本發明專利技術公開一種用于熱輔助磁頭滑動塊的寫部分，包括：面向磁記錄媒介的空氣承載面；具有媒介面向表面的寫元件；波導路，用于引導由安裝于熱輔助磁頭滑動塊的襯底之上的光源模塊產生的光；及設置于所述寫元件附近的等離子體激元單元，所述等離子體激元單元具有一近場光產生表面以傳播近場光至所述空氣承載面。其中，僅有所述寫元件的媒介面向表面上覆蓋有碳層。本發明專利技術不僅能防止寫部分中的腐蝕性元件被腐蝕，防止寫元件磨損，而且可保持等離子體激元單元的熱穩定性。本發明專利技術還公開了熱輔助磁頭滑動塊、磁頭折片組合、硬盤驅動器及制造方法。
【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及一種硬盤驅動器(hard disk drive, HDD),尤其涉及一種寫部分、熱輔助磁頭滑動塊以及具有該熱輔助磁頭滑動塊的磁頭折片組合(head gimbalassembly, HGA)及硬盤驅動器，以及該寫部分和熱輔助磁頭滑動塊的制造方法。
技術介紹
硬盤驅動器是常見的信息存儲設備。圖1a為一典型硬盤驅動器100的示意圖。其包括安裝于一主軸馬達102上的一系列可旋轉磁盤101，以及繞驅動臂軸105旋轉用以存取磁盤上的數據的磁頭懸臂組合(head stack assembly,HSA) 130。該HSA130包括至少一驅動臂104及HGA150。典型地，還包括一主軸音圈馬達(圖未示)以控制在驅動臂104的運動。參考圖lb，該HGA150包括具有熱輔助磁頭110的熱輔助磁頭滑動塊103，以及用于支撐該磁頭滑動塊103的懸臂件190。該懸臂件190包括負載桿106、基板108、絞接件107以及撓性件109，以上元件均裝配在一起。在熱輔助磁頭滑動塊103的極尖上埋植一寫傳感器和讀傳感器(圖未示)以讀取或寫入數據。當磁盤驅動器運作時，主軸馬達102使得磁盤101高速旋轉,而熱輔助磁頭滑動塊103因磁盤101旋轉而產生的氣壓而在磁盤101上方飛行。該熱輔助磁頭滑動塊103在音圈馬達的控制下，在磁盤101的表面以半徑方向移動。對于不同的磁軌，熱輔助磁頭滑動塊103能夠從磁盤表面上讀取數據或將數據寫進磁盤101。請參考圖lc，該熱輔助磁頭滑動塊103包括具有空氣承載面(airbearingsurface, ABS) 1032的襯底1031以及形成在該襯底1031上的熱輔助磁頭110。該熱輔助磁頭110包括具有寫元件123的寫部分121以及具有讀元件124的讀部分122。一熱能源111安裝在襯底1031上用以向熱輔助磁頭110提供熱能，該熱能源111可以是位于寫部分121附近的激光二極管。傳統地，該熱能源111可通過焊球連接在襯底1031上。該熱能源111向磁記錄媒介的一部分提供能量，從而降低該部分的矯頑力。之后，通過在受熱的部分施加寫磁場從而便于進行寫操作。通常，該熱輔助磁頭110還包括一波導路125以及位于寫元件123附近的一等離子體激元天線(plasmon antenna, PA)或等離子體激元發生器(plasmon generator, PG) 127。該波導路125通過PG127的表面將激光至ABS1032上，從而提供近場光。這種提供近場光的方式有別于直接在元件上照射激光而產生近場光的方式。例如美國公開專利N0.2010/0103553A1已公開此種PG和波導路。傳統地，為了防止讀部分122和寫部分121漏磁或被外界環境影響，通常會在上述提及的所有元件的頂面覆蓋一表層(例如由類金剛碳(diamond-1 ikecarbon,DLC)制成),從而形成ABS1032。然而，在熱輔助磁頭滑動塊103的寫操作過程中，此種DLC層無法經受高溫，DLC層會強烈吸收PG127傳播的近場光，嚴重者，DLC層會因受熱過度而消熔。因此，目前在熱輔助磁頭滑動塊中，此種DLC層已被具有低消光系數(低光吸收系數)的層體131取代，此種層體131采用的材料例如是SiOx, SiNx, SiOxNy, TaOx, TaNx, TaOxNy,氫化非晶碳等。