The invention discloses an automatic cleaning mechanism and optical device comprises a fixed frame, sliding connected to the fixed frame wiping component; the wiping component is used to wipe to wipe the block to be cleaned plate; the wiping blade block is provided with a direct contact with the plate to be cleaned; the scraping and cleaning plate the movement direction of 20 degrees - 90 degrees inclination. The transparent turntable of the invention is cleaned by cleaning the surface of the transparent turntable through an automatic wiping mechanism arranged at the lower part. The rotating power component drives the transparent turntable, and the wiping block is cleaned by the transparent rotary table, and the collected sundries are sucked away by a suction chamber which is connected with the vacuum air source. With automatic cleaning mechanism of the splitting device, high degree of automation, high cleaning efficiency, no need to clear the turntable after cleaning, clean way simple and fast. The automatic wiping mechanism can clean the transparent turntable in time, so that the detected electronic device has high accuracy and high efficiency.
【技術實現步驟摘要】
一種自動擦拭機構及其分光設備
本專利技術涉及電子器件檢測設備
,更具體地說是指一種自動擦拭機構及其分光設備。
技術介紹
分光機是生產LED不可缺少的設備之一,用來對LED按照發出光的波長(顏色)、光強、電流電壓大小進行分類篩選。轉盤部分是分光機主要機構之一,承載電子元器件的測試過程,承接著設備各主功能模塊動作的流程以及各輸入輸出之間的層次關系,各主功能機構圍繞轉盤工位成遞接關系逐次完成動作。元器件的測試部位為引腳部位,一般底面均有引腳,部分元器件的引腳延展至側面。按元器件測試方式區分,目前常用的轉盤形式可分為夾測方式與底測方式兩種。其中,元器件夾測方式,材料放置轉盤吸嘴槽內,測試時利用元器件的側面引腳進行測試,夾測方式存在局限性,對側面無引腳的元器件無法實現測試。另一種,元器件底部引腳測試方式,測試前,先調試保證測試針對準轉盤吸嘴過針孔位,以免偏位造成斷針,測試時測試針須穿過轉盤吸嘴,測試動作時間須加上測試針完全離開轉盤時間,此測試方式調試、操作較難,效率低,探針壽命短,成本高。還有,分光設備在生產的過程中,透明轉盤經常會被灰塵等雜物污染,會對檢測造成影響;而且清潔時,需要拆卸下來才能進行清潔,過程繁瑣,清潔效率低。
技術實現思路
本專利技術的目的在于克服現有技術的缺陷,提供一種自動擦拭機構及其分光設備。為實現上述目的,本專利技術采用以下技術方案:一種自動擦拭機構,包括固定架,滑動聯接于固定架的擦拭組件;所述擦拭組件設有用于擦拭待清潔板的擦拭塊;所述擦拭塊設有直接與待清潔板接觸的刮片;所述刮片與待清潔板運動方向成20°—90°傾斜角。其進一步技術方案為: ...
【技術保護點】
一種自動擦拭機構,其特征在于,包括固定架,滑動聯接于固定架的擦拭組件;所述擦拭組件設有用于擦拭待清潔板的擦拭塊;所述擦拭塊設有直接與待清潔板接觸的刮片;所述刮片與待清潔板運動方向成20°—90°傾斜角。
【技術特征摘要】
1.一種自動擦拭機構,其特征在于,包括固定架,滑動聯接于固定架的擦拭組件;所述擦拭組件設有用于擦拭待清潔板的擦拭塊;所述擦拭塊設有直接與待清潔板接觸的刮片;所述刮片與待清潔板運動方向成20°—90°傾斜角。2.根據權利要求1所述的一種自動擦拭機構,其特征在于,所述的擦拭塊至少為二個,且相對設置;所述擦拭塊設于夾持動力件上,以使擦拭塊具有相對運動;所述待清潔板置于擦拭塊之間并且擦拭塊相向運動,以使刮片對待清潔板上下表面接觸。3.根據權利要求1所述的一種自動擦拭機構,其特征在于,所述的擦拭塊近于待清潔板表面設有吸灰腔,且吸灰腔與設有的真空氣源聯通;所述吸灰腔設于刮片的傾斜角一側。4.根據權利要求2或3所述的一種自動擦拭機構,其特征在于,還包括用于驅動待清潔板運動的旋轉動力件;所述旋轉動力件與擦拭組件固定聯接,以使旋轉動力件、擦拭組件均與固定架滑動聯接;所述旋轉動力件動力輸出端設有驅動待清潔板做旋轉運動的驅動輪。5.根據權利要求4所述的一種自動擦拭機構,其特征在于,所述的固定架設有滑動動力件,滑動動力件動力輸出端設有固定板;所述旋轉動力件、擦拭組件均固定聯接于固定板;所述滑動動力件驅動固定板運動,以使旋轉動力件和擦拭組件靠近或遠離待清潔板。6.根據權利要求5所述的一種自動擦拭機構,其特征在于,所述滑動動力件設于固定架下方,且與固定板固定聯接;所述固定板延伸至固定架上端,且通過設有的滑軌與固定架滑動聯接;所述旋轉動力件、夾持動力件均固定聯接于固定板上側;所述旋轉動力件...
【專利技術屬性】
技術研發人員:卓維煌,劉駿,蔡建鎂,齊建,
申請(專利權)人:深圳市華騰半導體設備有限公司,
類型:發明
國別省市:廣東,44
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