水箱組件及恒濕機制造技術

本實用新型專利技術提供了一種水箱組件及恒濕機。水箱組件包括水箱、檢測設備和除污設備。其中，水箱用于儲存加濕用的水，檢測設備設置在水箱上，用于檢測水箱的透光率是否低于預定值，除污設備設置在水箱上，并與檢測設備連接，除污設備用于接收檢測設備的檢測信號，并對水箱內的污垢進行清除。在使用時，當檢測設備檢測到水箱的透光率小于預定值時，則判斷水箱內的污垢超標。除污設備接收到檢測設備的檢測信號，啟動清除污垢，以實現水箱組件的自清潔，既節省人力，還能確保水箱組件的正常使用。

【技術實現步驟摘要】
水箱組件及恒濕機
本技術涉及空氣調節
，具體而言，涉及一種水箱組件及恒濕機。
技術介紹
恒溫恒濕機主要為電子零部件、工業材料、成品在研發、生產和檢驗各環節的試驗提供恒定濕熱、復雜高低溫交變等試驗環境和試驗條件，適用于電子電器、通訊、化工、五金、橡膠、玩具等各行業。目前，恒溫恒濕機的加濕系統普遍采用電極加濕系統。電極加濕的原理是將電極棒插入電極罐水面下，接通電源，借助水中的離子移動將水加熱至沸騰，產生水蒸汽的產生量大小則取于電極罐中水位的高低，即電極棒插入水中的深度或面積，蒸汽噴桿均勻分布于空調箱或風管中，經空氣吸收而達到加濕的目的。可以說電極加濕系統結構簡單，使用方便。上述的電機加濕系統在使用過程中容器里面的液態水在通電電極的作用下，逐漸變成水蒸汽。當水質不好時，容易在容器表面產生出一層水垢污穢。該水垢會隨時間的推移而增厚，達到一定程度時容易堵塞閥門，甚至降低加濕效果。
技術實現思路
本技術的主要目的在于提供一種水箱組件及恒濕機，以解決現有技術中水箱里產生水垢后影響水箱使用的問題。為了實現上述目的，根據本技術的一個方面，提供了一種水箱組件，包括水箱、檢測設備和除污設備。水箱用于儲存加濕用的水；檢測設備設置在水箱上，用于檢測水箱的透光率是否低于預定值；除污設備設置在水箱上，與檢測設備連接，除污設備用于接收檢測設備的檢測信號，并對水箱內的污垢進行清除。進一步地，水箱上具有透光結構，檢測設備包括設置在水箱上的光敏檢測器，光敏檢測器用于檢測透光結構的透光率。進一步地，檢測設備還包括光源，光源設置在水箱上，光源用于透過透光結構向光敏檢測器照射光線。進一步地，水箱整體由透光結構構成。進一步地，光源和光敏檢測器設置在水箱的外部，并與透光結構對應設置。進一步地，除污設備包括超聲波去污器，超聲波去污器安裝在水箱上。進一步地，水箱的底部設置有排污口，排污口用于排出水箱內的污垢。進一步地，除污設備還包括清洗噴嘴，清洗噴嘴設置在水箱內。進一步地，清洗噴嘴為多個，多個清洗噴嘴在水箱內間隔設置。進一步地，水箱組件還包括水位控制裝置，水箱上設置有進水口，水位控制裝置設置在進水口上。為了實現上述目的，根據本技術的一個方面，提供了一種恒濕機，包括水箱組件，水箱組件為上述的水箱組件。進一步地，恒濕機包括電極，電極設置在水箱組件的水箱中，電極用于產生水蒸氣。應用本技術的技術方案，在使用時，當檢測設備檢測到水箱的透光率小于預定值時，則判斷水箱內的污垢超標。除污設備接收到檢測設備的檢測信號，啟動清除污垢，以實現水箱組件的自清潔，既節省人力，還能確保水箱組件的正常使用。除了上面所描述的目的、特征和優點之外，本技術還有其它的目的、特征和優點。下面將參照圖，對本技術作進一步詳細的說明。附圖說明構成本技術的一部分的說明書附圖用來提供對本技術的進一步理解，本技術的示意性實施例及其說明用于解釋本技術，并不構成對本技術的不當限定。在附圖中：圖1示出了根據本技術的恒濕機的實施例的結構示意圖。其中，上述附圖包括以下附圖標記：10、水箱；11、排污口；20、電極；30、檢測設備；31、光敏檢測器；32、光源；40、除污設備；41、超聲波去污器；42、清洗噴嘴；50、水位控制裝置。具體實施方式需要說明的是，在不沖突的情況下，本技術中的實施例及實施例中的特征可以相互組合。下面將參考附圖并結合實施例來詳細說明本技術。為了使本
的人員更好地理解本技術方案，下面將結合本技術實施例中的附圖，對本技術實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本技術一部分的實施例，而不是全部的實施例。基于本技術中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都應當屬于本技術保護的范圍。需要說明的是，本技術的說明書和權利要求書及上述附圖中的術語“第一”、“第二”等是用于區別類似的對象，而不必用于描述特定的順序或先后次序。應該理解這樣使用的術語在適當情況下可以互換，以便這里描述的本技術的實施例。此外，術語“包括”和“具有”以及他們的任何變形，意圖在于覆蓋不排他的包含，例如，包含了一系列步驟或單元的過程、方法、系統、產品或設備不必限于清楚地列出的那些步驟或單元，而是可包括沒有清楚地列出的或對于這些過程、方法、產品或設備固有的其它步驟或單元。需要注意的是，這里所使用的術語僅是為了描述具體實施方式，而非意圖限制根據本申請的示例性實施方式。如在這里所使用的，除非上下文另外明確指出，否則單數形式也意圖包括復數形式，此外，還應當理解的是，當在本說明書中使用術語“包含”和/或“包括”時，其指明存在特征、步驟、操作、器件、組件和/或它們的組合。除非另外具體說明，否則在這些實施例中闡述的部件和步驟的相對布置、數字表達式和數值不限制本技術的范圍。同時，應當明白，為了便于描述，附圖中所示出的各個部分的尺寸并不是按照實際的比例關系繪制的。對于相關領域普通技術人員已知的技術、方法和設備可能不作詳細討論，但在適當情況下，所述技術、方法和設備應當被視為授權說明書的一部分。在這里示出和討論的所有示例中，任何具體值應被解釋為僅僅是示例性的，而不是作為限制。因此，示例性實施例的其它示例可以具有不同的值。應注意到：相似的標號和字母在下面的附圖中表示類似項，因此，一旦某一項在一個附圖中被定義，則在隨后的附圖中不需要對其進行進一步討論。為了便于描述，在這里可以使用空間相對術語，如“在……之上”、“在……上方”、“在……上表面”、“上面的”等，用來描述如在圖中所示的一個器件或特征與其他器件或特征的空間位置關系。應當理解的是，空間相對術語旨在包含除了器件在圖中所描述的方位之外的在使用或操作中的不同方位。例如，如果附圖中的器件被倒置，則描述為“在其他器件或構造上方”或“在其他器件或構造之上”的器件之后將被定位為“在其他器件或構造下方”或“在其他器件或構造之下”。因而，示例性術語“在……上方”可以包括“在……上方”和“在……下方”兩種方位。該器件也可以其他不同方式定位(旋轉90度或處于其他方位)，并且對這里所使用的空間相對描述做出相應解釋。在本技術的描述中，需要理解的是，方位詞如“前、后、上、下、左、右”、“橫向、豎向、垂直、水平”和“頂、底”等所指示的方位或位置關系通常是基于附圖所示的方位或位置關系，僅是為了便于描述本技術和簡化描述，在未作相反說明的情況下，這些方位詞并不指示和暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位或者以特定的方位構造和操作，因此不能理解為對本技術保護范圍的限制；方位詞“內、外”是指相對于各部件本身的輪廓的內外。圖1示出了本技術的水箱組件的實施例一的結構，水箱組件包括水箱10、檢測設備30和除污設備40。其中，水箱10用于儲存加濕用的水，檢測設備30設置在水箱10上，用于檢測水箱10的透光率是否低于預定值，除污設備40設置在水箱10上，并與檢測設備30連接，除污設備40用于接收檢測設備30的檢測信號，并對水箱10內的污垢進行清除。在使用時，當檢測設備30檢測到水箱10的透光率小于預定值時，則判斷水箱10內的污垢超標。除污設備40接收到檢測本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種水箱組件，其特征在于，包括：水箱(10)，用于儲存加濕用的水；檢測設備(30)，設置在所述水箱(10)上，用于檢測所述水箱(10)的透光率是否低于預定值；除污設備(40)，設置在所述水箱(10)上，與所述檢測設備(30)連接，所述除污設備(40)用于接收所述檢測設備(30)的檢測信號，并對所述水箱(10)內的污垢進行清除。

