本發明專利技術涉及如說明書中所定義的式I的新型取代三唑類和咪唑類化合物及其N-氧化物和鹽，其制備以及制備它們的中間體。本發明專利技術還涉及這些化合物在防治有害真菌中的用途以及涂有至少一種該化合物的種子，還涉及包含至少一種該化合物的組合物。
【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】
【技術保護點】
式I化合物及其N?氧化物和可農用鹽：其中：為C3?C7環烷基或飽和非芳族5、6員雜環，其中該雜環含有1、2、3或4個選自O、N和S的雜原子作為環成員；A為CH或N；D為H、鹵素或SRD，其中RD為氫、C1?C6烷基、C1?C6鹵代烷基、C2?C6鏈烯基、C2?C6鹵代鏈烯基、C2?C6炔基、C2?C6鹵代炔基或CN；R3獨立地選自鹵素、CN、NO2、OH、SH、C1?C6烷基、C1?C6烷氧基、C2?C6鏈烯基、C2?C6炔基、C3?C8環烷基、C3?C8環烷氧基、NH2、NH(C1?C4烷基)、N(C1?C4烷基)2、NH(C3?C6環烷基)、N(C3?C6環烷基)2、S(O)p(C1?C4烷基)、C(＝O)(C1?C4烷基)、C(＝O)(OH)、C(＝O)(O?C1?C4烷基)、C(＝O)(NH(C1?C4烷基))、C(＝O)(N(C1?C4烷基)2)、C(＝O)(NH(C3?C6環烷基))和C(＝O)?(N(C3?C6環烷基)2)；其中R3各自未被取代或被1、2、3或4個R3a進一步取代；其中R3a獨立地選自鹵素、CN、NO2、OH、C1?C4烷基、C1?C4鹵代烷基、C3?C8環烷基、C3?C8鹵代環烷基、C1?C4烷氧基和C1?C4鹵代烷氧基；n為0、1、2、3或4；Y為直接鍵或選自?O?、?S?、SO?、?SO2?、?NH?、?N(C1?C4烷基)?、CR15R8?、?CR9R10?CR11R12?、?CR13＝CR14和?C≡C?的二價基團；其中R8、R9、R10、R11、R12、R13、R14、R15獨立地選自氫、鹵素、CN、硝基、OH、C1?C4烷基、C1?C4鹵代烷基、C1?C4烷氧基和C1?C4鹵代烷氧基；Z為5或6員雜芳基，其中雜芳基含有1、2、3或4個選自O、N和S的雜原子，或者苯基，其中雜芳基或苯基未被取代(m＝0)或被(R4)m取代，其中m為0、1、2、3、4或5；R4獨立地選自鹵素、CN、NO2、OH、SH、C1?C6烷基、C1?C6烷氧基、C2?C6鏈烯基、C2?C6炔基、C3?C8環烷基、C3?C8環烷氧基、NH2、NH(C1?C4烷基)、N(C1?C4烷基)2、NH(C3?C6環烷基)、N(C3?C6環烷基)2、S(O)p(C1?C4烷基)、C(＝O)(C1?C4烷基)、C(＝O)(OH)、C(＝O)(O?C1?C4烷基)、C(＝O)(NH(C1?C4烷基))、C(＝O)(N(C1?C4烷基)2)、C(＝O)(NH(C3?C6環烷基))和C(＝O)?(N(C3?C6環烷基)2)；其中R4各自未被取代或被1、2、3或4個R4a進一步取代；其中R4a獨立地選自鹵素、CN、NO2、OH、C1?C4烷基、C1?C4鹵代烷基、C3?C8環烷基、C3?C8鹵代環烷基、C1?C4烷氧基和C1?C4鹵代烷氧基；p為0、1或2；x為0、1、2、3或4；R5為H、鹵素、CN、NO2、OH、SH、C1?C6烷基、C1?C6烷氧基、C1?C6烷硫基、C1?C6烷基亞磺?；1?C6烷基磺?；?、C2?C6鏈烯基、C2?C6鏈烯氧基、C2?C6炔基、C2?C6炔氧基、C3?C8環烷基、C3?C8環烷氧基、C3?C8環烷基?C1?C4烷基、NH2、NH(C1?C4烷基)、N(C1?C4烷基)2、NH(C3?C6環烷基)、N(C3?C6環烷基)2、C(＝O)?C1?C4烷基、C(＝O)OH、C(＝O)?O?C1?C4烷基、C(＝O)?NH(C1?C4烷基)、C(＝O)?N(C1?C4烷基)2、C(＝O)?NH(C3?C6環烷基)、C(＝O)?N(C3?C6環烷基)2、苯基、雜芳基、苯基?C1?C4烷基和雜芳基?C1?C4烷基，其中后提到的基團中的雜芳基為5或6員的且其中R5的脂族、脂環族和芳族結構部分未被取代或被1、2、3或4個或至多最大可能數目的R5a取代；其中R5a獨立地選自鹵素、CN、NO2、OH、SH、NH2、C1?C6烷基、C1?C6鹵代烷基、C3?C8環烷基、C3?C8鹵代環烷基、C1?C6烷氧基、C1?C6鹵代烷氧基、C1?C6烷硫基、C1?C6鹵代烷硫基和C1?C4烷氧基?C1?C4烷基；R6為H或選自對R5所定義的取代基，其中R6的脂族、脂環族和芳族結構部分未被取代或被1、2、3或4個或至多最大可能數目的R6a取代，其中R6a如對R5a所定義；o為0、1、2、3或4；R7獨立地選自C1?C6烷基、C2?C6鏈烯基、C2?C6炔基、C3?C8環烷基，其中R7各自未被取代或被1、2、3或4個R7a進一步取代；其中R7a獨立地選自鹵素、OH和C1?C6烷氧基；或者兩個取代基R7：R71和R71與它們所鍵合的碳原子一起形成飽和3、4、5、6或7員碳環或雜環，其中該雜環含有1、2、3或4個O原子；條件是若x為0...
【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】...
【專利技術屬性】
技術研發人員：W·格拉梅諾斯，I·R·克雷格，N·布戴，B·穆勒，J·迪茨，E·M·W·勞特瓦瑟爾，J·K·洛曼，T·格羅特，E·哈登，A·埃斯克里巴諾奎斯塔，
申請(專利權)人：巴斯夫歐洲公司，
類型：發明
國別省市：德國;DE
還沒有人留言評論。發表了對其他瀏覽者有用的留言會獲得科技券。