用于處理已成像的印版的方法技術(shù)

本發(fā)明專利技術(shù)涉及一種用于處理已成像的、尤其是用兩親分子或用聚合物例如糖類覆蓋的印版的方法，其中，在該印版的表面上涂覆（１３０）液體狀態(tài)的上膠物質(zhì)、尤其是顯微上膠物質(zhì)涂層，其特征在于：在一個與直到平版印刷的液體、例如潤濕劑或印刷油墨涂覆到該表面上的時間段相比短的或可忽略的時間段之后將該上膠物質(zhì)去除（１４０）或減少，直到留下一個保留的納米級的覆蓋層。上膠物質(zhì)的去除或減少優(yōu)選在仍為液體的狀態(tài)下、即在所涂覆的上膠物質(zhì)干燥之前并且優(yōu)選直接在涂覆之后進行。保留的上膠物質(zhì)涂層保護印版免受污染并且提高親水性－疏水性對比度。

【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】

本專利技術(shù)涉及。此外，本專利技術(shù)涉及可 重復(fù)成像的印版及用于處理已成像的印版的裝置。
技術(shù)介紹
所述類型的方法、印版及裝置在對己成像/重復(fù)成像的印版進行成 像/重復(fù)成像及處理的領(lǐng)域內(nèi)、尤其是在處理承印物頁張的機器例如處 理紙張或硬紙板頁張的平版膠印機的印刷裝置中使用。由現(xiàn)有技術(shù)、例如由DE 102 27 054 Al公知了用兩親分子納米級 地覆蓋的平印版，這種平印版在循環(huán)過程中可多次成像，由此可重復(fù) 使用。公開了一種具有親水印刷面的印版，它例如用自然氧化的鈦制 成，其中，印刷面覆蓋有強地連接在該表面上的兩親化合物?？稍谑?用紅外激光器的情況下使印版逐點成像。為此，在使用激光輻射的情 況下將非圖像區(qū)域中的對外起疏水作用的覆蓋層去除或解吸，在此情 況下產(chǎn)生親水的表面區(qū)域。還公知了給以這種方式成像的印版在成像 之后通過涂覆上膠物質(zhì)層來上膠。在印刷之后并且在重新覆蓋和重新 成像之前必須凈化該表面，必要時進行初始化，因為上膠物質(zhì)層的殘 余可使得用兩親化合物重新覆蓋變難。DE 103 45 388 Al描述了一種用于給平版印刷的平印版上膠的方 法及組合物。為了在成像時保護以圖像形式暴露的載體、例如鋁載體 以避免氧化、指紋等，使平印版經(jīng)受上膠處理。例如用擠壓輥并且在 成像之后緊接著涂覆在平印版上的所述上膠物質(zhì)在存放及印刷機長時間停機時保護平印版，而在印刷時不出現(xiàn)油墨接收問題和/或差的空轉(zhuǎn)特性。上膠溶液的pH值取值大于7，上膠厚度通常取值3pm。這種上膠物質(zhì)的制造商例如Eggen Chemie對于上膠物質(zhì)Agum Z 規(guī)定使所涂覆的上膠物質(zhì)在涂覆之后緊接著干燥，例如在使用熱空 氣鼓風(fēng)機的情況下干燥。這種干燥例如在Kodak的印版顯影器 Polychrom 85中進行。在印版印刷之前再將已干燥的上膠物質(zhì)層去除。 DE40 13464A1描述了印刷機的印版的自動上膠，其中，借助于 一個上膠裝置通過潤濕輥、必要時通過摩擦滾筒在印版上涂覆上膠液 體。為了自動去除上膠物質(zhì)，借助于一個清洗裝置來清洗印版并且同 時清洗潤濕輥及摩擦滾筒。
技術(shù)實現(xiàn)思路
