An apparatus and method for continuously applying nano laminated materials by electrodeposition are described herein.
【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】用于連續施加納米層壓金屬涂層的方法和裝置相關申請的交叉引用本申請要求2014年9月18日提交的美國臨時專利申請號62/052,345的權益,所述申請以引用的方式整體并入本文。此外,2013年3月15日提交的美國臨時申請號61/802,102和2014年3月18日提交的國際專利申請號PCT/US2014/31101的公開內容以引用的方式整體并入本文。背景在過去的幾十年已經廣泛地研究了納米層壓材料。結果是,那些材料的一些期望的先進性能特征已被發現并且它們在眾多領域中的潛在應用已得到承認。盡管納米層壓材料在眾多領域(包括民用基礎設施、汽車、航天航空、電子和其它領域)中的潛在應用已得到承認,但是總體來說,所述材料由于缺少其生產的連續工藝而不可大量使用。概述本文描述用于通過電沉積連續施加納米層壓材料的裝置和方法。在一些實施方案中,所述方法對耐腐蝕或可接受耐用涂飾劑(例如,涂料粉末涂層等)的材料(例如鋼)賦予穩定的機械和化學涂飾劑。附圖簡述圖1A和1B分別示出根據本文公開的各種實施方案的電鍍槽的頂視圖和側視圖;圖2A和2B分別示出根據本文公開的各種實施方案的三重沖洗單元的頂視圖和側視圖;圖3A和3B分別示出根據本文描述的各種實施方案的組合電鍍槽和三重沖洗單元的頂視圖和側視圖;圖4A和4B分別示出根據本文公開的各種實施方案的五重沖洗單元的頂視圖和側視圖;圖5A和5B分別示出根據本文公開的各種實施方案的組合電鍍槽和雙重沖洗單元的頂視圖和側視圖;圖6A和6B分別示出根據本文公開的各種實施方案的組合浸沒槽和五重沖洗單元的頂視圖和側視圖;圖7A和7B分別示出根據本文公開的各種實施 ...
【技術保護點】
一種用于電沉積納米層壓涂層的裝置,其包括:至少第一電沉積槽和第二電沉積槽,所述電沉積槽中的每個包括電極,導電性工件以一定速率移動通過所述電沉積槽,以及速率控制機構,其控制所述工件移動通過所述電沉積槽的所述速率;其中每個電沉積槽任選地包括混合器,所述混合器用于在電沉積工藝期間在其各自電沉積槽中攪拌電解質;其中每個電沉積槽任選地包括流動控制單元,所述流動控制單元用于將電解質施加至所述工件;以及其中每個電沉積槽具有電源,所述電源當所述工件移動通過每個電沉積槽時以隨時間變化的方式控制施加于所述工件的電流密度。
【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】2014.09.18 US 62/052,3451.一種用于電沉積納米層壓涂層的裝置,其包括:至少第一電沉積槽和第二電沉積槽,所述電沉積槽中的每個包括電極,導電性工件以一定速率移動通過所述電沉積槽,以及速率控制機構,其控制所述工件移動通過所述電沉積槽的所述速率;其中每個電沉積槽任選地包括混合器,所述混合器用于在電沉積工藝期間在其各自電沉積槽中攪拌電解質;其中每個電沉積槽任選地包括流動控制單元,所述流動控制單元用于將電解質施加至所述工件;以及其中每個電沉積槽具有電源,所述電源當所述工件移動通過每個電沉積槽時以隨時間變化的方式控制施加于所述工件的電流密度。2.如權利要求1所述的裝置,其中以隨時間變化的方式控制所述電流密度包括在所述工件移動通過至少一個電沉積槽時將兩種或更多種、三種或更多種或四種或更多種不同的電流密度施加于所述工件。3.如權利要求2所述的裝置,其中以隨時間變化的方式控制所述電流密度包括施加偏移電流,以使得當所述工件移動通過至少一個電沉積槽時所述工件保持為陰極而所述電極保持為陽極。4.如權利要求1或2所述的裝置,其中所述隨時間變化的方式包括以下中的一種或多種:改變基線電流、脈沖電流調制和反向脈沖電流調制。5.如前述權利要求中任一項所述的裝置,其中一個或多個所述電沉積槽還包括超聲攪拌器。6.如權利要求5所述的裝置,其中每個超聲攪拌器連續地或以脈沖方式獨立地操作。7.如前述權利要求中任一項所述的裝置,其中至少一個電沉積槽包括混合器,所述混合器獨立地操作以可變地混合在其各自電沉積槽中放置的電解質。8.如前述權利要求中任一項所述的裝置,其還包括所述工件從其移動至所述電沉積槽的第一位置,和/或用于在所述工件已移動通過一個或多個所述電沉積槽后接收所述工件的第二位置。9.如權利要求8所述的裝置,其中所述第一和/或第二位置包括線軸或心軸。10.如權利要求9所述的裝置,其中所述工件是可纏繞在所述線軸上或在所述心軸周圍的電線、桿、片狀物、鏈、線或管。