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    傅立葉變換紅外光譜儀制造技術

    技術編號:13303790 閱讀:85 留言:0更新日期:2016-07-09 20:47
    本實用新型專利技術屬于檢測儀器技術領域,尤其涉及一種傅立葉變換紅外光譜儀,所述檢測倉內設有下支撐桿,所述下支撐桿水平設置,所述下支撐桿上表面設有第一下支撐柱、第二下支撐柱,所述第一下支撐柱上表面設有第一下限位柱,所述第二下支撐柱上表面設有第二下限位柱,所述上蓋下底面設有上支撐桿,所述上支撐桿下底面設有第一上支撐柱、第二上支撐柱,所述第一上支撐柱下底面設有第一上限位柱,所述第二上支撐柱下底面設有第二上限位柱,所述上支撐桿、下支撐桿之間設有集成電路板,所述集成電路板設有第一限位槽、第二限位槽,所述第一上限位柱、第一下限位柱位于第一限位槽內,所述第二上限位柱、第二下限位柱位于第二限位槽內。

    【技術實現步驟摘要】

    本技術屬于檢測儀器
    ,尤其涉及一種傅立葉變換紅外光譜儀
    技術介紹
    傅立葉變換紅外光譜是利用邁克爾遜干涉儀將檢測光(紅外光)分成兩束,在動鏡和定鏡上反射回分束器上,這兩束光是寬帶的相干光,會發(fā)生干涉。相干的紅外光照射到樣品上,經檢測器采集,獲得含有樣品信息的紅外干涉圖數據,經過計算機對數據進行傅立葉變換后,得到樣品的紅外光譜圖。傅立葉變換紅外光譜具有掃描速率快,分辨率高,穩(wěn)定的可重復性等特點,目前被廣泛使用。目前實際使用的光譜儀,控制電路板緊貼殼體設置,使電路板只能一面散熱,散熱效果不佳。
    技術實現思路
    本技術提供一種傅立葉變換紅外光譜儀,以解決上述
    技術介紹
    中提出的電路板散熱不佳的問題。本技術所解決的技術問題采用以下技術方案來實現:一種傅立葉變換紅外光譜儀,其特征在于:包括底殼、上蓋,所述底殼的上表面設有定位凸起,所述上蓋的下底面設有與定位凸起相配合的定位凹槽,所述底殼內設有隔斷,所述隔斷水平設置,所述隔斷下方設有樣品倉,所述隔斷上方設有檢測倉,所述樣品倉底部設有樣品支座,所述樣品支座上設有樣品支架,所述檢測倉內設有下支撐桿,所述下支撐桿水平設置,所述下支撐桿上表面設有第一下支撐柱、第二下支撐柱,所述第一下支撐柱上表面設有第一下限位柱,所述第二下支撐柱上表面設有第二下限位柱,所述上蓋下底面設有上支撐桿,所述上支撐桿下底面設有第一上支撐柱、第二上支撐柱,所述第一上支撐柱下底面設有第一上限位柱,所述第二上支撐柱下底面設有第二上限位柱,所述上支撐桿、下支撐桿之間設有集成電路板,所述集成電路板設有第一限位槽、第二限位槽,所述第一上限位柱、第一下限位柱位于第一限位槽內,所述第二上限位柱、第二下限位柱位于第二限位槽內。所述第一上限位柱、第一下限位柱對稱設置。所述第二上限位柱、第二下限位柱對稱設置。本技術的有益效果為:本技術方案的集成電路板通過支撐柱及限位柱進行固定安裝,使電路板四面均可實現散熱,不僅安裝方便,結構穩(wěn)固,且散熱效果佳,便于維修,將樣品倉位于檢測倉的下方,雖然取樣有些不便,但是可以增強電路板的散熱,延長電路板的壽命,定位凸起與定位凹槽,可以實現上蓋與底殼的快速定位安裝,適用性強。附圖說明圖1為本技術的結構示意圖。圖中:1-底殼,2-上蓋,3-定位凸起,4-定位凹槽,5-隔斷,6-樣品支座,7-樣品支架,8-下支撐桿,9-第一下支撐柱,10-第二下支撐柱,11-第一下限位柱,12-第二下限位柱,13-上支撐桿,14-第一上支撐柱,15-第二上支撐柱,16-第一上限位柱,17-第二上限位柱,18-集成電路板,19-第一限位槽,20-第二限位槽,21-樣品倉,22-檢測倉。具體實施方式一種傅立葉變換紅外光譜儀,包括底殼1、上蓋2,底殼1的上表面設有定位凸起3,上蓋2的下底面設有與定位凸起3相配合的定位凹槽4,底殼1內設有隔斷5,隔斷5水平設置,隔斷5下方設有樣品倉21,隔斷5上方設有檢測倉22,樣品倉21底部設有樣品支座6,樣品支座6上設有樣品支架7,檢測倉22內設有下支撐桿8,下支撐桿8水平設置,下支撐桿8上表面設有第一下支撐柱9、第二下支撐柱10,第一下支撐柱9上表面設有第一下限位柱11,第二下支撐柱10上表面設有第二下限位柱12,上蓋2下底面設有上支撐桿13,上支撐桿13下底面設有第一上支撐柱14、第二上支撐柱15,第一上支撐柱14下底面設有第一上限位柱16,第二上支撐柱15下底面設有第二上限位柱17,上支撐桿13、下支撐桿8之間設有集成電路板18,集成電路板18設有第一限位槽19、第二限位槽20,第一上限位柱16、第一下限位柱11位于第一限位槽19內,第二上限位柱17、第二下限位柱12位于第二限位槽20內。第一上限位柱16、第一下限位柱11對稱設置。第二上限位柱17、第二下限位柱12對稱設置。以上對本技術的實施例進行了詳細說明,但所述內容僅為本技術的較佳實施例,不能被認為用于限定本技術的實施范圍,凡依本技術申請范圍所作的均等變化與改進等,均應仍歸屬于本技術的專利涵蓋范圍之內。本文檔來自技高網...

