投影機制造技術

本發明專利技術提供一種投影機，包括光源、數位微鏡裝置、鏡頭和遮光裝置，本發明專利技術設計觀念為利用遮光裝置，使得數位微鏡裝置發出的拋棄光束入射遮光裝置，且遮光裝置的第一反射面和第二反射面呈第一夾角，該第一夾角小于90度，借此減少射出鏡頭的該拋棄光束，實現有效提升投影畫面的對比度。

【技術實現步驟摘要】
【專利摘要】本專利技術提供一種投影機，包括光源、數位微鏡裝置、鏡頭和遮光裝置，本專利技術設計觀念為利用遮光裝置，使得數位微鏡裝置發出的拋棄光束入射遮光裝置，且遮光裝置的第一反射面和第二反射面呈第一夾角，該第一夾角小于90度，借此減少射出鏡頭的該拋棄光束，實現有效提升投影畫面的對比度。【專利說明】投影機
本專利技術描述一種投影機，尤指一種低漏光的投影機。
技術介紹
投影儀是一種可以將圖像或者視頻投射到屏幕上的設備，可以通過不同的接口同 計算機、￥00、0￥030、游戲機、0￥等相連接播放相應的視頻信號，達到大屏幕的投影顯示方 式來提供收看者極佳的呈現與視覺效果。隨著電子技術的不斷發展，投影儀廣泛用于教育、 商業和家庭中。根據投影儀工作原理的不同可分為陰極射線管投影儀(CRT)，液晶投影儀 (LCD)和數碼光學處理器投影儀(DLP)。其中數碼光學處理器投影儀的成像原理為:光源發 出的光線經過多個光學元件傳遞至處于開啟狀態的數位微鏡裝置(Digital Micro-mirror Device)，并藉由處于開啟狀態的數位微鏡裝置轉換為成像光后由投影鏡頭射出以產生投 射影像，即將微小影像投影到巨幅熒幕上，并提供足夠的亮度，將影像資訊分享給眾人。而 當數位微鏡裝置處于關閉狀態時，數位微鏡裝置反射出的拋棄光束會部分射出投影鏡頭， 而降低影像畫面的對比度，影響成像品質。 因此，有必要設計一種新的投影機，以克服上述缺陷。
技術實現思路
本專利技術的目的在于提供一種投影機，其可有效防止漏光，提高成像品質。 為達上述目的，本專利技術提供一種投影機，包含： 光源，發出入射光；數位微鏡裝置，用以接收并反射該入射光以形成成像光或者拋棄光束；鏡頭，位于該成像光的傳遞路徑上，用以接收并投射該成像光；以及 遮光裝置，位于該拋棄光束的傳遞路徑上，用于接收并反射該拋棄光束；其中，該遮光裝置具有第一反射面和第二反射面，該第一反射面和該第二反射面 具有第一夾角，該第一夾角小于90度。 較佳的，該拋棄光束于該第一反射面和該第二反射面上進行至少兩次反射。 較佳的，該拋棄光束入射該第一反射面，經由該第一反射面反射至該第二反射面， 并被該第二反射面反射。較佳的，該第一夾角為69.2度。 較佳的，該第一反射面和該第二反射面上設置有抗反射層或者吸光層。 較佳的，該遮光裝置由金屬材料制成。 較佳的，經該遮光裝置反射后的該拋棄光束以遠離該鏡頭的方向射出。 較佳的，該數位微鏡裝置具有反射面，該反射面用以接收并反射該入射光，該第一 反射面朝向該數位微鏡裝置的該反射面，該第二反射面背向該鏡頭。 較佳的，還包括第一腔體，設置于該光源、該數位微鏡裝置和該鏡頭之間，該鏡頭 的入光口連接于該第一腔體，該遮光裝置位于該第一腔體內。 較佳的，還包括棱鏡系統，設置于該第一腔體內，該棱鏡系統用于接收并傳遞該入 射光至該數位微鏡裝置，將該成像光傳遞至該鏡頭，以及將該拋棄光束傳遞至該遮光裝置。 較佳的，還包括反射罩，該反射罩設置于該第一腔體內且位于該棱鏡系統的遠離 該數位微鏡裝置的一側，該遮光裝置設置于該反射罩上且位于該反射罩的鄰近該鏡頭的一 端。 較佳的，該第一反射面設置于該棱鏡系統的遠離該數位微鏡裝置的一側，該第二 反射面設置于該棱鏡系統和該鏡頭之間。 與現有技術相對比，本專利技術提供一種投影機，其設計觀念為利用遮光裝置，使得數 位微鏡裝置發出的拋棄光束入射遮光裝置，且遮光裝置的第一反射面和第二反射面呈第一 夾角，該第一夾角小于90度，借此衰減該拋棄光束的能量，減少射出鏡頭的該拋棄光束以避 免鏡頭漏光，實現有效提升投影畫面的對比度。【附圖說明】 圖1為本專利技術實施例投影機于第一狀態的剖面示意圖。 圖2為本專利技術實施例投影機于第二狀態的剖面示意圖 圖3為本專利技術實施例投影機的第一腔體的結構示意圖。 