基板液體處理方法、基板液體處理裝置以及存儲(chǔ)有基板液體處理程序的計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)制造方法及圖紙

一種基板處理方法，進(jìn)行以下工序：液體處理工序，利用處理液對(duì)基板進(jìn)行液體處理；沖洗處理工序，利用沖洗液對(duì)進(jìn)行液體處理后的所述基板進(jìn)行沖洗處理；以及疏水處理工序，利用疏水化液對(duì)進(jìn)行沖洗處理后的所述基板進(jìn)行疏水處理，接著，進(jìn)行清洗處理工序，利用功能水對(duì)進(jìn)行疏水處理后的所述基板進(jìn)行清洗處理，之后，進(jìn)行乙醇處理工序，使乙醇接觸進(jìn)行清洗處理后的所述基板，之后，進(jìn)行干燥處理工序，使所述基板干燥。通過(guò)清洗處理工序來(lái)去除殘留在進(jìn)行疏水處理后的基板的表面的雜質(zhì)。

Substrate liquid treatment method, substrate, liquid processing device, and computer readable storage medium storing substrate liquid treatment program

A substrate processing method of the following procedures: liquid processing and utilization of substrate for liquid processing liquid; washing process, use the washing liquid to the substrate of the treated liquid processed; and hydrophobic treatment using hydrophobic liquid on the substrate treated by hydrophobic treatment rinse then, cleaning process, after cleaning, the substrate was treated by hydrophobic functional water, ethanol treatment after ethanol exposure of the base board, cleaning treatment, drying process, the drying of the substrate. Impurities that remain on the surface of the substrate after hydrophobic treatment are removed by a cleaning process.

