顯影裝置以及顯影液活性度的補償方法制造方法及圖紙

本發明專利技術公開了一種顯影裝置以及顯影液活性度的補償方法，將顯影液存儲于一顯影裝置的一存儲槽，監測影響所述顯影液活性度的因素，根據所述因素的監測結果，通過調整所述存儲槽內顯影液的溫度，以對所述顯影液的活性度進行補償，可以避免因所述顯影液的活性度改變而帶來的關鍵尺寸以及膜厚偏差。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及顯影設備
，特別是涉及一種顯影裝置以及顯影液活性度的補償方法。
技術介紹
目前，面板顯示行業和在生產加工產品時，需要用顯影裝置對產品進行顯影。然而，在現有技術中，當顯影裝置空閑(Idle)一段時間后再跑跑(run)產品時，前幾枚產品的關鍵尺寸(CriticalDimension，簡稱CD)以及膜厚會發生較大的變化。為了解決前幾枚產品與正常跑產品之間的關鍵尺寸以及膜厚的差異，在現有技術中，一般顯影裝置空閑一段時間后再跑產品前，需要先跑虛擬(rundummy)，成本高且不易控制。此外，在現有技術中，顯影裝置閑置一段時間之后再正常跑產品時，顯影液的活性度會發生變化，此時，如有沒有很好的補償顯影液的活性度辦法，再補加新顯影液時，就會因顯影液活性度不一致，造成產品的關鍵尺寸以及膜厚出現波動。
技術實現思路
為解決現有技術中產品的關鍵尺寸以及膜厚出現偏差技術問題，本專利技術提供一種顯影裝置以及顯影液活性度的補償方法，以對所述顯影液的活性度改變而帶來的關鍵尺寸以及膜厚偏差進行補償，所述補償方法包括：將顯影液存儲于一顯影裝置的一存儲槽，監測影響所述顯影液活性度的因素，根據所述因素的監測結果，調整所述存儲槽內顯影液的溫度，以對所述顯影液的活性度進行補償。進一步的，在所述補償方法中，所述因素包括所述存儲槽內顯影液的濃度和/或所述存儲槽中碳酸根的濃度。進一步的，在所述補償方法中，當所述顯影裝置空閑后需跑產品時，控制所述存儲槽內顯影液的溫度高于一標準溫度，所述標準溫度為正常跑產品時所述存儲槽內顯影液的溫度。進一步的，在所述補償方法中，當所述顯影裝置在跑產品的過程中，顯影液的液位低于跑產品所需的正常液位時，向所述存儲槽中開始注入新顯影液，所述存儲槽內顯影液的溫度逐步趨于所述標準溫度；當所述新顯影液注入完畢，所述存儲槽內顯影液的溫度達到所述標準溫度。進一步的，在所述補償方法中，預存所述因素的值與所述顯影液溫度的值的對照關系，根據監測到所述因素的值，確定需補償的所述顯影液溫度的值，并調整所述存儲槽內顯影液的溫度。根據本專利技術的另一面，還提供一種顯影裝置，包括：用于存儲顯影液的存儲槽；監測系統，所述監測系統用于監測影響所述顯影液活性度的因素；控制單元，所述控制單元根據所述因素的監測結果，確定顯影液需要補償的溫度；控制系統，所述控溫系統根據所述控制單元確定的補償溫度，調整所述存儲槽內顯影液的溫度。進一步的，在所述顯影裝置中，所述因素包括所述存儲槽內顯影液的濃度和/或所述存儲槽中碳酸根的濃度。進一步的，在所述顯影裝置中，當所述顯影裝置空閑后需跑產品時，所述控溫系統控制所述存儲槽內顯影液的溫度高于一標準溫度，所述標準溫度為正常跑產品時所述存儲槽內顯影液的溫度。進一步的，在所述顯影裝置中，當所述顯影裝置在跑產品的過程中，向所述存儲槽中開始注入新顯影液時，所述存儲槽內顯影液的溫度逐步趨于所述標準溫度；當所述新顯影液注入完畢，所述存儲槽內顯影液的溫度達到所述標準溫度。在本專利技術提供一種顯影裝置以及顯影液活性度的補償方法中，將顯影液存儲于一顯影裝置的一存儲槽，監測影響所述顯影液活性度的因素，根據所述因素的監測結果，通過調整所述存儲槽內顯影液的溫度，以對所述顯影液的活性度進行補償，可以避免因所述顯影液的活性度改變而帶來的關鍵尺寸以及膜厚偏差。進一步的，當所述顯影裝置空閑后需跑產品時，控制所述存儲槽內顯影液的溫度高于一標準溫度，所述標準溫度為正常跑產品時所述存儲槽內顯影液的溫度，可以避免因所述顯影裝置空閑后前幾枚產品的關鍵尺寸以及膜厚偏差；當所述顯影裝置在跑產品的過程中，向所述存儲槽中開始注入新顯影液時，逐步降低所述存儲槽內顯影液的溫度；當所述新顯影液注入完畢，所述存儲槽內顯影液的溫度達到所述標準溫度，可以避免顯影裝置在正常跑產品時因顯影液的活性度發生變化引起的產品的關鍵尺寸以及膜厚偏差。附圖說明圖1為本專利技術一實施例的顯影裝置的示意圖；圖2為本專利技術一實施例的顯影液活性度的補償方法的示意圖。具體實施例現有技術中產品的關鍵尺寸以及膜厚容易受到顯影裝置長時間空閑或顯影液的活性度發生變化等原因影響。專利技術人對現有技術研究發現，當顯影裝置長時間空閑時，存儲于所述顯影裝置的存儲槽中顯影液會發生裂化，裂化的過程是顯影液吸收空氣中的水和二氧化碳(氣體)，裂化后的顯影液的顯影能力減弱。顯影液的濃度、顯影液的溫度以及存儲槽中碳酸根的濃度均為影響顯影液活性度的因素，進一步造成產品的關鍵尺寸以及膜厚發生變化。專利技術人進一步研究發現，顯影液的溫度與顯影液的活性度具有對應關系，當顯影液的溫度每上升1℃時，在顯影液的濃度和存儲槽中碳酸根的濃度不變的情況下，顯影膜的厚度減薄約45nm，即當顯影液的溫度升高時，顯影液的活性度對應升高。也就是，當顯影液的其它因素不變的情況下，可以通過改變顯影液的溫度以改變顯影液的活性度。此外，存儲槽中顯影液的濃度和存儲槽中碳酸根的濃度與顯影液的活性度也有對應關系。當顯影液的濃度或存儲槽中碳酸根的濃度等因素發生改變時，顯影液的活性度改變，在無法及時調整顯影液的濃度或碳酸根的濃度的情況下，可以調整顯影液的溫度，以補償顯影液的濃度或碳酸根的濃度的變化所引起的顯影液活性度的變化。根據上述研究，專利技術人提供一種顯影液活性度的補償方法，將顯影液存儲于一顯影裝置的一存儲槽，監測影響所述顯影液活性度的因素，根據所述因素的監測結果，通過調整所述存儲槽內顯影液的溫度，以對所述顯影液的活性度進行補償，可以避免因所述顯影液的活性度改變而帶來的關鍵尺寸以及膜厚偏差。進一步，專利技術人提供一種顯影裝置，包括：用于存儲顯影液的存儲槽；監測系統，所述監測系統用于監測影響所述顯影液活性度的因素；以及控溫系統，所述控溫系統根據所述因素的監測結果，調整所述存儲槽內顯影液的溫度，以對所述顯影液的活性度進行補償。進一步的，當顯影裝置空閑一段時間后再跑產品時，前幾枚產品的關鍵尺寸以及膜厚會發生較大的變化。專利技術人深入研究發現，當顯影裝置空閑一段時間后，所述存儲槽中顯影液的溫度和濃度會發生變化，溫度的影響尤為明顯。一般的，工廠分為上下兩層，顯影裝置放置于上層，顯影裝置中存儲槽內的顯影液亦位于上層，下層用于供給新顯影液。當顯影裝置空閑時，無新顯影液供給，存儲槽內的顯影液溫度上升，影響所述顯影液的活性度。為了解決前幾枚產品與正常跑產品之間的關鍵尺寸以及膜厚的差異，可以在跑產品之前，先降低所述存儲槽中顯影液的溫度，則可以對所述顯影液的活性度進行補償。下面將結合示意圖對本專利技術的顯影裝置以及顯影液活性度的補償方法進行更詳細的描述，其中表示了本專利技術的優選實施例，應該理解本領域技術人員可以修改在此描述的本專利技術，而仍然實現本專利技術的有利效果。因此，下列描述應當被理解為對于本領域技術人員的廣泛知道，而并不作為對本專利技術的限制。在下列段落中參照附圖以舉例方式更具體地描述本專利技術。根據下面說明，本專利技術的優點和特征將更清楚。需說明的是，附圖均采用非常簡化的形式且均使用非精準的比例，僅用以方便、明晰地輔助說明本專利技術實施例的目的。以下請參閱圖1-圖2具體說明本專利技術的一實施例。參考圖1，所述顯影裝置1包括用于存儲顯影液的存儲槽100(tank)、監測系統200、控溫系統300、以及控制單元400，所述顯影裝置1放置于工廠本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種顯影裝置中顯影液活性度的補償方法，其特征在于，包括：將顯影液存儲于一顯影裝置的一存儲槽，監測影響所述顯影液活性度的因素，根據所述因素的監測結果，調整所述存儲槽內顯影液的溫度，以對所述顯影液的活性度進行補償。

