抗蝕劑用聚合物以及含有該聚合物的抗蝕劑組合物制造技術

本發(fā)明專利技術提供一種抗蝕劑用聚合物以及含有該聚合物的抗蝕劑組合物，其為含有羥基的金剛烷基(甲基)丙烯酸酯的均聚物，上述均聚物中羥基部分或全部被縮醛基取代，利用光刻技術形成圖案時，特別是，通過NPD方式形成圖案時，可以防止厚度損失，同時防止厚度損失所帶來的抗蝕劑的抗蝕刻性降低，從而形成具有優(yōu)異的感光度和分辨率的微細抗蝕劑圖案而有用，且具有優(yōu)異的對比度改善效果。

【技術實現(xiàn)步驟摘要】
抗蝕劑用聚合物以及含有該聚合物的抗蝕劑組合物
本專利技術涉及利用光刻技術形成圖案而有用的抗蝕劑用聚合物以及含有該聚合物的抗蝕劑組合物。
技術介紹
近來，光刻(lithography)技術正在積極進行采用ArF浸沒式光刻技術(immersion)的大批量制造(HVM、high volumn manufacturing),主要進行實現(xiàn) 50nm 以下線寬的技術開發(fā)。特別是，作為用于實現(xiàn)30nm線寬的接觸孔(contact hole)圖案的方法，正在積極進行反轉(zhuǎn)顯影(NTD、negative-tone development)研究。反轉(zhuǎn)顯影(NTD、negative-tone development)是為了印刷臨界暗場層,通過光掩模(bright fileld mask)得到優(yōu)良的圖像品質(zhì)的圖像反轉(zhuǎn)技術。NTD抗蝕劑通常利用含有酸不穩(wěn)定性基團(acid-labile group)和光酸發(fā)生劑(photoacid generator)的樹脂。NTD抗蝕劑在光化福射(actinic radiation)下曝光,則光酸發(fā)生劑形成酸,曝光后烘焙期間該酸阻斷酸不穩(wěn)定性基團，因此導致曝光區(qū)域的極性轉(zhuǎn)換。其結(jié)果，抗蝕劑的曝光區(qū)域與未曝光區(qū)域之間溶解度存在差異，抗蝕劑未曝光區(qū)域被特定有機顯像劑如酮類、酯類或者醚類有機顯影劑消除，因此，保留了由于不溶性曝光區(qū)域而生成的圖案。由于這種特定的作用機理，將常規(guī)的193nm光致抗蝕劑適用于NTD抗蝕劑的情況，會引發(fā)特定的問題。作為其一例，顯影后的光致抗蝕劑圖案，相比于曝光前抗蝕劑層，其厚度損失很多，因而，在后續(xù)蝕刻的時候，抗蝕劑圖案的一部分完全被蝕刻掉，導致圖案缺陷。如上所述的厚度損失，是通過常規(guī)使用的大體積的酸不穩(wěn)定性基團，例如大型的三級酯基，從抗蝕劑層切斷而損失所引起的。為了極性轉(zhuǎn)換，就只需要如上大體積的酸不穩(wěn)定性基團的常規(guī)193nm光致抗蝕劑而言，厚度損失因如上基團的高含量而更加嚴重。為了解決上述問題，若使用更厚的抗蝕劑層，則有可能發(fā)生圖案龜裂以及焦點減少等其他問題，因此并非實際意義的解決方案。另外，在NTD使用典型的193nm光致抗蝕劑的情況所發(fā)生的圖案龜裂，由于從(甲基)丙烯酸酯的基礎聚合物，特別是單獨參與極性轉(zhuǎn)換的特定酸不穩(wěn)定性基團，例如，切斷叔烷基酯以及縮醛離去基團后，光致抗蝕劑的曝光區(qū)域所產(chǎn)生的相對大量的(甲基)丙烯酸單元，導致問題更惡化。此外，為了極性轉(zhuǎn)換而單獨依賴在上述極性較大的酸不穩(wěn)定性基團的這種常規(guī)光致抗蝕劑用于NTD的情況，存在另一種問題是抗蝕刻性降低。因此，正在積極進行解決上述問題的研究。在先技術文獻專利文獻專利文獻1:韓國特許公開第2012-0026991號(2012.03.20公開)專利文獻2:韓國特許公開第2012-0061757號(2012.06.13公開)專利文獻3:韓國特許公開第2012-0078672號(2012.07.10公開)專利文獻4:韓國特許公開第2012-0098540號(2012.09.05公開)專利文獻5:韓國特許公開第2012-0101618號(2012.09.14公開)專利文獻6:韓國特許公開第2012-0114168號(2012.10.16公開)
技術實現(xiàn)思路
專利技術要解決的課題本專利技術的目的在于提供一種抗蝕劑用聚合物，利用光刻技術形成圖案時，特別是，通過Nro方式形成圖案時，防止厚度減少以及抗蝕劑的抗蝕刻性低下，從而形成具有優(yōu)異的感光度、分辨率以及對比度的抗蝕圖案而有用。本專利技術的另一目的在于提供含有上述聚合物的抗蝕劑組合物。為了實現(xiàn)上述目的，根據(jù)本專利技術的一實施例，提供一種抗蝕劑用聚合物，其為含有羥基的金剛烷基(甲基)丙烯酸酯的均聚物，上述均聚物中羥基部分或全部被縮醛基(acetal group)取代。優(yōu)選上述抗蝕劑用聚合物具有下述化學式I的結(jié)構:[化學式I]本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術保護點】
一種抗蝕劑用聚合物，其為含有羥基的金剛烷基(甲基)丙烯酸酯的均聚物，上述均聚物中羥基部分或全部被縮醛基取代。

【技術特征摘要】
2013.02.22 KR 10-2013-00191861.一種抗蝕劑用聚合物，其為含有羥基的金剛烷基(甲基)丙烯酸酯的均聚物，上述均聚物中羥基部分或全部被縮醛基取代。2.根據(jù)權利要求1所述的抗蝕劑用聚合物，其中， 上述抗蝕劑用聚合物具有下述化學式I的結(jié)構: [化學式I] 3.根據(jù)權利要求1所述的抗蝕劑用聚合物，其中， 上述抗蝕劑用聚合物選自由下述化學式Ia至Ie的化合物所組成的組中， 4.根據(jù)權利要求1所述的抗蝕劑用聚合物，其中， 上述抗蝕劑用聚合物通過凝膠滲透色譜法(gel permeation chromatography:GPC)聚苯乙烯換算的重均分子量為1000~100000g/mol。5.根據(jù)權利要求1所述的抗蝕劑用聚合物，其中， 上述抗蝕劑用聚合物的分子量分布，即重均分子量與...

【專利技術屬性】
技術研發(fā)人員：朱炫相，金三珉，裴昌完，任鉉淳，
申請(專利權)人：錦湖石油化學株式會社，
類型：發(fā)明
國別省市：韓國;KR