圖4為本專利技術實施例投影機的遮光裝置和反射罩的結構示意圖。 圖5為本專利技術實施例投影機的部分元件的結構示意圖。【具體實施方式】 為使對本專利技術的目的、構造、特征、及其功能有進一步的了解，茲配合實施例詳細 說明如下。 圖1為本專利技術實施例投影機于第一狀態的剖面示意圖，圖2為本專利技術實施例投影機 于第二狀態的剖面示意圖，圖3為本專利技術實施例投影機的第一腔體的結構示意圖，圖4為本 專利技術實施例投影機的遮光裝置和反射罩的結構示意圖，圖5為本專利技術實施例投影機的部分 元件的結構示意圖。圖1至圖5所示，本專利技術投影機包含光源、數位微鏡裝置（Digital Micro-mirror Device，DMD) 12、鏡頭14和遮光裝置15。其中，光源用于發出入射光111。數位 微鏡裝置12用以接收并反射入射光111以形成成像光121(參見圖1所示)或者拋棄光束122 (參見圖2所示）。例如，數位微鏡裝置12為二軸翻轉式的晶片組（TRP(Tilt&Roll Pixel) DU^PicoTM chipset)，其微鏡沿二對角線各翻轉12度，等效相對于長邊方向翻轉17度，用 以將入射光111以約34度反射為成像光121，但不以此為限。鏡頭14位于成像光121的傳遞路 徑上，用以接收并投射成像光121。遮光裝置15位于拋棄光束122的傳遞路徑上，用于接收并 反射拋棄光束122。其中，遮光裝置15具有第一反射面151和第二反射面152,第一反射面151 和第二反射面152具有第一夾角A，第一夾角A小于90度，即，第一反射面151和第二反射面 152呈"人"型，借此，可有效衰減拋棄光束122的能量，由此減少射出鏡頭14的拋棄光束122， 故可有效提升投影畫面的對比度。并且，相較于夾角呈90度的"L"型的遮光裝置，本專利技術遮 光裝置15具有更高的遮光效率，以獲得更高的成像品質。另外，為便于說明，特定義具有兩 兩彼此垂直的X軸、Y軸以及Z軸的空間，數位微鏡裝置12對應于X軸和Z軸所形成的平面。 進一步的，如圖2所示，拋棄光束122于第一反射面151和第二反射面152上進行至 少兩次反射，以衰減該拋棄光束的能量。具體而言，如圖2所示，拋棄光束122入射第一反射 面151，經由第一反射面151反射后入射第二反射面152,并被第二反射面152反射，即拋棄光 束122入射第一反射面151后，都會被遮光裝置15反射兩次，以衰減該拋棄光束的能量。進一 步的，拋棄光束122的至少部分光線經第二反射面152反射后還可以再次入射第一反射面 151，并被第一反射面151反射，即于遮光裝置15上進行第三次的反射，如此，可進一步衰減 拋棄光束122的能量，甚至使拋棄光束122的能量衰減至消失，從而提高成像品質。當然，若 拋棄光束122首先入射的是第二反射面152,則第二反射面152亦會將拋棄光束122反射至第 一反射面151，并被第一反射面151反射。進一步的，拋棄光束122的至少部分光經第一反射 面151反射后還可以再次入射第二反射面152,并被第二反射面152反射，即于遮光裝置15上 進行第三次的反射，如此，可進一步衰減拋棄光束122的能量，甚至使拋棄光束122的能量衰 減至消失，從而調高成像品質。當然，拋棄光束122的部分光線還可以再次進行更多次的反 射，原理同上，在此不再贅述 較佳的，第一夾角A介于45度至90度之間（45° <A〈90° )，以有本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種投影機，其特征在于，包含：光源，發出入射光；數位微鏡裝置，用以接收并反射該入射光以形成成像光或者拋棄光束；鏡頭，位于該成像光的傳遞路徑上，用以接收并投射該成像光；以及遮光裝置，位于該拋棄光束的傳遞路徑上，用于接收并反射該拋棄光束；其中，該遮光裝置具有第一反射面和第二反射面，該第一反射面和該第二反射面具有第一夾角，該第一夾角小于90度。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：陳嘉彬，胡圣文，蕭啟宏，何文中，林穎芳，
申請(專利權)人：蘇州佳世達光電有限公司，佳世達科技股份有限公司，
類型：發明
國別省市：江蘇;32