線圈盤及電磁烹飪器具制造技術

本實用新型專利技術涉及一種線圈盤及電磁烹飪器具，所述電磁烹飪器具包括所述線圈盤，所述線圈盤包括線圈盤座，以及設于所述線圈盤座上且呈間隔分布的多個繞組線圈，相鄰的兩個所述繞組線圈之間的間距D，5mm≤D≤15mm。本實用新型專利技術的技術方案使線圈盤座上形成多個加熱區，加熱更均勻。

【技術實現步驟摘要】
線圈盤及電磁烹飪器具
本技術涉及電磁烹飪器具
，特別涉及一種線圈盤及電磁烹飪器具。
技術介紹
電磁烹飪器具利用繞組線圈通電時，能夠產生高頻交變電磁場，通過該高頻交變電磁場將電能轉化為內鍋的熱能來烹飪食物。目前，常規電磁烹飪器具的線圈盤，通常是在電磁烹飪器具的線圈盤座上，設置一個繞組線圈。如此設置，使得線圈盤上僅能夠在該繞組線圈對應的區域形成一個加熱區，容易在該加熱區的內外兩側形成加熱盲區，使得線圈盤對內鍋的加熱效果很不均勻。
技術實現思路
本技術的主要目的是提出一種線圈盤，旨在能夠在線圈盤座上形成多個加熱區，實現對內鍋的均勻加熱。為到達上述之技術目的，本技術提供一種線圈盤，所述線圈盤包括線圈盤座，以及設于所述線圈盤座上且呈間隔分布的多個繞組線圈，相鄰的兩個所述繞組線圈之間的間距為D，其中，5mm≤D≤15mm。優選地，所述多個繞組線圈呈圓環形排布。優選地，所述線圈盤座的中心位置設有中心繞組線圈，所述多個繞組線圈分布于所述中心繞組線圈的外圍。優選地，所述線圈盤座上還安裝多個磁條，所述多個磁條包括分別對應所述中心繞組線圈設置的多個第一磁條、以及對應所述多個繞組線圈設置的多個第二磁條。優選地，所述多個第一磁條對應所述中心繞組線圈呈輻射狀排布；所述多個第二磁條對應每一所述繞組線圈呈輻射狀排布。優選地，每一所述第一磁條呈長條狀設置，且自所述中心繞組線圈的內周沿伸出至每一所述繞組線圈的內周沿。優選地，每一所述第二磁條包括呈長條狀的第二磁條主體、以及凸設于所述第二磁條主體的兩端的兩磁條凸部；每一所述繞組線圈的內周沿設有內側安裝孔，每一所述繞組線圈的外周沿設有外側安裝孔，所述外側安裝孔設置于所述線圈盤座的邊緣，每一所述第二磁條的兩磁條凸部分別對應安裝至所述內側安裝孔與所述外側安裝孔。優選地，所述線圈盤座為純平式線圈盤座、平凹式線圈盤座以及純凹式線圈盤座中的一種。本技術還一種電磁烹飪器具，所述電磁烹飪器具包括線圈盤，所述線圈盤包括線圈盤座，以及設于所述線圈盤座上且呈間隔分布的多個繞組線圈，相鄰的兩個所述繞組線圈之間的間距D，5mm≤D≤15mm。優選地，所述電磁烹飪器具為電磁爐、電飯煲或者電壓力鍋。本技術技術方案，通過在所述線圈盤座上設置多個繞組線圈，所述多個繞組線圈在所述線圈盤座上對應形成有多個加熱區，而相鄰的兩個所述繞組線圈之間的間距為D，間距D限定為5mm≤D≤15mm，以此設置，使得所述多個加熱區較為均勻地分布于所述線圈盤座上，且在該間距D的限位范圍內，所述多個繞組線圈之間不易形成加熱盲區。附圖說明為了更清楚地說明本技術實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本技術的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖示出的結構獲得其他的附圖。圖1為本技術的線圈盤的一實施例的立體結構示意圖；圖2為圖1中線圈盤的俯視示意圖；圖3為圖1中線圈盤的立體分解示意圖。本技術附圖標號說明：標號名稱標號名稱10線圈盤座42第二磁條20繞組線圈42a第二磁條主體30中心繞組線圈42b磁條凸部40磁條50內側安裝孔41第一磁條60外側安裝孔本技術目的的實現、功能特點及優點將結合實施例，參照附圖做進一步說明。具體實施方式下面將結合本技術實施例中的附圖，對本技術實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本技術的一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本技術中的實施例，本領域普通技術人員在沒有作出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本技術保護的范圍。需要說明，若本技術實施例中有涉及方向性指示(諸如上、下、左、右、前、后……)，則該方向性指示僅用于解釋在某一特定姿態(如附圖所示)下各部件之間的相對位置關系、運動情況等，如果該特定姿態發生改變時，則該方向性指示也相應地隨之改變。另外，若本技術實施例中有涉及“主”、“側”等的描述，則該“主”、“側”等的描述僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示其相對重要性或者隱含指明所指示的技術特征的數量。由此，限定有“主”、“側”的特征可以明示或者隱含地包括至少一個該特征。另外，各個實施例之間的技術方案可以相互結合，但是必須是以本領域普通技術人員能夠實現為基礎，當技術方案的結合出現相互矛盾或無法實現時應當認為這種技術方案的結合不存在，也不在本技術要求的保護范圍之內。本技術提供一種線圈盤，所述線圈盤用以安裝至電磁烹飪器具內。請參閱圖1和圖2，所述線圈盤包括線圈盤座10，以及設于所述線圈盤座10上且呈間隔分布的多個繞組線圈20，相鄰的兩個所述繞組線圈20之間的間距為D，其中，5mm≤D≤15mm。其中，若相鄰的兩個所述繞組線圈20之間的間距D小于5mm，則相鄰的兩個所述繞組線圈20形成的兩個高頻交變電磁場(亦即加熱區)距離較近，容易發生消磁；若相鄰的兩個所述繞組線圈20之間的間距D大于15mm，則相鄰的兩個所述繞組線圈20形成的兩個高頻交變電磁場距離較遠，容易在所述多個繞組線圈20之間形成加熱盲區，不利于所述線圈盤對內鍋均勻加熱，因此，相鄰的兩個所述繞組線圈20之間的間距為D，限定為5mm≤D≤15mm。本技術技術方案，通過在所述線圈盤座10上設置多個繞組線圈20，所述多個繞組線圈20在所述線圈盤座10上對應形成有多個加熱區，而相鄰的兩個所述繞組線圈20之間的間距為D，間距D限定為5mm≤D≤15mm，以此設置，使得所述多個加熱區較為均勻地分布于所述線圈盤座10上，且在該間距D的限位范圍內，所述多個繞組線圈20之間不易形成加熱盲區。將所述線圈盤安裝至電磁烹飪器具內時，利用所述多個繞組線圈20通電時產生的高頻交變電磁場，處于高頻交變電磁場中的內鍋(例如金屬鍋)切割磁力線而在其內部產生渦旋電流，所述渦旋電流的焦耳熱效應使內鍋升溫，從而將電能轉化為內鍋的熱能來烹飪食物。所述線圈盤座10可為純平式線圈盤座、平凹式線圈盤座以及純凹式線圈盤座中的一種。其中，所述純平式線圈盤座為整體呈平板狀設置；所述平凹式線圈盤座具有呈平板狀設置的底部，以及自所述底部朝上延伸出的側部，所述側部與所述底部之間采用圓弧過渡銜接；所述純凹式線圈盤座具有呈凹面狀設置的底部，以及自所述底部朝上延伸出的側部，所述側部與所述底部之間采用圓弧過渡銜接，且配合呈碗狀設置。于本實施例中，所述線圈盤座10為純平式線圈盤座，所述多個繞組線圈20在所述線圈盤座10的上表面間隔排布。所述多個繞組線圈20在所述線圈盤座10上的排布方式有多種，例如，所述多個繞組線圈20呈多排排布于所述線圈盤座10上，或者所述多個繞組線圈20呈圓環形排布于所述線圈盤座10上，只要所述多個繞組線圈20較為均勻地排布即可。于本實施例中，所述多個繞組線圈20采用上述后一種設置方式，即所述多個繞組線圈20呈圓環形排布。進一步的，于本實施例中，在所述線圈盤座10的中心位置設置中心繞組線圈30，所述多個繞組線圈20分布于所述中心繞組線圈30的外圍。具體的，所述多個繞組線圈20環繞所述中心繞組線圈30而呈圓環形排布，通過合理設置所述中心繞組線圈30及所述多本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種線圈盤，其特征在于，包括線圈盤座，以及設于所述線圈盤座上且呈間隔分布的多個繞組線圈，相鄰的兩個所述繞組線圈之間的間距為D，其中，5mm≤D≤15mm。