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
【國(guó)外來(lái)華專(zhuān)利技術(shù)】基板液體處理方法、基板液體處理裝置以及存儲(chǔ)有基板液體處理程序的計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)
本專(zhuān)利技術(shù)涉及一種利用疏水化液使進(jìn)行液體處理后的基板的表面疏水化后使該基板的表面干燥的基板液體處理方法、基板液體處理裝置以及存儲(chǔ)有基板液體處理程序的計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)。
技術(shù)介紹
以往，在制造半導(dǎo)體器件、平板顯示器等的情況下，使用基板液體處理裝置利用各種處理液對(duì)半導(dǎo)體晶圓、液晶基板等基板實(shí)施液體處理，之后實(shí)施通過(guò)使基板高速旋轉(zhuǎn)來(lái)去除殘留在基板上的處理液的干燥處理。在該基板液體處理裝置中，隨著形成于基板的表面的電路圖案、蝕刻掩模圖案等圖案的細(xì)微化、高長(zhǎng)寬比化而有可能產(chǎn)生以下現(xiàn)象：在進(jìn)行干燥處理時(shí)，形成于基板的表面的圖案由于殘留在基板上的處理液的表面張力的作用而損壞。因此，在以往的基板液體處理裝置中，在進(jìn)行干燥處理時(shí)向基板供給甲硅烷基化劑等疏水化液來(lái)使基板的表面疏水化。之后，將純水作為清洗液向基板供給，使基板高速旋轉(zhuǎn)來(lái)將清洗液從基板的表面去除。這樣，在以往的基板液體處理裝置中，通過(guò)使基板的表面疏水化來(lái)將圖案與沖洗液之間的接觸角度設(shè)為接近90度的狀態(tài)，以減小清洗液使圖案損壞的力，防止進(jìn)行干燥處理時(shí)圖案損壞(參照專(zhuān)利文獻(xiàn)1。)。用于使基板的表面疏水化的疏水化液能夠在疏水化液所含有的疏水基的作用下使基板的表面疏水化(hydrophobic)。由于該疏水化液中含有許多雜質(zhì)，因此有可能在疏水化后的基板的表面殘留雜質(zhì)。然而，即使向進(jìn)行疏水處理后的基板供給純水的清洗液，也無(wú)法去除殘留在基板的表面的雜質(zhì)。專(zhuān)利文獻(xiàn)1：日本特開(kāi)2010-114439號(hào)公報(bào)
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
本專(zhuān)利技術(shù)的目的在于提供一種能夠將殘留在進(jìn)行疏水處理后的基板的表面的雜質(zhì)去除的技術(shù)。根據(jù)本專(zhuān)利技術(shù)的一個(gè)實(shí)施方式，提供一種基板液體處理方法，進(jìn)行以下工序：液體處理工序，利用處理液對(duì)基板進(jìn)行液體處理；沖洗處理工序，利用沖洗液對(duì)進(jìn)行液體處理后的所述基板進(jìn)行沖洗處理；以及疏水處理工序，利用疏水化液對(duì)進(jìn)行沖洗處理后的所述基板進(jìn)行疏水處理，接著，進(jìn)行清洗處理工序，利用功能水對(duì)進(jìn)行疏水處理后的所述基板進(jìn)行清洗處理，之后，進(jìn)行乙醇處理工序，使乙醇接觸進(jìn)行清洗處理后的所述基板，之后，進(jìn)行干燥處理工序，使所述基板干燥。也可以是，在所述乙醇處理工序與干燥處理工序之間進(jìn)行純水處理工序，利用純水對(duì)所述基板進(jìn)行沖洗處理。能夠使用具有堿性的電解離子水、氨水、氫水、臭氧水中的任一種來(lái)作為所述功能水。也可以是，將所述功能水和所述乙醇從同一噴嘴向所述基板供給。在從所述清洗處理工序向所述乙醇處理工序轉(zhuǎn)移時(shí)，能夠以使所述功能水與所述乙醇的混合比率階梯式地或連續(xù)地變化的方式向所述基板供給所述功能水和所述乙醇。也可以是，在所述乙醇處理工序中包括以下工序：形成所述功能水的條狀流；以及向比所述條狀流更靠所述基板的中心側(cè)的位置供給所述乙醇。也可以是，在形成所述功能水的條狀流的工序中包括以下工序：使所述功能水的供給位置從所述基板的中心側(cè)向外周側(cè)移動(dòng)。根據(jù)本專(zhuān)利技術(shù)的其它實(shí)施方式，提供一種基板處理裝置，具備：基板保持部，其用于保持基板；處理液供給部，其向所述基板供給處理液；沖洗液供給部，其向利用處理液進(jìn)行液體處理后的所述基板供給沖洗液；疏水化液供給部，其向利用沖洗液進(jìn)行沖洗處理后的所述基板供給疏水化液；功能水供給部，其向利用疏水化液進(jìn)行疏水處理后的所述基板供給功能水；乙醇供給部，其向利用功能水進(jìn)行清洗處理后的所述基板供給乙醇；以及控制部，其進(jìn)行控制，以使得在從所述疏水化液供給部對(duì)利用所述沖洗液進(jìn)行沖洗處理后的所述基板供給疏水化液之后，從所述功能水供給部向所述基板供給功能水，之后，在從所述乙醇供給部對(duì)所述基板供給乙醇之后使所述基板干燥。也可以是，所述控制部進(jìn)行控制，以使得在從所述乙醇供給部對(duì)所述基板供給乙醇之后，從所述沖洗液供給部向所述基板進(jìn)行供給。也可以是，將所述功能水和所述乙醇從同一噴嘴向所述基板供給。也可以是，在從所述功能水的供給向所述乙醇的供給轉(zhuǎn)移時(shí)，以使所述功能水與所述乙醇的混合比率階梯式地或連續(xù)地變化的方式向所述基板供給所述功能水和所述乙醇。另外，也可以是，在從所述功能水的供給向所述乙醇的供給轉(zhuǎn)移時(shí)，形成所述功能水的條狀流，向比所述條狀流更靠所述基板的中心側(cè)的位置供給所述乙醇。另外，也可以是，使形成所述條狀流的所述功能水的供給位置從所述基板的中心側(cè)向外周側(cè)移動(dòng)。根據(jù)本專(zhuān)利技術(shù)的另一個(gè)實(shí)施方式，提供一種存儲(chǔ)有基板液體處理程序的計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，其中，該基板液體處理程序使用基板液體處理裝置對(duì)所述基板進(jìn)行處理，該基板液體處理裝置具有：基板保持部，其用于保持基板；處理液供給部，其向所述基板供給處理液；沖洗液供給部，其向利用處理液進(jìn)行液體處理后的所述基板供給沖洗液；疏水化液供給部，其向利用沖洗液進(jìn)行沖洗處理后的所述基板供給疏水化液；功能水供給部，其向利用疏水化液進(jìn)行疏水處理后的所述基板供給功能水；以及控制部，其對(duì)這些部進(jìn)行控制，該存儲(chǔ)有基板液體處理程序的計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)進(jìn)行控制，以使得在從所述疏水化液供給部對(duì)所述基板供給疏水化液之后，從所述功能水供給部向所述基板供給功能水，之后，在從所述乙醇供給部對(duì)所述基板供給乙醇之后使所述基板干燥。附圖說(shuō)明圖1是表示基板液體處理裝置的俯視圖。圖2是表示基板液體處理單元的側(cè)視圖。圖3是表示噴嘴組的說(shuō)明圖。圖4是基板液體處理方法的工序圖。圖5是基板液體處理方法的說(shuō)明圖(液體處理工序(a)、沖洗處理工序(b))。圖6是基板液體處理方法的說(shuō)明圖(疏水處理工序)。圖7是基板液體處理方法的說(shuō)明圖(清洗處理工序)。圖8是基板液體處理方法的說(shuō)明圖(乙醇處理工序(a)、干燥處理工序(b))。圖9是基板液體處理方法的說(shuō)明圖。具體實(shí)施方式下面，參照附圖來(lái)說(shuō)明本專(zhuān)利技術(shù)所涉及的基板液體處理裝置及基板液體處理方法的具體的實(shí)施方式。如圖1所示，基板液體處理裝置1在前端部具有輸入輸出部2。相對(duì)于輸入輸出部2將收容有多個(gè)(例如25個(gè))基板3(在此為半導(dǎo)體晶圓)的承載件4輸入輸出，該承載件4以沿左右方向排列的方式載置于輸入輸出部2。另外，基板液體處理裝置1在輸入輸出部2的后部具有輸送部5。在輸送部5的前側(cè)配置有基板輸送裝置6，在輸送部5的后側(cè)配置有基板交接臺(tái)7。在該輸送部5中，使用基板輸送裝置6來(lái)在基板交接臺(tái)7與載置于輸入輸出部2的任一承載件4之間輸送基板3。并且，基板液體處理裝置1在輸送部5的后方具有處理部8。在處理部8的中央配置有沿前后方向延伸的基板輸送裝置9。在基板輸送裝置9的左右兩側(cè)，用于對(duì)基板3進(jìn)行液體處理的基板液體處理單元10沿前后方向排列。在該處理部8中，使用基板輸送裝置9來(lái)在基板交接臺(tái)7與基板液體處理單元10之間輸送基板3，使用基板液體處理單元10對(duì)基板3進(jìn)行液體處理。如圖2所示，基板液體處理單元10具有基板保持部11、供給部12以及回收部13，由控制部14控制這些部。基板保持部11一邊保持著基板3一邊使基板3旋轉(zhuǎn)。供給部12向基板3供給各種液體、氣體。回收部13回收被供給到基板3的各種液體、氣體。控制部14不僅控制基板液體處理單元10，還控制基板液體處理裝置1整體的動(dòng)作。基板保持部11在處理室15的內(nèi)部大致中央具有上下延伸的旋轉(zhuǎn)軸16。在旋轉(zhuǎn)軸16的上端水平地安裝有圓板狀的轉(zhuǎn)盤(pán)17。在轉(zhuǎn)盤(pán)17的外周端緣沿圓周方向隔開(kāi)等本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種基板液體處理方法，其特征在于，進(jìn)行以下工序：液體處理工序，利用處理液對(duì)基板進(jìn)行液體處理；沖洗處理工序，利用沖洗液對(duì)進(jìn)行液體處理后的所述基板進(jìn)行沖洗處理；以及疏水處理工序，利用疏水化液對(duì)進(jìn)行沖洗處理后的所述基板進(jìn)行疏水處理，接著，進(jìn)行清洗處理工序，利用功能水對(duì)進(jìn)行疏水處理后的所述基板進(jìn)行清洗處理，之后，進(jìn)行乙醇處理工序，使乙醇接觸進(jìn)行清洗處理后的所述基板，之后，進(jìn)行干燥處理工序，使所述基板干燥。

