【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及一種低折射率光學鍍膜材料，屬于光學鍍膜材料領域。
技術介紹
在光學鍍膜領域，二氧化硅是最常用的低折射率光學鍍膜材料，但隨著技術和應用的發展，常用的單純二氧化硅低折射率光學鍍膜材料不能滿足市場更高的要求，比如手機面板、觸摸屏等的表面容易劃傷。由于防指紋材料必須要以二氧化硅材料作為基底，為了滿足象手機面板、觸摸屏等產品使用中表面不易劃傷，又能滿足防指紋材料的防油污要求，我們特專利技術了以二氧化硅和二氧化鋯混合物為原料的低折射率光學鍍膜材料。
技術實現思路
針對現有的低折射率光學鍍膜材料二氧化硅在實際生產中性能的不足，本專利技術的目的在于提供一種優良的低折射率光學鍍膜材料。為了實現上述目的，本專利技術采取的技術方案是：一種低折射率光學鍍膜材料，所述光學鍍膜材料由二氧化硅和二氧化鋯組成，其中，二氧化硅：50-99.5wt％，二氧化鋯：0.5-50wt％。所述光學鍍膜材料的燒結溫度為900℃以上，優選1200－1650℃之間。所述光學鍍膜材料也可以是二種混合料的熔融料，該混合物熔融溫度為
1800℃。所述光學鍍膜材料可用于手機玻璃面板,觸摸屏及其它光學元件。由于手機面板、觸摸屏等在日常使用中通常會受到摩擦而導致表面膜層劃傷，因而對其在光學鍍膜后膜層表面的硬度和抗劃傷能力提出了更高的要求，我們研制了一種二氧化硅和二氧化鋯的混合物，該混合物因二氧化鋯有較高的硬度，二氧化硅材料中引入部分二氧化鋯，經燒結可形成硅酸鋯化合物，該材料進入膜層后，因二氧化鋯的引入，所生成膜的硬度也得到提高。具體實施方式實施例1-12的原料組份配比見表1將表1中各配方按...
【技術保護點】
一種低折射率光學鍍膜材料，其特征在于：所述光學鍍膜材料由二氧化硅和二氧化鋯兩種材料混合組成。
【技術特征摘要】
1.一種低折射率光學鍍膜材料，其特征在于：所述光學鍍膜材料由二氧化硅和二氧化鋯兩種材料混合組成。2.根據權利要求1所述的光學鍍膜材料，其特征在于：所述光學鍍膜材料的原料組成為，二氧化硅：50-99.5wt％，二氧化鋯：0.5-50wt％。3.根據權利要求1或2所述的光學鍍膜材料，其特征在于：所述光學鍍膜材料...
【專利技術屬性】
技術研發人員：秦海波，
申請(專利權)人：北京富興凱永興光電技術有限公司，
類型：發明
國別省市：北京;11
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