【技術特征摘要】
1.一種水箱組件，其特征在于，包括：水箱(10)，用于儲存加濕用的水；檢測設備(30)，設置在所述水箱(10)上，用于檢測所述水箱(10)的透光率是否低于預定值；除污設備(40)，設置在所述水箱(10)上，與所述檢測設備(30)連接，所述除污設備(40)用于接收所述檢測設備(30)的檢測信號，并對所述水箱(10)內的污垢進行清除。2.根據權利要求1所述的水箱組件，其特征在于，所述水箱(10)上具有透光結構，所述檢測設備(30)包括設置在所述水箱(10)上的光敏檢測器(31)，所述光敏檢測器(31)用于檢測所述透光結構的透光率。3.根據權利要求2所述的水箱組件，其特征在于，所述檢測設備(30)還包括光源(32)，所述光源(32)設置在所述水箱(10)上，所述光源(32)用于透過所述透光結構向所述光敏檢測器(31)照射光線。4.根據權利要求2所述的水箱組件，其特征在于，所述水箱(10)整體由所述透光結構構成。5.根據權利要求3所述的水箱組件，其特征在于，所述光源(32)和所述光敏檢測器(31)設置在所述水箱(10)的外部，并與所述透光結構對應設置。6.根...

【專利技術屬性】
技術研發人員：劉桂鵬，玉維友，鄧忠文，賀小林，唐杰，
申請(專利權)人：珠海格力電器股份有限公司，
類型：新型
國別省市：廣東,44