一種密封框膠涂布裝置制造方法及圖紙

本發(fā)明專利技術(shù)提供一種密封框膠涂布裝置，包括：框膠涂布機(jī)構(gòu)，用于在待涂布基板的設(shè)定涂布區(qū)域涂布密封框膠；軌跡控制機(jī)構(gòu)，用于控制所述框膠涂布機(jī)構(gòu)在所述設(shè)定涂布區(qū)域涂布密封框膠；其中，所述待涂布基板位于所述框膠涂布機(jī)構(gòu)的下方，所述框膠涂布機(jī)構(gòu)隨所述軌跡控制機(jī)構(gòu)的運(yùn)動(dòng)而同步運(yùn)動(dòng)，所述軌跡控制機(jī)構(gòu)可同步獲取所述待涂布基板的運(yùn)動(dòng)軌跡并與其進(jìn)行同步對(duì)位，使所述框膠涂布機(jī)構(gòu)的涂布軌跡經(jīng)過所述設(shè)定涂布區(qū)域。本發(fā)明專利技術(shù)改善了玻璃基板來料偏移造成的框膠涂布異常的問題，使框膠涂布軌跡能跟著玻璃來料的偏移方向進(jìn)行及時(shí)的調(diào)整，使得框膠準(zhǔn)確地涂布在設(shè)定涂布區(qū)域，從設(shè)備一方提升了面板制程能力。

Sealing frame glue coating device

The present invention provides a sealing frame glue coating device, including: a frame glue coating mechanism for sealing frame glue coating in setting coating area to be coated substrate; trajectory control mechanism for controlling the frame rubber coating mechanism in the coating area of the sealing frame glue coating set; wherein the substrate to be coated in the the box below the glue coating mechanism, the frame glue coating mechanism with the trajectory control mechanism motion and synchronous motion, the trajectory control mechanism can be synchronized to obtain the substrate to be coated with synchronous trajectory and the trajectory of the coating position, frame glue coating mechanism through the setting of the coating area. The invention improves the frame glue coated glass substrate materials caused by the deviation of the abnormal problems, the frame glue is coated with glass track offset direction of incoming timely adjustments, the frame glue coating on the coating area accurately set, from one side to enhance the equipment panel process capability.

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
一種密封框膠涂布裝置
本專利技術(shù)涉及液晶顯示領(lǐng)域，特別涉及一種密封框膠涂布裝置。