【技術特征摘要】
1.一種顯影裝置中顯影液活性度的補償方法，其特征在于，包括：將顯影液存儲于一顯影裝置的一存儲槽，監測影響所述顯影液活性度的因素，根據所述因素的監測結果，調整所述存儲槽內顯影液的溫度，以對所述顯影液的活性度進行補償。2.如權利要求1所述的顯影裝置中顯影液活性度的補償方法，其特征在于，所述因素包括所述存儲槽內顯影液的濃度和/或所述存儲槽中碳酸根的濃度。3.如權利要求2所述的顯影裝置中顯影液活性度的補償方法，其特征在于，當所述顯影裝置空閑后需跑產品時，控制所述存儲槽內顯影液的溫度高于一標準溫度，所述標準溫度為正常跑產品時所述存儲槽內顯影液的溫度。4.如權利要求3所述的顯影裝置中顯影液活性度的補償方法，其特征在于，當所述顯影裝置在跑產品的過程中，所述顯影液的液位低于跑產品所需的正常液位時，向所述存儲槽中開始注入新顯影液，所述存儲槽內顯影液的溫度逐步趨于所述標準溫度；當所述新顯影液注入完畢，所述存儲槽內顯影液的溫度達到所述標準溫度。5.如權利要求1-4中任意一項所述的顯影裝置中顯影液活性度的補償方法，其特征在于，預...

【專利技術屬性】
技術研發人員：趙敏敏，
申請(專利權)人：昆山國顯光電有限公司，
類型：發明
國別省市：江蘇;32