明公開了一種二次電子發射薄膜的制備方法，具體為一種以不銹鋼為基片采用磁控濺射技術沉積二次電子發射薄膜的制備方法，屬于功能薄膜制備領域。所述方法包括清潔真空室、清洗基底、裝基片、真空室抽真空、等離子體清洗靶材和二次電子發射薄膜沉積六個...

本發明涉及一種射頻磁控共濺射制備二次電子發射功能薄膜的方法，屬于功能薄膜制備領域。所述方法具體包括清潔真空室、清洗基片、裝基片、真空室抽真空、等離子體清洗靶材和二次電子發射薄膜沉積六個步驟。采用所述方法制備的二次電子發射薄膜不但具有高的...

本發明公開了一種提高長波紅外光學薄膜與鍺基片附著力的方法，屬于光學薄膜領域。所述方法包括基片的清洗、離子束轟擊活化基片、過渡層的鍍制、長波紅外光學薄膜的鍍制幾個步驟。所述方法整個過程工藝穩定，重復性好，操作簡便，可操作性強。采用所述方法...

本發明涉及一種雙向槽道并聯式端框制冷裝置，屬于低溫制冷領域。所述裝置包括四層框體和夾片，每層框體均在一面上刻有鏡像對稱的“匚”字形冷卻劑槽道，其中第一層框體刻有槽道的一面朝下，第二、三、四層框體刻有槽道的一面朝上；所述夾片位于第一層和第...

本發明涉及一種連續能譜電子源的制造裝置，屬于空間應用技術領域。所述裝置為在電子槍下施加一個電子束散射薄膜，所述薄膜為一面鍍有鋁層，另一面鍍有同心銀環的Kapton薄膜；實際使用時，將裝有所述電子束散射薄膜的鋁盤和電子槍安裝在真空室內，通...

本發明涉及一種電推進器產生的等離子體分布特性數值模擬預估方法，適用于電推進器工作時產生等離子體的分布特性數值模擬，屬于計算領域。所述方法基于PIC方法，依據電推進器產生的等離子體束流強度、溫度和空間天然等離子體參數對等離子體分布特性的影...

本發明涉及一種介質材料電導率測量裝置及方法，屬于測量領域。所述裝置包括真空室、電子加速器、介質材料樣品、平板電極、絕緣墊、高壓電源、靜電計、真空抽氣系統、樣品臺、三維傳動機構、接地開關、非接觸式電位計；所述方法包括開啟真空抽氣系統給真空...

一種發電機與制冷機耦合的雙斯特林機，主要由斯特林熱機、配氣活塞、耦合機殼、功率活塞、板彈簧、壓縮活塞、推移活塞、斯特林制冷機組成，其原理是通過耦合斯特林熱機和斯特林制冷機，將斯特林熱機的功率活塞作為斯特林制冷機的壓縮活塞，將熱能直接轉換...

本發明涉及一種多光譜組合濾光片的制備方法，屬于光學薄膜制備技術領域。所述方法步驟為：（1）粘接膠配制；（2）濾光片清洗；（3）濾光片涂膠；（4）粘接膠固化；（5）拼接濾光片檢測。所述方法工藝穩定，操作簡便，重復性好，且所制備的光譜組合濾...

本發明公開了一種提高長波紅外濾光片光譜截止帶邊緣陡度的方法，屬于光學薄膜領域。所述方法包括膜系設計、膜系鍍制、膜系光譜測試、誤差分析、膜系調整等五個步驟。所述方法的整個過程工藝穩定，重復性好，操作簡便，產品合格率高。采用所述方法制備得到...

本發明公開了一種具有二次電子發射功能的膜系制備方法，屬于功能薄膜制備領域。所述方法包括如下步驟：（1）清潔真空室，（2）清洗基片，（3）裝基片，（4）真空室抽真空，（5）等離子體清洗靶材，（6）二次電子發射薄膜沉積。所述方法利用沉積多層...

本發明公開了一種小尺寸組合濾光片拼接夾具，屬于濾光片夾具加工技術領域。所述夾具包括：底座、第一滑桿組件、第二滑桿組件、第三滑桿組件、直角定位塊、壓框、第一緊壓塊和第二緊壓塊；所述第一滑桿組件、第二滑桿組件和第三滑桿組件分別包括一個螺桿和...