【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及圖像處理
，尤其是一種前景背景分割的方法和裝置。
技術介紹
X線圖像是X線束穿透被檢體某一部位的不同密度和厚度組織結構后的投影數據總和，是該穿透路徑上各層X線束投影相互疊加在一起的影像。在X線圖像的前景背景分割過程中，需要能夠準確分割出X線圖像的前景區域和背景區域，從而提高X線圖像的質量，對后續的圖像處理有重要的指導作用。其中，前景區域是指目標區域，背景區域是指X線圖像中的目標區域之外的其它區域。目前，通常采用閾值分割方式，分割出X線圖像的前景區域和背景區域。具體的，針對背景灰度值和前景灰度值的對比度好的X線圖像，通過選取恰當的閾值(例如通過最大類間方差法選取閾值)，并比較X線圖像的灰度值與該選取的閾值，并基于二者的比較結果，分割出X線圖像的前景區域和背景區域。在此閾值分割方式中，閾值的選取是否恰當是分割準確度的關鍵因素。但是，對于背景灰度值和前景灰度值的對比度差的X線圖像，閾值分割方式往往失效，無法準確分割出X線圖像的前景區域和背景區域。實際上，X線圖像的對比度差等干擾因素往往都存在。此外，閾值的選取難度也較大。
技術實現思路
本專利技術提供一種前景背景分割的方法，所述方法包括以下步驟：獲取待處理的X線圖像；針對所述待處理的X線圖像的每個像素點的灰度值進行二值化處理，得到所述像素點在二值圖像的數值，且所有像素點在二值圖像的數值構成二值圖像；其中，像素點在二值圖像的...
【技術保護點】
一種前景背景分割的方法，其特征在于，所述方法包括以下步驟：獲取待處理的X線圖像；針對所述待處理的X線圖像的每個像素點的灰度值進行二值化處理，得到所述像素點在二值圖像的數值，且所有像素點在二值圖像的數值構成二值圖像；其中，像素點在二值圖像的數值為表示前景的第一數值或者表示背景的第二數值；確定所述二值圖像中的第一數值的像素點所在的區域為前景區域；獲得所述二值圖像中的第二數值的像素點所在的局部區域的特征信息，并利用所述特征信息確定所述局部區域為前景區域或者背景區域。
【技術特征摘要】
1.一種前景背景分割的方法，其特征在于，所述方法包括以下步驟：
獲取待處理的X線圖像；
針對所述待處理的X線圖像的每個像素點的灰度值進行二值化處理，得到
所述像素點在二值圖像的數值，且所有像素點在二值圖像的數值構成二值圖
像；其中，像素點在二值圖像的數值為表示前景的第一數值或者表示背景的第
二數值；
確定所述二值圖像中的第一數值的像素點所在的區域為前景區域；
獲得所述二值圖像中的第二數值的像素點所在的局部區域的特征信息，并
利用所述特征信息確定所述局部區域為前景區域或者背景區域。
2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述獲取待處理的X線圖像
的過程，具體包括：
獲取X線原始圖像，并對所述X線原始圖像進行預處理，并利用各項異性
高斯濾波器對預處理后的X線原始圖像進行平滑濾波，得到所述待處理的X線
圖像。
3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述利用所述像素點的灰度
值進行二值化處理，得到所述像素點在二值圖像的數值的過程，具體包括：
獲取所述像素點對應的N個相鄰像素點的灰度值，并計算所述N個相鄰像
素點的灰度值中，大于所述像素點的灰度值的相鄰像素點的數量T；
利用所述N個相鄰像素點的灰度值、所述像素點的灰度值、所述數量T，
計算所述N個相鄰像素點分別對應的水平集能量函數，并利用所述N個相鄰像
素點分別對應的水平集能量函數獲得局部二值模式函數；
利用所述局部二值模式函數確定所述像素點在二值圖像的數值。
4.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，所述利用所述局部二值模式
函數確定所述像素點在二值圖像的數值的過程，具體包括：
當所述局部二值模式函數的取值為0和/或上一個像素點對應的局部二值模
\t式函數的取值為0時，確定所述像素點在二值圖像的數值為第二數值；
當所述局部二值模式函數的取值非0，且上一個像素點對應的局部二值模
式函數的取值非0時，如果所述局部二值模式函數的取值小于預設閾值，確定
所述像素點在二值圖像的數值為第二數值，如果所述局部二值模式函數的取值
不小于預設閾值，確定所述像素點在二值圖像的數值為第一數值。
5.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，
所述特征信息具體包括以下之一或者任意組合：灰度特征、紋理特征、位
置信息；所述灰度特征具體包括以下之一或者任意組合：灰度最大值、灰度平
均值、所述局部區域的灰度值方差、所述前景區域的灰度值方差；所述紋理特
征具體包括以下之一或者任意組合：相關性、聚類突、能量、同質性；所述位
置信息具體包括位于圖像邊緣位置或者位于圖像中心位置。
6.一種前景背景...
【專利技術屬性】
技術研發人員：李海春，孟德劍，齊布爾，
申請(專利權)人：沈陽東軟醫療系統有限公司，
類型：發明
國別省市：遼寧;21
還沒有人留言評論。發表了對其他瀏覽者有用的留言會獲得科技券。