技術(shù)介紹
液晶顯示裝置(LCD，LiquidCrystalDisplay)具有機(jī)身薄、省電、無輻射等眾多優(yōu)點(diǎn)，得到了廣泛的應(yīng)用。TFT-LCD在日常生活中已經(jīng)很普及，如電視、電腦、手機(jī)等顯示屏，該領(lǐng)域技術(shù)不斷更新以更好的服務(wù)消費(fèi)者。不斷的產(chǎn)品升級(jí)使對(duì)TFT-LCD更高的要求，提出了更高的產(chǎn)品品質(zhì)的要求。TFT-LCD(薄膜晶體管液晶顯示器)面板是由陣列基板和彩膜基板組成，陣列基板和彩膜基板通過密封框膠來進(jìn)行組立后粘貼在一起，在密封框膠涂布機(jī)上編輯好的面板所需求的框膠圖形，利用N2(氮?dú)?壓力，將治具內(nèi)的膠材依據(jù)所以框膠軌跡圖形吐出，然后進(jìn)行陣列基板和彩膜基板組立進(jìn)行框膠烘烤后而完全粘貼在一起。針對(duì)密封框膠涂布可以涂布在彩膜基板側(cè)或者陣列基板側(cè)，正常制程為基板來料后通過CCD(ChargedCoupledDevice，圖像傳感器)來抓取對(duì)位到來料基板上四周的Mark(標(biāo)記)，相應(yīng)的框膠治具就移動(dòng)到相應(yīng)的框膠起涂點(diǎn)位置準(zhǔn)備進(jìn)行作業(yè)，然后根據(jù)事先編輯好的框膠軌跡來進(jìn)行框膠吐出。密封治具涂膠的軌跡只能水平或者垂直軌跡進(jìn)行，涂布出來的密封框膠也是筆直的，但是當(dāng)玻璃基板的來料方向發(fā)生了偏移的時(shí)候，密封框膠涂布的軌跡還是水平或者垂直進(jìn)行，所以就會(huì)導(dǎo)致密封涂框膠布達(dá)不到面板所需求的軌跡，造成框膠涂布是斜的，而導(dǎo)致整個(gè)玻璃大板的報(bào)廢，從而影響產(chǎn)品良率和品質(zhì)，對(duì)生產(chǎn)造成嚴(yán)重的困擾。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
本專利技術(shù)的目的在于提供一種密封框膠涂布裝置，以解決現(xiàn)有技術(shù)中，由于待涂布基板發(fā)生偏移，而框膠涂布機(jī)構(gòu)的涂布頭仍然只能按照原先的運(yùn)動(dòng)軌跡進(jìn)行運(yùn)動(dòng)及涂布，導(dǎo)致涂布頭涂布出來的框膠區(qū)域和設(shè)定涂布區(qū)域不符合，進(jìn)而導(dǎo)致該待涂布基板報(bào)廢的問題。本專利技術(shù)的技術(shù)方案如下：一種密封框膠涂布裝置，包括：框膠涂布機(jī)構(gòu)，用于在待涂布基板的設(shè)定涂布區(qū)域涂布密封框膠；軌跡控制機(jī)構(gòu)，用于控制所述框膠涂布機(jī)構(gòu)在所述設(shè)定涂布區(qū)域涂布密封框膠；其中，所述待涂布基板位于所述框膠涂布機(jī)構(gòu)的下方，所述框膠涂布機(jī)構(gòu)隨所述軌跡控制機(jī)構(gòu)的運(yùn)動(dòng)而同步運(yùn)動(dòng)，所述軌跡控制機(jī)構(gòu)可同步獲取所述待涂布基板的運(yùn)動(dòng)軌跡并與其進(jìn)行同步對(duì)位，使所述框膠涂布機(jī)構(gòu)的涂布軌跡經(jīng)過所述設(shè)定涂布區(qū)域。優(yōu)選地，所述框膠涂布機(jī)構(gòu)設(shè)有多個(gè)并排的沿第一方向涂布的第一涂布頭，及多個(gè)并排的沿第二方向涂布的第二涂布頭，所述第一方向與所述第二方向相垂直，所述第一涂布頭及所述第二涂布頭均隨所述軌跡控制機(jī)構(gòu)的運(yùn)動(dòng)而同步改變其運(yùn)動(dòng)方向，使其涂布軌跡經(jīng)過所述設(shè)定涂布區(qū)域。