本專利技術(shù)的任務(wù)在于，提供一種相對于現(xiàn)有技術(shù)改進的方法，該方 法克服現(xiàn)有技術(shù)的所述這些缺點中的至少一個。本專利技術(shù)的另一個或替換的任務(wù)在于，提供一種相對于現(xiàn)有技術(shù)改 進的，根據(jù)該方法，上膠物質(zhì)的去除以 這樣的方式進行，使得可簡單且多次地重復(fù)使用印版。本專利技術(shù)的另一個或替換的任務(wù)在于，提供一種相對于現(xiàn)有技術(shù)改 進的，根據(jù)該方法，上膠物質(zhì)的去除以 這樣的方式進行，使得可通過重復(fù)覆蓋及重復(fù)成像簡單且多次地重復(fù) 使用印版。本專利技術(shù)的另一個或替換的任務(wù)在于，提供一種相對于現(xiàn)有技術(shù)改 進的，根據(jù)該方法，上膠物質(zhì)的去除以 這樣的方式進行，使得印版可以以很少的開機廢頁進行印刷。本專利技術(shù)的另一個或替換的任務(wù)在于，提供一種相對于現(xiàn)有技術(shù)改 進的可重復(fù)成像的印版，該印版可用簡單的方式且多次地重復(fù)使用、尤其是重復(fù)覆蓋及重復(fù)成像。本專利技術(shù)的另一個或替換的任務(wù)在于，提供一種相對于現(xiàn)有技術(shù)改 進的用于處理己成像的印版的裝置，該裝置可用簡單的方式給印版上 膠以產(chǎn)生一個上膠物質(zhì)覆蓋層。根據(jù)本專利技術(shù)，這些任務(wù)各自通過開頭所述類型的用于處理已成像 的印版的方法、通過開頭所述類型的可重復(fù)成像的印版以及通過開頭 所述類型的用于處理已成像的印版的裝置來解決。從下述技術(shù)方案、說明和附圖中得到本專利技術(shù)的有利的進一步構(gòu)型。根據(jù)本專利技術(shù)的一種，其中，在印版 的表面上涂覆液體狀態(tài)的上膠物質(zhì)，其特征在于在一個與直到平版 印刷的液體涂覆到表面上的時間段相比短的時間段之后使上膠物質(zhì) 去除或減少，直到留下一個覆蓋層。根據(jù)本專利技術(shù)，按照第一方案，將上膠物質(zhì)在涂覆之后不久再去除 或減少，其中，雖然去除所涂覆的上膠物質(zhì)層但不去除一個保留的納 米級的上膠物質(zhì)覆蓋層。但保留的覆蓋層以有利的方式足夠用于印版 的繼續(xù)處理該保留的覆蓋層充分地保護印版的已成像的表面以免污 染并且充分地改善已成像的區(qū)域與未成像的區(qū)域之間的對比度。通過 減少覆蓋層上的上膠物質(zhì)使開機廢頁顯著地降低并且由于可用兩親 分子重復(fù)覆蓋得到改善而使可重復(fù)使用性也得到改善。根據(jù)本專利技術(shù)的一種用于處理己成像的印版的方法，其中，在印版 的表面上涂覆液體狀態(tài)的上膠物質(zhì)，其特征在于將上膠物質(zhì)在仍為 液體的狀態(tài)下去除或減少，直到留下一個覆蓋層。根據(jù)本專利技術(shù)，按照第二方案，將上膠物質(zhì)在仍為液體的狀態(tài)下、 即還在干燥之前去除或減少，直到留下一個保留的納米級的上膠物質(zhì) 覆蓋層。這得到與上面針對第一方案所述的優(yōu)點相同的優(yōu)點。根據(jù)本專利技術(shù)的方法的在減少開機廢頁及可用兩親分子重復(fù)覆蓋 方面有利并且由此優(yōu)選的進一步構(gòu)型的特征可在于將上膠物質(zhì)直接 在涂覆之后去除或減少。在此意義下"直接"可意味著涂覆與去除 /減少之間的時間段相對于為新印刷任務(wù)準(zhǔn)備可重復(fù)使用的印版的總 時間段可忽略并且例如在計算裝調(diào)時間時無需考慮。根據(jù)本專利技術(shù)的方法的在簡單地并且化學(xué)上無問題地去除上膠物 質(zhì)方面有利并且由此優(yōu)選的另一個進一步構(gòu)型的特征可在于將上膠 物質(zhì)通過用VE水沖洗去除。