氧化鋁連續(xù)下料設(shè)備制造技術(shù)

本發(fā)明專利技術(shù)公開了一種氧化鋁連續(xù)下料設(shè)備，包括：料箱、下料氣缸、定容器、打殼頭、過料框、斜板、緩沖器、下料管，下料管通向打殼頭的底部；還包括設(shè)置于緩沖出口的用于向緩沖出口吹氣的氣管。與相關(guān)技術(shù)相比，本發(fā)明專利技術(shù)的有益效果在于，(1)使氧化鋁緩慢進(jìn)入電解質(zhì)，減少電解槽的溫度和氧化鋁濃度波動，進(jìn)而提高電流效率，降低能耗；(2)使氧化鋁有充足的時間融解進(jìn)入電解質(zhì)，從而減少爐底沉淀的形成，降低爐底壓降，降低能耗；(3)使氧化鋁通過管道緩慢進(jìn)入電解質(zhì)，不撞擊打殼頭散開，實(shí)際入槽料增加，降低效應(yīng)系數(shù)；(4)利用氣體反吹原理，吹走氧化鋁中大顆粒的堵塞，可有效防止堵孔現(xiàn)象。

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

本專利技術(shù)涉及電解
，具體涉及一種氧化鋁連續(xù)下料設(shè)備。
技術(shù)介紹
在電解鋁制備時，需要利用氧化鋁連續(xù)下料設(shè)備向電解槽中加入氧化鋁粉，相關(guān)技術(shù)中，采用定時定容下料器進(jìn)行間隔式下料。這種氧化鋁連續(xù)下料設(shè)備，包括：用于承裝承裝氧化鋁粉的料箱，設(shè)置于所述料箱底部的下料氣缸，設(shè)置于所述下料氣缸下方并與所述下料氣缸相連的定容器，所述氧化鋁連續(xù)下料裝置還包括用于擊破電解槽槽內(nèi)物質(zhì)表面的打殼頭，所述打殼頭與所述定容器之間設(shè)有為氧化鋁從定容器進(jìn)入電解槽的過料框。相關(guān)技術(shù)的不足在于，(1)這種下料方式是間隔式下料，氧化鋁濃度波動明顯，下料前濃度低，下料后濃度高，槽熱平衡波動大，影響電解槽的穩(wěn)定性和電流效率；(2)點(diǎn)式下料方式單次下入大量氧化鋁，而目前采用的低過熱度工藝路線使得氧化鋁的溶解過程更加困難，未溶解的氧化鋁沉入鋁液，這樣造成下料口正下方鋁液層中堆積大量氧化鋁沉淀，沉淀隨著鋁液的流動覆蓋爐底，造成爐底壓降升高，增加能耗，嚴(yán)重者可導(dǎo)致畸形爐膛，影響槽壽命；(3)單次下入的大量氧化鋁在下料斜板上加速，在出口撞擊打殼頭后四處散開，實(shí)際入槽料減少，易引發(fā)效應(yīng)。因此，實(shí)有必要提供一種新的氧化鋁連續(xù)下料設(shè)備來克服上述技術(shù)問題。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
本專利技術(shù)需要解決的技術(shù)問題是提供一種氧化鋁連續(xù)下料設(shè)備，包括：用于承裝氧化鋁粉的料箱，設(shè)置于所述料箱底部的下料氣缸，設(shè)置于所述下料氣缸下方并與所述下料氣缸相連的定容器；所述氧化鋁連續(xù)下料裝置還包括用于擊破電解槽槽內(nèi)物質(zhì)的表面的打殼頭，所述打殼頭與所述定容器之間設(shè)有為氧化鋁從定容器進(jìn)入電解槽的過料框，所述過料框包括一斜板，其中，所述氧化鋁連續(xù)下料設(shè)備還包括設(shè)置于所述過料框中的緩沖器，所述緩沖器與所述斜板共同圍成上大下小的漏斗狀收容空間，所述收容空間的上部為緩沖入口，所述收容空間的下部為緩沖出口；所述氧化鋁連續(xù)下料設(shè)備還包括設(shè)置于所述緩沖器下方的下料管，所述下料管連通所述緩沖出口，并通向所述打殼頭的底部；所述氧化鋁連續(xù)下料設(shè)備還包括設(shè)置于所述緩沖出口的用于向所述緩沖出口吹氣的氣管。優(yōu)選的，所述緩沖器由三塊鐵片焊接而成，所述緩沖器與所述斜板共同圍成收容空間，所述收容空間的截面形狀為由上到下逐漸變小的四邊形。優(yōu)選的，所述緩沖器由二塊鐵片焊接而成，所述緩沖器與所述斜板共同圍成收容空間，所述收容空間的截面形狀為由上到下逐漸變小的三角形。優(yōu)選的，所述緩沖器由一塊扇形鐵片扭轉(zhuǎn)后焊接于所述斜板上，所述緩沖器與所述斜板共同圍成收容空間，所述收容空間的截面形狀為由上到下逐漸變小的半圓形。