優(yōu)選地，所述框膠涂布機(jī)構(gòu)上設(shè)有檢測(cè)部，所述檢測(cè)部可實(shí)時(shí)檢測(cè)所述設(shè)定涂布區(qū)域的位置，使所述涂布頭僅在經(jīng)過所述設(shè)定涂布區(qū)域時(shí)涂布密封框膠。優(yōu)選地，所述軌跡控制機(jī)構(gòu)上設(shè)有感應(yīng)部及控制部，承載所述待涂布基板的玻璃大板的四周設(shè)有感應(yīng)標(biāo)記，所述感應(yīng)部可實(shí)時(shí)感應(yīng)到所述感應(yīng)標(biāo)記偏轉(zhuǎn)的角度及位置，所述控制部根據(jù)所述感應(yīng)標(biāo)記偏轉(zhuǎn)的角度及位置的信號(hào)，控制所述軌跡控制機(jī)構(gòu)與所述待涂布基板同步對(duì)位偏轉(zhuǎn)。優(yōu)選地，當(dāng)所述第一涂布頭運(yùn)動(dòng)及進(jìn)行涂布時(shí)，所述第二涂布頭保持靜止，當(dāng)所述第二涂布頭運(yùn)動(dòng)及進(jìn)行涂布時(shí)，所述第一涂布頭保持靜止。優(yōu)選地，所述軌跡控制機(jī)構(gòu)包括上下兩層相對(duì)的導(dǎo)軌，其中下層為多條均勻并排的第一方向?qū)к墸蠈訛槎鄺l均勻并排的第二方向?qū)к墸龅谝环较驅(qū)к壟c所述第二方向?qū)к壪嗷ゴ怪鼻蚁嗷オ?dú)立，所述第一方向?qū)к壟c所述第二方向?qū)к壘鶠橹锌諏?dǎo)軌，每條所述第一方向?qū)к壱?guī)范一個(gè)所述第一涂布頭的運(yùn)動(dòng)軌跡，每條所述第二方向?qū)к壱?guī)范一個(gè)所述第二涂布頭的運(yùn)動(dòng)軌跡，所述感應(yīng)部分別設(shè)于所述第一方向?qū)к壟c所述第二方向?qū)к壍膬啥恕?yōu)選地，所述第一涂布頭及所述第二涂布頭均包括噴嘴與容納腔，所述第一涂布頭的噴嘴或容納腔卡于所述第一方向?qū)к墐?nèi)，并沿所述第一方向?qū)к夁\(yùn)動(dòng)，所述第二涂布頭的噴嘴或容納腔卡于所述第二方向?qū)к墐?nèi)，并沿所述第二方向?qū)к夁\(yùn)動(dòng)。優(yōu)選地，當(dāng)所述待涂布基板運(yùn)動(dòng)至所述軌跡控制機(jī)構(gòu)下方后，所述第一涂布頭與所述第二涂布頭交替進(jìn)行涂布，所述第一涂布頭涂布完成后，所述第一方向?qū)к壱苿?dòng)出所述第二方向?qū)к壍南路剑龅诙坎碱^涂布完成后，再進(jìn)行復(fù)位，并依次循環(huán)進(jìn)行涂布。優(yōu)選地，所述待涂布基板的所述設(shè)定涂布區(qū)域?yàn)榫匦涡螤睿鼍匦蔚臋M邊方向與所述第一方向相對(duì)應(yīng)，所述矩形的豎邊方向與所述第二方向相對(duì)應(yīng)，所述控制部根據(jù)所述感應(yīng)部發(fā)送的信號(hào)，控制所述第一方向?qū)к壐鶕?jù)所述橫邊方向偏離所述第一方向的角度進(jìn)行相同角度的偏轉(zhuǎn)，并控制所述第二方向?qū)к壐鶕?jù)所述豎邊方向偏離所述第二方向的角度進(jìn)行相同角度的偏轉(zhuǎn)，以使所述第一涂布頭的涂布軌跡經(jīng)過所述矩形的橫邊，所述第二涂布頭的涂布軌跡經(jīng)過所述矩形的豎邊。優(yōu)選地，所述第一涂布頭及所述第二涂布頭均通過氮?dú)鈮毫⒚芊饪蚰z壓出。本專利技術(shù)的有益效果：本專利技術(shù)的一種密封框膠涂布裝置，通過設(shè)置可以控制框膠涂布機(jī)構(gòu)在設(shè)定涂布區(qū)域涂布密封框膠的軌跡控制機(jī)構(gòu)，使得當(dāng)待涂布基板的來料方向放生偏移時(shí)，框膠涂布機(jī)構(gòu)依然可以實(shí)時(shí)調(diào)整其涂布方向，使其涂布軌跡經(jīng)過設(shè)定涂布區(qū)域，使得框膠準(zhǔn)確地涂布在設(shè)定涂布區(qū)域，解決了待涂布基板因?yàn)橥坎紗栴}而導(dǎo)致報(bào)廢的問題，從設(shè)備一方提升了面板制程能力。