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    用于真空鍍膜系統的環形坩堝技術方案

    技術編號:14632103 閱讀:174 留言:0更新日期:2017-02-13 07:43
    本實用新型專利技術公開了一種用于真空鍍膜系統的環形坩堝,包括環形主體、水流分流板、底板、冷卻水導管、旋轉主軸,環形主體的中心通過螺絲固定水流分流板,外圈設有氟橡膠密封圈,底板通過固定螺栓與固定水流分流板相連壓緊氟橡膠密封圈后形成一個中空腔體為冷卻水提供循環空間,然后整體固定在電機的旋轉主軸上,主軸中空,內部設有冷卻水導管為所述中空腔體提供冷卻水。所述的環形主體進一步設有上蓋板,用于為防止蒸鍍過程對固定螺栓的污染。本實用新型專利技術的有益效果是:增大冷卻水冷卻面積后可以避免蒸鍍材料在預熔料過程中出現的結構密度問題,能有效減少預熔次數節約蒸鍍材料穩定蒸鍍速率。

    【技術實現步驟摘要】

    本技術涉及一種用于真空鍍膜系統的環形坩堝。作為蒸鍍材料的載體,能有效提高蒸鍍材料預熔后結構密度,從而改善產品質量。
    技術介紹
    目前,真空蒸鍍系統所使用的蒸鍍材料的載體環形坩堝,其環形主體是一個空心的圓環體,圓環體內部開一道通冷卻水的環槽,環槽內外圈靠兩條氟橡膠密封圈和底板通過螺栓連接,形成由兩條密封圈間水冷卻循環結構。由于環形主體是一個空心圓,冷卻水槽的冷卻量有限,導致膜料在電子束轟擊熔化時不能夠迅速冷卻,從而容易出現空穴現象,最終導致在產品鍍制過程中出現蒸鍍速率不穩定情況而影響產品的性能。
    技術實現思路
    為了克服普通環形坩堝在真空蒸鍍熔料過程出現空穴情況,本技術提供了一種用于真空鍍膜系統的環形坩堝,能有效提高蒸鍍材料在電子束轟擊熔料過程中材料的結構密度,解決蒸鍍過程速率不穩定的情況。本技術解決技術問題所使用的技術方案是:一種用于真空鍍膜系統的環形坩堝,包括環形主體、水流分流板、底板、冷卻水導管、旋轉主軸,環形主體的中心通過螺絲固定水流分流板,外圈設有氟橡膠密封圈,底板通過固定螺栓與固定水流分流板相連壓緊氟橡膠密封圈后形成一個中空腔體為冷卻水提供循環空間,然后整體固定在電機的旋轉主軸上,主軸中空,內部設有冷卻水導管為所述中空腔體提供冷卻水。所述的環形主體進一步設有上蓋板,用于為防止蒸鍍過程對固定螺栓的污染。本技術的有益效果是:由于水冷面積大能夠最大限度保證蒸鍍材料由顆粒狀熔化液體后變為固體時的結構密度,防止了在蒸鍍過程中因出現材料空穴造成成膜速率跳動而影響成膜質量問題。最終能夠節約蒸鍍材料,延長燒坑時間,提高膜層穩定性。增大水冷卻面積后可以避免蒸鍍材料在預熔料過程中出現的結構密度問題,能有效減少預熔次數節約蒸鍍材料穩定蒸鍍速率。附圖說明下面結合附圖和實例對本技術進一步說明。圖1為本技術的一種爆炸圖;其中,環形主體1、水流分流板2、底板3、固定螺栓4、上蓋板5、冷卻水導管6、旋轉主軸7,氟橡膠圈為標準件圖中未標出;圖2為本技術的一種裝配后的剖面圖。具體實施方式本技術將將傳統的蒸鍍材料載體環形坩堝的環形主體由原來的空心圓環體,加工成一個表面看起來是整個圓環而內部大面積中空的結構,并增加一個水流分流板,此分流板水流固定于環形主體內部,故環形主體與底板的密封由原來兩道變為一道。這種結構增加了環形坩堝的冷卻面積有效增大冷卻量,從而克服常規環形坩堝熔料中出現的材料結構密度不一致問題。一種用于真空鍍膜系統的環形坩堝,包括環形主體1、水流分流板2、底板3、冷卻水導管6、旋轉主軸7,環形主體1的中心通過螺絲固定水流分流板2,外圈設有氟橡膠密封圈,底板3通過固定螺栓4與固定水流分流板2相連壓緊氟橡膠密封圈后形成一個中空腔體為冷卻水提供循環空間,然后整體固定在電機的旋轉主軸7上,主軸中空,內部設有冷卻水導管6為所述中空腔體提供冷卻水。所述的環形主體1進一步設有上蓋板5,用于為防止蒸鍍過程對固定螺栓的污染。當然對于本領域技術人員來說也可以采用其它方式來防止該污染,圖中僅示出有蓋板5的情形。實施例如圖1所示,將氟橡膠圈放入環形主體1中,注意先將橡膠圈清潔后涂一層真空潤滑脂,以防損壞密封圈。環形主體1與水流分流板2通過M3螺絲固定,然后將底板3與通過固定螺栓4連為一體,插入冷卻水導管6,將連接好的主體通過外六角螺栓(此螺栓尾部一般需帶有密封圈槽)固定到旋轉主軸7上完成連接,蓋板5主要是為防止蒸鍍過程對外六角螺栓的污染。裝配后的剖面圖如圖2所示。其中,環形主體1由無氧銅材料加工成型,水流分流板2由SUS304板加工,底板3由SUS304材料加工。所述環形坩堝,環形主體1設有的矩形槽道放置蒸鍍材料由高壓電子槍產生電子束對材料進行預熔,環形主體1與底板3之間充滿冷卻循環水對蒸鍍材料預熔后迅速冷卻保證了預熔材料凝固時結構密度,由調速電機帶動環形坩堝轉動完成材料預熔。本文檔來自技高網...

    【技術保護點】
    一種用于真空鍍膜系統的環形坩堝,其特征是:包括環形主體(1)、水流分流板(2)、底板(3)、冷卻水導管(6)、旋轉主軸(7),環形主體(1)的中心通過螺絲固定水流分流板(2),外圈設有氟橡膠密封圈,底板(3)通過固定螺栓(4)與固定水流分流板(2)相連壓緊氟橡膠密封圈后形成一個中空腔體為冷卻水提供循環空間,然后整體固定在電機的旋轉主軸(7)上,主軸中空,內部設有冷卻水導管(6)為所述中空腔體提供冷卻水。

    【技術特征摘要】
    1.一種用于真空鍍膜系統的環形坩堝,其特征是:包括環形主體(1)、水流分流板(2)、
    底板(3)、冷卻水導管(6)、旋轉主軸(7),環形主體(1)的中心通過螺絲固定水流分流板(2),
    外圈設有氟橡膠密封圈,底板(3)通過固定螺栓(4)與固定水流分流板(2)相連壓緊氟橡膠
    密封圈...

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:謝繼闖
    申請(專利權)人:合波光電通信科技有限公司
    類型:新型
    國別省市:浙江;33

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