    【技術保護點】
    一種傅立葉變換紅外光譜儀,其特征在于:包括底殼、上蓋,所述底殼的上表面設有定位凸起,所述上蓋的下底面設有與定位凸起相配合的定位凹槽,所述底殼內設有隔斷,所述隔斷水平設置,所述隔斷下方設有樣品倉,所述隔斷上方設有檢測倉,所述樣品倉底部設有樣品支座,所述樣品支座上設有樣品支架,所述檢測倉內設有下支撐桿,所述下支撐桿水平設置,所述下支撐桿上表面設有第一下支撐柱、第二下支撐柱,所述第一下支撐柱上表面設有第一下限位柱,所述第二下支撐柱上表面設有第二下限位柱,所述上蓋下底面設有上支撐桿,所述上支撐桿下底面設有第一上支撐柱、第二上支撐柱,所述第一上支撐柱下底面設有第一上限位柱,所述第二上支撐柱下底面設有第二上限位柱,所述上支撐桿、下支撐桿之間設有集成電路板,所述集成電路板設有第一限位槽、第二限位槽,所述第一上限位柱、第一下限位柱位于第一限位槽內,所述第二上限位柱、第二下限位柱位于第二限位槽內。

    【技術特征摘要】
    1.一種傅立葉變換紅外光譜儀,其特征在于:包括底殼、上蓋,所述底殼的上表面設有定位
    凸起,所述上蓋的下底面設有與定位凸起相配合的定位凹槽,所述底殼內設有隔斷,所述隔
    斷水平設置,所述隔斷下方設有樣品倉,所述隔斷上方設有檢測倉,所述樣品倉底部設有樣
    品支座,所述樣品支座上設有樣品支架,所述檢測倉內設有下支撐桿,所述下支撐桿水平設
    置,所述下支撐桿上表面設有第一下支撐柱、第二下支撐柱,所述第一下支撐柱上表面設有
    第一下限位柱,所述第二下支撐柱上表面設有第二下限位柱,所述上蓋下底面設有上支撐桿,
    所述上支撐桿下底面設有...

    【專利技術屬性】
    技術研發(fā)人員:萬成富趙朋輝白志恒
    申請(專利權)人:天津中世沃克科技發(fā)展有限公司
    類型:新型
    國別省市:天津;12

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