【附圖說明】圖1為本專利技術(shù)實(shí)施例的一種密封框膠涂布裝置在待涂布基板的來料方向發(fā)生偏移時(shí)，軌跡控制機(jī)構(gòu)與待涂布基板同步對(duì)位的示意圖；圖2為本專利技術(shù)實(shí)施例的一種密封框膠涂布裝置在待涂布基板的來料方向未發(fā)生偏移時(shí)，軌跡控制機(jī)構(gòu)與待涂布基板同步對(duì)位的示意圖；圖3為本專利技術(shù)實(shí)施例的一種密封框膠涂布裝置的第一涂布頭卡在第一方向?qū)к壣系氖疽鈭D；圖4為本專利技術(shù)實(shí)施例的一種密封框膠涂布裝置的第二涂布頭卡在第二方向?qū)к壣系氖疽鈭D；圖5為本專利技術(shù)實(shí)施例的一種密封框膠涂布裝置的待涂布基板承載在四周設(shè)有感應(yīng)標(biāo)記的玻璃大板上的示意圖；圖6為本專利技術(shù)實(shí)施例的一種密封框膠涂布裝置的第一方向?qū)к壓偷诙较驅(qū)к壣显O(shè)置感應(yīng)部的示意圖。【具體實(shí)施方式】以下各實(shí)施例的說明是參考附加的圖式，用以例示本專利技術(shù)可用以實(shí)施的特定實(shí)施例。本專利技術(shù)所提到的方向用語，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「內(nèi)」、「外」、「?jìng)?cè)面」等，僅是參考附加圖式的方向。因此，使用的方向用語是用以說明及理解本專利技術(shù)，而非用以限制本專利技術(shù)。在圖中，結(jié)構(gòu)相似的單元是以相同標(biāo)號(hào)表示。實(shí)施例一本專利技術(shù)的基本思路為：相對(duì)于普通的玻璃基板的框膠涂布設(shè)備，本專利技術(shù)的密封框膠涂布裝置主要是通過在框膠涂布機(jī)構(gòu)上增加裝限制涂布軌跡的軌跡控制機(jī)構(gòu)，通過該軌跡控制機(jī)構(gòu)來同承載在玻璃大板50上的待涂布基板60進(jìn)行同步對(duì)位，其中所述玻璃大板50的四個(gè)角落設(shè)有感應(yīng)標(biāo)記200，如圖5所示。所述軌跡控制機(jī)構(gòu)端部設(shè)有感應(yīng)部100和控制部(圖中未標(biāo)示)，該感應(yīng)部100可實(shí)時(shí)感應(yīng)到所述感應(yīng)標(biāo)記200偏轉(zhuǎn)的角度及位置，并將該信號(hào)發(fā)送給控制部，控制部再控制所述軌跡控制機(jī)構(gòu)與所述待涂布基板60同步對(duì)位偏轉(zhuǎn)。如果待涂布基板60的來料方向偏移了，該軌跡控制機(jī)構(gòu)會(huì)根據(jù)偏移的標(biāo)記進(jìn)行同樣的角度和位置的偏移，由于框膠涂布機(jī)構(gòu)受到該軌跡控制機(jī)構(gòu)的限制，會(huì)跟隨著軌跡控制機(jī)構(gòu)進(jìn)行偏移后的框膠涂布，避免了待涂布基板60的來料方向發(fā)生偏移造成的框膠涂布異常報(bào)廢問題。請(qǐng)參考圖1至圖6，圖1為本專利技術(shù)本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種密封框膠涂布裝置，其特征在于，包括：框膠涂布機(jī)構(gòu)，用于在待涂布基板的設(shè)定涂布區(qū)域涂布密封框膠；軌跡控制機(jī)構(gòu)，用于控制所述框膠涂布機(jī)構(gòu)在所述設(shè)定涂布區(qū)域涂布密封框膠；其中，所述待涂布基板位于所述框膠涂布機(jī)構(gòu)的下方，所述框膠涂布機(jī)構(gòu)隨所述軌跡控制機(jī)構(gòu)的運(yùn)動(dòng)而同步運(yùn)動(dòng)，所述軌跡控制機(jī)構(gòu)可同步獲取所述待涂布基板的運(yùn)動(dòng)軌跡并與其進(jìn)行同步對(duì)位，使所述框膠涂布機(jī)構(gòu)的涂布軌跡經(jīng)過所述設(shè)定涂布區(qū)域。