此層體131覆蓋在上述元件的媒體面向表面上從而形成ABS1032，從而為寫操作帶來較好的熱穩定性。然而，由于除了 PG127之外，由腐蝕性材料制成的寫元件123、波導路125和讀元件124的媒介面向表面均被由氧化物材料制成的層體131覆蓋，而且該層體131相較DLC層而言具有較差的阻氧能力，因此這些寫元件123、波導路125和讀元件124等腐蝕性元件會被入侵的氧氣所腐蝕。再且，由氧化物材料制成的層體131的硬度較DLC層小，因此在多次讀寫操作時意外接觸媒介表面，會發生磨損，因此不適宜長期使用。因此，亟待一種改進的寫部分、熱輔助磁頭滑動塊、HGA、HDD以及寫部分和熱輔助磁頭滑動塊的制造方法，以克服上述缺陷。
技術實現思路
本專利技術的目的之一在于提供一種用于熱輔助磁頭滑動塊的寫部分，其不僅能防止寫部分中的腐蝕性元件被腐蝕，防止寫元件磨損，而且可保持等離子體激元單元的熱穩定性。本專利技術的另一目的在于提供一種熱輔助磁頭滑動塊，其不僅能防止寫部分中的腐蝕性元件被腐蝕，防止寫元件磨損，而且可保持等離子體激元單元的熱穩定性。本專利技術的又一目的在于提供一種具有熱輔助磁頭滑動塊的HGA，其不僅能防止寫部分中的腐蝕性元件被腐蝕，防止寫元件磨損，而且可保持等離子體激元單元的熱穩定性。本專利技術的又一目的在于提供一種具有熱輔助磁頭滑動塊的HDD，其不僅能防止寫部分中的腐蝕性元件被腐蝕，防止寫元件磨損，而且可保持等離子體激元單元的熱穩定性。本專利技術的再一目的在于提供一種用于熱輔助磁頭滑動塊的寫部分的制造方法，其不僅能防止寫部分中的腐蝕性元件被腐蝕，防止寫元件磨損，而且可保持等離子體激元單元的熱穩定性。本專利技術的再一目的在于提供一種熱輔助磁頭滑動塊的制造方法，其不僅能防止寫部分中的腐蝕性元件被腐蝕，防止寫元件磨損，而且可保持等離子體激元單元的熱穩定性。為實現上述目的，本專利技術提供一種用于熱輔助磁頭滑動塊的寫部分，包括:面向磁記錄媒介的空氣承載面；具有媒介面向表面的寫元件；波導路，用于引導由安裝于熱輔助磁頭滑動塊的襯底之上的光源模塊產生的光；及設置于所述寫元件附近的等離子體激元單元，所述等離子體激元單元具有一近場光產生表面以傳播近場光至所述空氣承載面。其中，僅有所述寫元件的媒介面向表面上覆蓋有碳層。作為一個優選實施例，所述等離子體激元單元的近場光產生表面上覆蓋有低光吸收層。較佳地,所述低光吸收層包括以下一種或多種材料:Ta0x, SiOx, AlOx, WOx, BCxNy,AlNx, SiNx, AlOxNy, SiOxNy, TiOx, MgOx, ZrOx, ZrOxNy, YOx, NbOx,以及 GaNx0作為一個優選實施例，所述低光吸收層延伸至覆蓋于所述碳層的表面以及波導路的媒介面向表面上。可選地，所述碳層由碳化物或類金剛碳制成。本專利技術提供一種熱輔助磁頭滑動塊，包括襯底，所述襯底具有光源模塊以及面向磁記錄媒介表面的空氣承載面；讀部分，所述讀部分具有讀元件；寫部分，所述寫部分包括具有媒介面向表面的寫元件、用于引導由所述光源模塊產生的光的波導路，以及設置于所述寫元件附近的等離子體激元單元，所述等離子體激元單元具有一近場光產生表面以傳播近場光至所述空氣承載面。其中，在所述寫部分中，僅有所述寫元件的媒介面向表面上覆蓋有第一碳層。作為一個優選實施例，在所述讀元件的媒介面向表面上覆蓋有第二碳層。作為另一優選實施例，所述等離子體激元單元的近場光產生表面上覆蓋有第一低光吸收層。較佳地，所述第一低光吸收層延伸至覆蓋于所述第一碳層和所述第二碳層的表面以及波導路的媒介面向表面上。較佳地，所述第一碳層的表面上、所述波導路和所述讀元件的媒介面向表面上覆蓋有第二低光吸收層。本專利技術提供一種HGA，包括熱輔助磁頭滑動塊及支撐所述熱輔助磁頭滑動塊的懸臂件。所述熱輔助磁頭滑動塊包括具有光源模塊以及面向磁記錄媒介表面的空本文檔來自技高網...