11.如前述權利要求中任一項所述的裝置,其中任何一個或多個所述電沉積槽包括水性電解質。12.如權利要求1-10中任一項所述的裝置,其中任何一個或多個所述電沉積槽包括非水性電解質。13.如前述權利要求中任一項所述的裝置,其中每種電解質包含對于每種電解質獨立地選擇的兩種或更多種、三種或更多種或四種或更多種可電沉積的金屬的鹽。14.如前述權利要求中任一項所述的裝置,其還包括在所述第一位置與所述電沉積槽之間的一個或多個位置,在所述位置中使所述工件與溶劑、酸、堿、蝕刻劑和沖洗劑中的一種或多種接觸以除去所述溶劑、酸、堿或蝕刻劑。15.如前述權利要求中任一項所述的裝置,其還包括在所述電沉積槽與所述第二位置之間的一個或多個位置,在所述位置中使所述涂覆工件經受以下中的一項或多項:用溶劑清洗、用酸清洗、用堿清洗、鈍化處理或沖洗。16.一種電沉積納米層壓涂層的方法,其包括:提供裝置,所述裝置包括至少第一電沉積槽和第二電沉積槽;以及使工件以一定速率移動通過所述裝置的至少所述第一電沉積槽和所述第二電沉積槽且當所述工件移動通過每個電沉積槽時以隨時間變化的方式獨立地控制混合速率和/或施加于所述工件的電流密度,從而電沉積包含納米層壓涂層和/或一個或多個細粒金屬層的涂層;其中每個電沉積槽具有電源,所述電源當所述工件移動通過每個電沉積槽時以隨時間變化的方式控制施加于所述工件的所述電流密度;以及其中每個電沉積槽包括電極和電解質,所述電解質包含對于每種電解質獨立地選擇的兩種或更多種、三種或更多種或四種或更多種不同的可電沉積的金屬的鹽。17.如權利要求16所述的方法,其中以隨時間變化的方式控制所述電流密度包括在所述工件移動通過至少一個電沉積槽時將兩種或更多種、三種或更多種或四種或更多種不同的電流密度施加于所述工件。18.如權利要求16或17所述的方法,其中以隨時間變化的方式控制所述電流密度包括施加偏移電流,以使得當所述工件移動通過至少一個電沉積槽時所述工件保持為陰極而所述電極保持為陽極。19.如權利要求16或17所述的方法,其中所述隨時間變化的方式包括以下中的一種或多種:改變所述基線電流、脈沖電流調制和反向脈沖電流調制。20.如權利要求16-19中任一項所述的方法,其中一個或多個電沉積槽包括混合器,其中每個混合器獨立地以單一速率或以不同速率操作以攪拌在其各自電沉積槽內的所述電解質。21.如權利要求16-20中任一項所述的方法,其中一個或多個電沉積槽包括超聲攪拌器,其中每個攪拌器獨立地連續或以非連續方式操作以控制所述混合速率。22.如權利要求16-21中任一項所述的方法,其還包括控制所述工件移動通過所述電沉積槽的所述速率。23.如權利要求16-22中任一項所述的方法,其中所述裝置還包括所述工件從其移動至所述第一電沉積槽和所述第二電沉積槽的第一位置,和/或用于在所述工件已移動通過所述第一電沉積槽和所述第二電沉積槽后接收所述工件的第二位置,所述方法還包括使所述工件從所述第一位置移動至所述第一電沉積槽和所述第二電沉積槽和/或使所述工件從所述第一電沉積槽和所述第二電沉積槽移動至所述第二位置。24.如權利要求23所述的方法,其中所述裝置還包括在所述第一位置與所述電沉積槽之間的一個或多個位置,并且所述方法還包括使所述工件與溶劑、酸、堿和蝕刻劑以及沖洗劑中的一種或多種接觸以在所述第一位置與所述電沉積槽之間的一個或多個所述位置處除去所述溶劑、酸、堿或蝕刻劑。25.如權利要求23或24所述的方法,其中所述裝置還包括在所述電沉積槽與所述第二位置之間的一個或多個位置,并且所述方法還包括使所述工件與溶劑、酸、堿、鈍化劑和沖洗劑中的一種或多種接觸以在所述電沉積槽與所述第二位置之間的一個或多個位置處除去所述溶劑、酸堿和/或鈍化劑。26.如權利要求16-25中任一項所述的方法,其中所述工件由金屬、導電性聚合物或通過包藏導電性材料或無電施加金屬被賦予導電性的非導電性聚合物組成。27.如權利要求16-26中任一項所述的方法,其中所述工件是電線、桿、片狀物、鏈、線或管。28.如權利要求16-27中任一項所述的方法,其中所述電解質是水性電解質。29.如權利要求16-27中任一項所述的方法,其中所述電解質是非水性電解質。30.如權利要求16-29中任一項所述的方法,其中電沉積納米層壓涂層或細粒金屬包括所述電沉積包含一種或多種、兩種或更多種、三種或更多種或四種或更多種不同元素的組合物,所述元素獨立地選自Ag、Al...
【專利技術屬性】
技術研發人員:克里斯蒂娜·A·羅瑪瑟尼,
申請(專利權)人:莫杜美拓有限公司,
類型:發明
國別省市:美國,US
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