【技術特征摘要】
1.一種線圈盤，其特征在于，包括線圈盤座，以及設于所述線圈盤座上且呈間隔分布的多個繞組線圈，相鄰的兩個所述繞組線圈之間的間距為D，其中，5mm≤D≤15mm。2.如權利要求1所述的線圈盤，其特征在于，所述多個繞組線圈呈圓環形排布。3.如權利要求1或2所述的線圈盤，其特征在于，所述線圈盤座的中心位置設有中心繞組線圈，所述多個繞組線圈分布于所述中心繞組線圈的外圍。4.如權利要求3所述的線圈盤，其特征在于，所述線圈盤座上還安裝多個磁條，所述多個磁條包括分別對應所述中心繞組線圈設置的多個第一磁條、以及對應所述多個繞組線圈設置的多個第二磁條。5.如權利要求4所述的線圈盤，其特征在于，所述多個第一磁條對應所述中心繞組線圈呈輻射狀排布；所述多個第二磁條對應每一所述繞組線圈呈輻射狀排布。6.如權利要求5所述的線圈盤，其特征在于...

【專利技術屬性】
技術研發人員：鄒偉，蒙劍友，羅紹生，江太陽，曾露添，蘇暢，
申請(專利權)人：佛山市順德區美的電熱電器制造有限公司，
類型：新型
國別省市：廣東,44