【技術(shù)特征摘要】
1.一種密封框膠涂布裝置，其特征在于，包括：框膠涂布機(jī)構(gòu)，用于在待涂布基板的設(shè)定涂布區(qū)域涂布密封框膠；軌跡控制機(jī)構(gòu)，用于控制所述框膠涂布機(jī)構(gòu)在所述設(shè)定涂布區(qū)域涂布密封框膠；其中，所述待涂布基板位于所述框膠涂布機(jī)構(gòu)的下方，所述框膠涂布機(jī)構(gòu)隨所述軌跡控制機(jī)構(gòu)的運(yùn)動(dòng)而同步運(yùn)動(dòng)，所述軌跡控制機(jī)構(gòu)可同步獲取所述待涂布基板的運(yùn)動(dòng)軌跡并與其進(jìn)行同步對(duì)位，使所述框膠涂布機(jī)構(gòu)的涂布軌跡經(jīng)過所述設(shè)定涂布區(qū)域。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的密封框膠涂布裝置，其特征在于，所述框膠涂布機(jī)構(gòu)設(shè)有多個(gè)并排的沿第一方向涂布的第一涂布頭，及多個(gè)并排的沿第二方向涂布的第二涂布頭，所述第一方向與所述第二方向相垂直，所述第一涂布頭及所述第二涂布頭均隨所述軌跡控制機(jī)構(gòu)的運(yùn)動(dòng)而同步改變其運(yùn)動(dòng)方向，使其涂布軌跡經(jīng)過所述設(shè)定涂布區(qū)域。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的密封框膠涂布裝置，其特征在于，所述框膠涂布機(jī)構(gòu)上設(shè)有檢測(cè)部，所述檢測(cè)部可實(shí)時(shí)檢測(cè)所述設(shè)定涂布區(qū)域的位置，使所述第一涂布頭與第二涂布頭僅在經(jīng)過所述設(shè)定涂布區(qū)域時(shí)涂布密封框膠。4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的密封框膠涂布裝置，其特征在于，所述軌跡控制機(jī)構(gòu)上設(shè)有感應(yīng)部及控制部，承載所述待涂布基板的玻璃大板的四周設(shè)有感應(yīng)標(biāo)記，所述感應(yīng)部可實(shí)時(shí)感應(yīng)到所述感應(yīng)標(biāo)記偏轉(zhuǎn)的角度及位置，所述控制部根據(jù)所述感應(yīng)標(biāo)記偏轉(zhuǎn)的角度及位置的信號(hào)，控制所述軌跡控制機(jī)構(gòu)與所述待涂布基板同步對(duì)位偏轉(zhuǎn)。5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的密封框膠涂布裝置，其特征在于，當(dāng)所述第一涂布頭運(yùn)動(dòng)及進(jìn)行涂布時(shí)，所述第二涂布頭保持靜止，當(dāng)所述第二涂布頭運(yùn)動(dòng)及進(jìn)行涂布時(shí)，所述第一涂布頭保持靜止。6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的密封框膠涂布裝置，其特征在于，所述軌跡控制機(jī)構(gòu)包括上下兩層相對(duì)的導(dǎo)軌，其中下層...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：羅忠云，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：深圳市華星光電技術(shù)有限公司，
類型：發(fā)明
國(guó)別省市：廣東,44