【技術(shù)特征摘要】
【國(guó)外來(lái)華專(zhuān)利技術(shù)】2014.10.21 JP 2014-214418;2015.09.08 JP 2015-176521.一種基板液體處理方法，其特征在于，進(jìn)行以下工序：液體處理工序，利用處理液對(duì)基板進(jìn)行液體處理；沖洗處理工序，利用沖洗液對(duì)進(jìn)行液體處理后的所述基板進(jìn)行沖洗處理；以及疏水處理工序，利用疏水化液對(duì)進(jìn)行沖洗處理后的所述基板進(jìn)行疏水處理，接著，進(jìn)行清洗處理工序，利用功能水對(duì)進(jìn)行疏水處理后的所述基板進(jìn)行清洗處理，之后，進(jìn)行乙醇處理工序，使乙醇接觸進(jìn)行清洗處理后的所述基板，之后，進(jìn)行干燥處理工序，使所述基板干燥。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板液體處理方法，其特征在于，在所述乙醇處理工序與干燥處理工序之間進(jìn)行純水處理工序，利用純水對(duì)所述基板進(jìn)行沖洗處理。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板液體處理方法，其特征在于，使用具有堿性的電解離子水、氨水、氫水、臭氧水中的任一種來(lái)作為所述功能水。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板液體處理方法，其特征在于，將所述功能水和所述乙醇從同一噴嘴向所述基板供給。5.根據(jù)權(quán)利要求1～4中的任一項(xiàng)所述的基板液體處理方法，其特征在于，在從所述清洗處理工序向所述乙醇處理工序轉(zhuǎn)移時(shí)，以使所述功能水與所述乙醇的混合比率階梯式地或連續(xù)地變化的方式向所述基板供給所述功能水和所述乙醇。6.根據(jù)權(quán)利要求1～4中的任一項(xiàng)所述的基板液體處理方法，其特征在于，在所述乙醇處理工序中包括以下工序：形成所述功能水的條狀流；以及向比所述條狀流更靠所述基板的中心側(cè)的位置供給所述乙醇。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的基板液體處理方法，其特征在于，在形成所述功能水的條狀流的工序中包括以下工序：使所述功能水的供給位置從所述基板的中心側(cè)向外周側(cè)移動(dòng)。8.一種基板液體處理裝置，其特征在于，具備：基板保持部，其用于保持基板；處理液供給部，其向所述基板供給處理液；沖洗液供給部，其向利用處理液進(jìn)行液體處理后的所述基板供給沖洗液；疏水化液供給部，其向利用沖洗液進(jìn)行沖洗處理后的所述基板供給疏水化液；功能水供給部，其...

【專(zhuān)利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：中森光則，野中純，
申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人：東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社，
類(lèi)型：發(fā)明
國(guó)別省市：日本,JP