優(yōu)選的，所述緩沖出口到所述斜板底端的距離為3-35cm。優(yōu)選的，所述緩沖出口面積為100-2000mm2。優(yōu)選的，所述氧化鋁連續(xù)下料設(shè)備還包括位于電解槽上部的集氣罩，所述下料管通過連接板焊接在所述集氣罩上。優(yōu)選的，所述下料管底部為折彎狀，折彎角度為30-75°，所述下料管底部與所述打殼頭底部的距離≤10cm。優(yōu)選的，所述打殼頭包括廢氣口，所述氣管的一端與所述廢氣口相連，所述氣管的另一端設(shè)置于所述緩沖出口處，所述氣管的氣源來自所述廢氣口。優(yōu)選的，所述氣管的一端經(jīng)電磁閥與外接氣源相連，所述氣管的一端設(shè)置于所述緩沖出口處，所述氣管的氣源來自所述外接氣源。與相關(guān)技術(shù)相比，本專利技術(shù)的有益效果在于，(1)使氧化鋁緩慢進(jìn)入電解質(zhì)，減少電解槽的溫度和氧化鋁濃度波動，進(jìn)而提高電流效率，降低能耗；(2)使氧化鋁有充足的時間融解進(jìn)入電解質(zhì)，從而減少爐底沉淀的形成，降低爐底壓降，降低能耗；(3)使氧化鋁通過管道緩慢進(jìn)入電解質(zhì)，不撞擊打殼頭散開，實(shí)際入槽料增加，降低效應(yīng)系數(shù)；(4)利用氣體反吹原理，吹走氧化鋁中大顆粒的堵塞，可有效防止堵孔現(xiàn)象。【附圖說明】圖1為本專利技術(shù)一種氧化鋁連續(xù)下料設(shè)備的整體結(jié)構(gòu)(氣源來自打殼頭廢氣口)示意圖；圖2為本專利技術(shù)一種氧化鋁連續(xù)下料設(shè)備的由三塊鐵片焊接而成的緩沖器的展開圖；圖3為本專利技術(shù)一種氧化鋁連續(xù)下料設(shè)備的下料管的主視圖；圖4為本專利技術(shù)一種氧化鋁連續(xù)下料設(shè)備的下料管的左視圖；圖5為本專利技術(shù)一種氧化鋁連續(xù)下料設(shè)備的整體結(jié)構(gòu)(氣源來外接氣源)示意圖。圖中：料箱1，下料氣缸2，定容器3，電解槽(圖未示)，打殼頭4，廢氣口41，過料框5，斜板51，緩沖器6，收容空間7，緩沖入口71，緩沖出口72，下料管8，氣管9，集氣罩10，電磁閥11，外接氣源12?！揪唧w實(shí)施方式】下面結(jié)合附圖和實(shí)施方式對本專利技術(shù)作進(jìn)一步說明。參見圖1-圖5，一種氧化鋁連續(xù)下料設(shè)備，包括：用于承裝氧化鋁粉的料箱1，設(shè)置于料箱1底部的下料氣缸2，設(shè)置于下料氣缸2下方并與下料氣缸2相連的定容器3；氧化鋁連續(xù)下料裝置還包括用于擊破電解槽(圖未示)槽內(nèi)物質(zhì)的表面的打殼頭4，打殼頭4與定容器3之間設(shè)有為氧化鋁從定容器3進(jìn)入電解槽(圖未示)的過料框5，過料框5包括一斜板51，其中，氧化鋁連續(xù)下料設(shè)備還包括設(shè)置于過料框5中的緩沖器6，緩沖器6與斜板51共同圍成上大下小的漏斗狀收容空間7，收容空間7的上部為緩沖入口71，收容空間7的下部為緩沖出口72；氧化鋁連續(xù)下料設(shè)備還包括設(shè)置于緩沖器6下方的下料管8，下料管8連通緩沖出口72，并通向打殼頭4的底部；氧化鋁連續(xù)下料設(shè)備還包括設(shè)置于緩沖出口72的用于向緩沖出口72吹氣的氣管9。緩沖器6由三塊鐵片焊接而成，緩沖器6與斜板51共同圍成收容空間7，收容空間7的截面形狀為由上到下逐漸變小的四邊形。收容空間的容積與定容器中的氧化鋁粉的容量相同。緩沖出口72到斜板51底端的距離為3-35cm。本實(shí)施例中為20cm。緩沖出口72面積為100-2000mm2。本實(shí)施例中為360mm2。氧化鋁連續(xù)下料設(shè)備還包括位于電解槽(圖未示)上部的集氣罩10，下料管8通過連接板焊接集氣罩10上。下料管8底部為折彎狀，折彎角度為A，A＝30-75°，本實(shí)施例中為50°。下料管8底部與打殼頭4底部的距離≤10cm。打殼頭4包括廢氣口41，如圖1，氣管9的一端與廢氣口41相連，氣管9的另一端設(shè)置于緩沖出口72處，氣管9的氣源來自廢氣口41。如圖5所示，氣管9的一端經(jīng)電磁閥11與外接氣源12相連，氣管9的一端設(shè)置于緩沖出口72處，氣管9的氣源來自外接氣源12。