一種低輻射鍍膜玻璃制造技術

本實用新型專利技術提供一種低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基片和鍍膜層，鍍膜層自內向外依次包括：第一層TiOx、第二層：LaB6-AZO、第三層：Ag、第四層：NiCr、第五層：LaB6-AZO、第六層：Si3N4。本實用新型專利技術鍍膜玻璃具有以下優點：本鍍膜玻璃可見光透過率較高，透過率相對AZO可提高3～4%；在Low-E產品中，作為Ag的打底層與Ag的結合力更好；輻射率低；產品性能穩定，適于大規模生產，光學及熱學性能穩定。該玻璃具有良好的外觀顏色，膜層不易脫落。可夾層或合中空使用。（*該技術在2024年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】
一種低輻射鍍膜玻璃
本技術涉及一種鍍膜玻璃，更具體的涉及一種低輻射鍍膜玻璃。
技術介紹
目前，透明介質膜在大面積鍍膜玻璃中的應用十分廣泛。其中，陶瓷態氧化鋅鋁(AZO)由于濺射速率快，可使用純Ar進行濺射，濺射條件易控，可節省隔氣靶位且薄膜可見光透過高等優點而得到廣泛研究及應用。但是，陶瓷態AZO靶在安裝使用一段時間后，表面容易出現結瘤放電現象，嚴重影響了靶材的使用功率和壽命，同時也會造成鍍膜產品存在顏色波動的隱患。AZO膜層作為Ag的打底層容易脫膜。
技術實現思路
本技術的目的是針對現有技術的技術缺陷，本技術旨在提供一種低輻射鍍膜玻璃，為實現以上技術目標，本技術采用以下技術方案:一種摻雜硼化鑭AZO低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基片和鍍膜層，鍍膜層自內向外依次包括:第一層TiOx、第二層:LaB6_AZ0、弟二層:Ag、弟四層:NiCr、弟五層:LaB6_AZ0、弟/、層:Si3N4，弟二層Ag打底層是LaBg-AZO0進一步，所述的LaB6-AZO層采用真空磁控濺射法直接濺射摻入LaB6的氧化鋅鋁靶材，其中LaB6摻入量是2.5~10wt%。一種低輻射 鍍膜玻璃，第一層TiOx厚度為15~25nm、第二層:LaB6_AZ0厚度為20~30nm、第三層:Ag厚度為5~15nm、第四層:NiCr厚度I~5nm、第五層:LaB6_AZ0厚度15~25nm、第六層:SiNx厚度20~45nm。一種低輻射鍍膜玻璃的制備方法，包括如下步驟:(I)使用丙酮、無水乙醇和去離子水依次超聲清洗玻璃基片；(2)烘干；(3)放入真空腔室內進行抽真空；(4)達到真空度后充入1200sccm純Ar氣派射陶瓷氧化鈦祀材進行祀表清潔,5min后純氬濺射進行TiOx薄膜的制備；(5)達到厚度后關閉該靶，依次純氬進行靶表清潔和摻雜LaB6的AZO靶、Ag靶、NiCr靶和頂層LaB6的AZO膜層；(6)用純Ar進行靶表清潔，然后使用Ar =N2為1: 1.6的混合氣體濺射制備SiNx膜。本技術玻璃基片厚度包括:4、5、6、8、10、12、15、19mm。玻璃顏色包括:超白玻、白玻、綠玻、灰玻、水晶灰玻、藍玻、海洋藍玻、茶色玻璃等。玻璃結構包括:夾層玻璃、彩釉玻璃、鋼化玻璃、半鋼化玻璃、退火玻璃、防火玻璃、中空玻璃等。本技術鍍膜玻璃具有以下優點:1.本鍍膜產品可見光透過率較高，透過率相對AZO可提高3~4% ；2.該膜層表面更加平整，在Low-E產品中，作為Ag的打底層與Ag的結合力更好；3.該材料膜層的輻射率比未摻雜LaB6的AZO輻射率低；4.產品性能穩定，適于大規模生產，光學及熱學性能穩定。該玻璃具有良好的外觀顏色，膜層不易脫落等特點。可夾層或合中空使用。【附圖說明】圖1摻雜硼化鑭AZO低輻射鍍膜玻璃結構示意圖圖2玻面反射光譜圖3膜面反射光譜圖4透過光譜【具體實施方式】為了闡明本專利技術的技術方案及技術目的，下面結合附圖及【具體實施方式】對本專利技術做進一步的介紹。實施例1一種低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基片和鍍膜層，鍍膜層自內向外依次包括:第一層TiOx、第二層:LaB6-AZ0、第三層:Ag、第四層:NiCr、第五層:LaB6_AZ0、第六層=Si3N4，第二層Ag打底層是LaB6_AZ0。