波長片消光曲線測量裝置制造方法及圖紙

一種波長片消光曲線測量裝置，它包括暗箱，置于暗箱內的光源，在暗箱內，在光源發射光束前進的方向上依次置有起偏器，置放待測波長片的中心帶有轉臺通光孔的旋轉載物臺，檢偏器，置放檢偏器的中心帶有轉架通光孔的旋轉支架，接收器，置于暗箱外的輸入端與接收器輸出端相連接的信號處理器。本實用新型專利技術結構簡單，操作方便，能夠在線測量多種波長片的消光曲線，即能夠在線控制多種波長片的加工厚度，測量誤差＜0.001nm。（*該技術在2024年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】
波長片消光曲線測量裝置
本技術涉及一種消光曲線測量裝置，具體的是涉及一種波長片消光曲線測量>J-U ρ?α裝直。
技術介紹
波長片(簡稱波片)作為光學相位延遲器件是現代偏振光學和激光應用技術中應用的最為廣泛的器件之一。而作為波長片所要求的質量很高。如要求平行度誤差在1-2的范圍內，厚度的公差<0.3微米。這就要求在制作加工時，嚴格地控制其加工厚度。為了測量波長片的相位延遲特性，以此在加工時，控制波長片的加工厚度，需要較精密的測量裝置。
技術實現思路
本技術的目的是提供一種波長片消光曲線測量裝置，可較精密地測量波長片的相位延遲特性，并以此控制其加工厚度，具有結構簡單，操作方便等特點。為達到上述目的，本技術的技術方案是: 一種波長片消光曲線測量裝置，它包括暗箱，置于暗箱內的光源，在暗箱內，在光源發射光束前進的方向上依次置有起偏器，置放待測波長片的中心帶有轉臺通光孔的旋轉載物臺，檢偏器，置放檢偏器的中心帶有轉架通光孔的旋轉支架，接收器，置于暗箱外的輸入端與接收器輸出端相連接的信號處理器。進一步，所述接收器是光電接收器。又，所述信號處理器是計算機。另外，本技術所述信號處理器是計算機及連接的打印機。如上述本技術的結構，開始測量時，調節檢偏器的旋轉支架使檢偏器與起偏器的偏振軸調至平行狀態，此時，信號處理器從接收器的輸出接收到光譜透過的最大值。假如，選用的測量光譜(光源發射光譜)是1064nm，待測波長片是1064nml/2波長片，當待測波長片置放在旋轉載物臺上，旋轉旋轉載物臺使光譜透過達到最小值(上述操作過程均在暗箱內進行)。則在信號處理器上可以掃描出一組消光曲線。在該消光曲線上可找到測量點。因為上述選用的測量光譜是1064鹽，所以，只有1064nm這個消光點是測量點。如果消光曲線的低谷落在1065nm的位置上，說明待測波長片的精度誤差為lnm。它的延遲精度為1/1064。通常對于λ/300 (λ為I個波長)的延遲精度，只允許有3nm。如果，超出這個誤差，就要繼續對待測波長片進行研磨，直到合格為止。本技術的優點在于:如上述本技術的結構，其結構簡單，操作方便。因為操作方便，所以能夠在加工波長片時，在線測量該波長片的消光曲線，也就能夠在線控制加工波長片的厚度。如上述本技術的結構能夠測量多種波長片的消光曲線，如全波長片、1/4波長片、1/2波長片的消光曲線。因此，也就能夠以測得的這些波長片的消光曲線控制所有這些波長片的加工 厚度。測量誤差< 0.0Olnm。【附圖說明】圖1是本技術波長片消光曲線測量裝置的結構示意圖。【具體實施方式】下面結合附圖進一步說明本技術消光曲線測量裝置的結構特征。如圖1所示，本技術的消光曲線測量裝置，它包括暗箱11，置于暗箱11內的光源1，在暗箱11內，在光源I發射光束前進的方向上依次置有起偏器2，置放待測波長片3的中心帶有轉臺通光孔10的旋轉載物臺4，檢偏器5，置放檢偏器5的中心帶有轉架通光孔9的旋轉支架6，接收器7，置于暗箱11外的輸入端與接收器7輸出端相連接的信號處理器8。所述接收器7是光電接收器。在本實施例中，所述接收器7接收的波長為193nm_2500nm。所述信號處理器8是計算機。或者所述信號處理器8是計算機及連接的打印機。本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種波長片消光曲線測量裝置，其特征至于，它包括暗箱，置于暗箱內的光源，在暗箱內，在光源發射光束前進的方向上依次置有起偏器，置放待測波長片的中心帶有轉臺通光孔的旋轉載物臺，檢偏器，置放檢偏器的中心帶有轉架通光孔的旋轉支架，接收器，置于暗箱外的輸入端與接收器輸出端相連接的信號處理器。

【技術特征摘要】
1.一種波長片消光曲線測量裝置，其特征至于，它包括暗箱，置于暗箱內的光源，在暗箱內，在光源發射光束前進的方向上依次置有起偏器，置放待測波長片的中心帶有轉臺通光孔的旋轉載物臺，檢偏器，置放檢偏器的中心帶有轉架通光孔的旋轉支架，接收器，置于暗箱外的輸入端與接收器輸出端相連接的信...

【專利技術屬性】
技術研發人員：鄭連生，
申請(專利權)人：上海聯能光子技術有限公司，
類型：新型
國別省市：上海;31