【技術保護點】
一種用于熱輔助磁頭滑動塊的寫部分，包括：面向磁記錄媒介的空氣承載面；具有媒介面向表面的寫元件；波導路，用于引導由安裝于熱輔助磁頭滑動塊的襯底之上的光源模塊產生的光；及設置于所述寫元件附近的等離子體激元單元，所述等離子體激元單元具有一近場光產生表面以傳播近場光至所述空氣承載面；其特征在于：僅有所述寫元件的媒介面向表面上覆蓋有碳層。
【技術特征摘要】
1.一種用于熱輔助磁頭滑動塊的寫部分，包括: 面向磁記錄媒介的空氣承載面； 具有媒介面向表面的寫元件； 波導路，用于引導由安裝于熱輔助磁頭滑動塊的襯底之上的光源模塊產生的光；及 設置于所述寫元件附近的等離子體激元單元，所述等離子體激元單元具有一近場光產生表面以傳播近場光至所述空氣承載面； 其特征在于:僅有所述寫元件的媒介面向表面上覆蓋有碳層。2.如權利要求1所述的寫部分，其特征在于:所述等離子體激元單元的近場光產生表面上覆蓋有低光吸收層。3.如權利要求2所述的寫部分，其特征在于:所述低光吸收層包括以下一種或多種材 14:TaOx, SiOx, AlOx, WOx, BCxNy, AlNx, SiNx, AlOxNy, SiOxNy, TiOx, MgOx, ZrOx,ZrOxNy, YOx, NbOx,以及 GaNx。4.如權利要求2所述的寫部分，其特征在于:所述低光吸收層延伸至覆蓋于所述碳層的表面以及波導路的媒介面向表面上。5.如權利要求1所述的寫部分，其特征在于:所述碳層由碳化物或類金剛碳制成。6.如權利要求1所述的 寫部分，其特征在于:所述寫元件包括第一磁極、第二磁極以及層夾于所述第一磁極和第二磁極之間的線圈。7.一種熱輔助磁頭滑動塊，包括: 襯底，所述襯底具有光源模塊以及面向磁記錄媒介表面的空氣承載面； 讀部分，所述讀部分具有讀元件； 寫部分，所述寫部分包括具有媒介面向表面的寫元件、用于引導由所述光源模塊產生的光的波導路，以及設置于所述寫元件附近的等離子體激元單元，所述等離子體激元單元具有一近場光產生表面以傳播近場光至所述空氣承載面； 其特征在于:在所述寫部分中，僅有所述寫元件的媒介面向表面上覆蓋有第一碳層。8.如權利要求7所述的熱輔助磁頭滑動塊，其特征在于:在所述讀元件的媒介面向表面上覆蓋有第二碳層。9.如權利要求7所述的熱輔助磁頭滑動塊，其特征在于:所述等離子體激元單元的近場光產生表面上覆蓋有第一低光吸收層。10.如權利要求9所述的熱輔助磁頭滑動塊，其特征在于:所述第一低光吸收層延伸至覆蓋于所述第一碳層和所述第二碳層的表面以及波導路的媒介面向表面上。11.如權利要求7所述的熱輔助磁頭滑動塊，其特征在于:所述第一碳層的表面上、所述波導路和所述讀元件的媒介面向表面上覆蓋有第二低光吸收層。12.一種磁頭折片組合，包括熱輔助磁頭滑動塊及支撐所述熱輔助磁頭滑動塊的懸臂件，所述熱輔助磁頭滑動塊包括具有光源模塊以及面向磁記錄媒介表面的空氣承載面的襯底，具有讀元件的讀部分以及寫部分，所述寫部分包括具有媒介面...
【專利技術屬性】
技術研發人員：西島夏夫，李東升，
申請(專利權)人：新科實業有限公司，
類型：發明
國別省市：中國香港;81
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