第一層TiOx厚度為20nm、第二層LaB6-AZO厚度為24nm、第三層Ag厚度為6nm、第四層NiCr厚度1.9nm、第五層LaB6-AZO厚度18nm、第六層SiNx厚度30nm。所述的LaB6-AZO層采用真空磁控濺射法直接濺射摻入LaB6的氧化鋅鋁靶材，其中LaB6摻入量是5wt%。實施例2一種低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基片和鍍膜層，鍍膜層自內向外依次包括:第一層TiOx、第二層:LaB6-AZ0、第三層:Ag、第四層:NiCr、第五層:LaB6_AZ0、第六層=Si3N4，第二層Ag打底層是LaB6_AZ0。第一層TiOx厚度為12nm、第二層LaB6-AZO厚度為30nm、第三層Ag厚度為15nm、第四層NiCr厚度3nm、第五層LaB6-AZO厚度25nm、第六層SiNx厚度20nm。[0031 ] 所述的LaB6-AZO層采用真空磁控濺射法直接濺射摻入LaB6的氧化鋅鋁靶材，其中LaB6摻入量是10wt%。實施例3一種低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基片和鍍膜層，鍍膜層自內向外依次包括:第一層TiOx、第二層:LaB6-AZ0、第三層:Ag、第四層:NiCr、第五層:LaB6_AZ0、第六層=Si3N4，第二層Ag打底層是LaB6_AZ0。第一層TiOx厚度為25nm、第二層LaB6-AZO厚度為20nm、第三層Ag厚度為10nm、第四層NiCr厚度5nm、第五層LaB6-AZO厚度15nm、第六層SiNx厚度45nm。所述的LaB6-AZO層采用真空磁控濺射法直接濺射摻入LaB6的氧化鋅鋁靶材，其中LaB6摻入量是2.5wt%。實施例4上述鍍膜玻璃的制備過程為:(I)使用丙酮、無水乙醇和去離子水依次超聲清洗玻璃基片；(2)烘干；(3)放入真空腔室內進行抽真空；(4)達到真空度后充入1200sccm純Ar氣派射陶瓷氧化鈦祀材進行祀表清潔,5min后純氬濺射進行TiOx薄膜的制備；(5)達到厚度后關閉該靶，依次純氬進行靶表清潔和摻雜LaB6的AZO靶、Ag靶、NiCr靶和頂層LaB6的AZO膜層；(6)用純Ar進行靶表清潔，然后使用Ar =N2為1: 1.6的混合氣體濺射制備SiNx膜。實施例5如附圖2-4所示:實施例1的鍍膜玻璃的的光譜圖。玻面反射Rg:4.54,玻面亮度L*g:61.04,膜面顏色值a*g: 1.83、b*g:_l.86。上述顏色為最優顏色，實際各項可以偏差0.8。膜面反射Rf: 6.34，膜面亮度L*f:30.25，膜面顏色值84、b*f:9.58。上述顏色為最優顏色，實際各項可以偏差0.8。玻璃透過Τ:77.29,透過亮度L*t:90.45,顏色坐標a*t:_l.7,b*t:_2.04。上述顏色為最優顏色，實際各項可以偏差0.8。以上對本專利技術的實施例進行了詳細說明，但所述內容僅為本專利技術的較佳實施例，并不用以限制本專利技術。凡在本專利技術的申請范圍內所做的任何修改、等同替換和改進等，均應包含在本專利技術的保護范圍之內。本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，包括玻璃基片和鍍膜層，鍍膜層自內向外依次包括：第一層：TiOx、第二層：LaB6?AZO、第三層：Ag、第四層：NiCr、第五層：LaB6?AZO、第六層：Si3N4。

【技術特征摘要】
1.一種低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，包括玻璃基片和鍍膜層，鍍膜層自內向外依次包括:弟一層:TiOx、j^5二層:LaB6_AZ0、弟二層:Ag、弟四層:NiCr、弟五層:LaB6_AZ0、弟/、層:Si3N4。2.根據權利要求1所述一種低輻射鍍膜玻璃，其特征在于:第一層TiOx厚度為15~25nm、第二層:LaB6_AZ0厚度為20~30nm、第三層-.Ag厚度為5~15n...

【專利技術屬性】
技術研發人員：王勇，胡冰，劉雙，王爍，
申請(專利權)人：天津南玻節能玻璃有限公司，天津南玻工程玻璃有限公司，中國南玻集團股份有限公司，
類型：新型
國別省市：天津;12