本專利技術(shù)的有益效果在于，(1)使氧化鋁緩慢進(jìn)入電解質(zhì)，減少電解槽的溫度和氧化鋁濃度波動，進(jìn)而提高電流效率，降低能耗；(2)使氧化鋁有充足的時間融解進(jìn)入電解質(zhì)，從而減少爐底沉淀的形成，降低爐底壓降，降低能耗；(3)使氧化鋁通過管道緩慢進(jìn)入電解質(zhì)，不撞擊打殼頭散開，實(shí)際入槽料增加，降低效應(yīng)系數(shù)；(4)利用氣體反吹原理，吹走氧化鋁中大顆粒的堵塞，可有效防止堵孔現(xiàn)象。以上所述的僅是本專利技術(shù)的實(shí)施方式，在此應(yīng)當(dāng)指出，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本專利技術(shù)創(chuàng)造構(gòu)思的前提下，還可以做出改進(jìn)，但這些均屬于本專利技術(shù)的保護(hù)范圍。本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種氧化鋁連續(xù)下料設(shè)備，包括：用于承裝氧化鋁粉的料箱，設(shè)置于所述料箱底部的下料氣缸，設(shè)置于所述下料氣缸下方并與所述下料氣缸相連的定容器；所述氧化鋁連續(xù)下料裝置還包括用于擊破電解槽槽內(nèi)物質(zhì)的表面的打殼頭，所述打殼頭與所述定容器之間設(shè)有為氧化鋁從定容器進(jìn)入電解槽的過料框，所述過料框包括一斜板，其特征在于，所述氧化鋁連續(xù)下料設(shè)備還包括設(shè)置于所述過料框中的緩沖器，所述緩沖器與所述斜板共同圍成上大下小的漏斗狀收容空間，所述收容空間的上部為緩沖入口，所述收容空間的下部為緩沖出口；所述氧化鋁連續(xù)下料設(shè)備還包括設(shè)置于所述緩沖器下方的下料管，所述下料管連通所述緩沖出口，并通向所述打殼頭的底部；所述氧化鋁連續(xù)下料設(shè)備還包括設(shè)置于所述緩沖出口的用于向所述緩沖出口吹氣的氣管。

【技術(shù)特征摘要】
1.一種氧化鋁連續(xù)下料設(shè)備，包括：用于承裝氧化鋁粉的料箱，設(shè)置
于所述料箱底部的下料氣缸，設(shè)置于所述下料氣缸下方并與所述下料氣缸
相連的定容器；所述氧化鋁連續(xù)下料裝置還包括用于擊破電解槽槽內(nèi)物質(zhì)
的表面的打殼頭，所述打殼頭與所述定容器之間設(shè)有為氧化鋁從定容器進(jìn)
入電解槽的過料框，所述過料框包括一斜板，其特征在于，所述氧化鋁連
續(xù)下料設(shè)備還包括設(shè)置于所述過料框中的緩沖器，所述緩沖器與所述斜板
共同圍成上大下小的漏斗狀收容空間，所述收容空間的上部為緩沖入口，
所述收容空間的下部為緩沖出口；所述氧化鋁連續(xù)下料設(shè)備還包括設(shè)置于
所述緩沖器下方的下料管，所述下料管連通所述緩沖出口，并通向所述打
殼頭的底部；所述氧化鋁連續(xù)下料設(shè)備還包括設(shè)置于所述緩沖出口的用于
向所述緩沖出口吹氣的氣管。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氧化鋁連續(xù)下料設(shè)備，其特征在于，所述緩
沖器由三塊鐵片焊接而成，所述緩沖器與所述斜板共同圍成收容空間，所
述收容空間的截面形狀為由上到下逐漸變小的四邊形。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氧化鋁連續(xù)下料設(shè)備，其特征在于，所述緩
沖器由二塊鐵片焊接而成，所述緩沖器與所述斜板共同圍成收容空間，所
述收容空間的截面形狀為由上到下逐漸變小的三角形。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氧化鋁連...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：章宣，洪波，敬葉靈，李泉，
申請(專利權(quán))人：湖南創(chuàng)元鋁業(yè)有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：湖南;43