根據(jù)本專利技術(shù)的方法的在所使用的裝置方面簡單并且因此有利且 優(yōu)選的另一個進一步構(gòu)型的特征可在于在使用一個合壓在印版的表 面上的涂覆輥的情況下來涂覆上膠物質(zhì)。根據(jù)本專利技術(shù)的方法的在用所使用的少量裝置進行簡單干燥方面 有利并且由此優(yōu)選的另一個進一步構(gòu)型的特征可在于通過在使用涂 覆輥的情況下滾壓來干燥上膠物質(zhì)。根據(jù)本專利技術(shù)的一種可重復(fù)成像的印版，具有一個通過成像結(jié)構(gòu)化 的表面及一個在圖像區(qū)域中的具有兩親分子或具有聚合物、尤其是糖 類的使表面化學(xué)官能化的納米級的覆蓋層，其特征在于設(shè)置有一個 在非圖像區(qū)域中的具有上膠物質(zhì)的納米級的覆蓋層。與現(xiàn)有技術(shù)的印版不同，根據(jù)本專利技術(shù)的印版不具有微米級厚度的 上膠物質(zhì)層，而僅具有一個納米級厚度的上膠物質(zhì)覆蓋層，但該納米 級厚度的上膠物質(zhì)覆蓋層可充分保護印版并且以有利的方式使得開 機廢頁很少并且使得可用兩親分子重復(fù)覆蓋得到改善。根據(jù)本專利技術(shù)的印版的在覆蓋層的小厚度(或小層厚)方面有利并 且由此優(yōu)選的一個進一步構(gòu)型的特征可在于設(shè)置有一個厚度小于約 100nm、尤其是小于約10nm的具有上膠物質(zhì)的覆蓋層。根據(jù)本專利技術(shù)的一種用于處理已成像的印版的裝置，該裝置具有一個輥，該輥以涂覆輥的功能將液體狀態(tài)的上膠物質(zhì)涂覆在印版的表面 上，其特征在于該輥以清潔輥的功能在一個與直到平版印刷的液體 涂覆到表面上的時間段相比短的時間段之后去除或減少上膠物質(zhì)，直 到留下一個覆蓋層。根據(jù)本專利技術(shù)的裝置包括一個可多功能地使用并且被多功能地使 用的輥，該輥不僅用于涂覆上膠物質(zhì)而且用于去除或減少上膠物質(zhì)。 該裝置可包括一個控制裝置，該控制裝置在涂覆充分之后關(guān)斷上膠物 質(zhì)的輸入并且保持所述輥繼續(xù)合壓在印版上一個預(yù)定的時間段，由此 通過該輥進行上膠物質(zhì)的去除/減少。在使用根據(jù)本專利技術(shù)的裝置時得到與上面針對本專利技術(shù)的方法己經(jīng) 描述的優(yōu)點相同的優(yōu)點。在本專利技術(shù)的范圍內(nèi)還可提出一種處理承印物的機器、尤其是用于 平版膠印的印刷機或處理頁張的輪轉(zhuǎn)印刷機，其特征在于設(shè)置有至 少一個如上針對本專利技術(shù)所描述的裝置。所述處理承印物的機器優(yōu)選涉及用于平版膠印、尤其是濕式膠印 的處理頁張的輪轉(zhuǎn)印刷機。所述承印物可涉及硬紙板、薄膜或優(yōu)選涉 及紙。所述印刷機可本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護點】
用于處理已成像的印版的方法，其中，在該印版的表面上涂覆（１３０）液體狀態(tài)的上膠物質(zhì)，其特征在于：在一個與直到平版印刷的液體涂覆到該表面上的時間段相比短的時間段之后使該上膠物質(zhì)減少（１４０），直到留下一個覆蓋層。

【技術(shù)特征摘要】
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【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：M帕祖赫，H格蘭特，M施勒霍爾茨，
申請(專利權(quán))人：海德堡印刷機械股份公司，
類型：發(fā)明
國別省市：DE[德國]