相位差膜及其制造方法、偏振片、以及顯示裝置制造方法及圖紙

本發明專利技術提供一種相位差膜的制造方法，所述相位差膜具有逆波長分散特性，并且由于其波長分散變化少，因此可靠性高，由相位差變化的部位依賴性引起的顯示不均少。該相位差膜的制造方法中，所述相位差膜滿足下述式(1)及(2)：0.70＜Re

Phase difference film, method for manufacturing the same, polarizing plate, and display device

The invention provides a method for manufacturing a phase difference film, the phase difference film having reverse wavelength dispersion characteristics, and because of the wavelength dispersion changes little, so the reliability is high, the phase difference caused by the position dependent showed less uneven. In the manufacturing method of the phase difference film, the phase difference film satisfies the following formula (1) and (2):0.70 < Re

【技術實現步驟摘要】
相位差膜及其制造方法、偏振片、以及顯示裝置本申請是申請日為2013年1月10日、申請號為201380011264.0、專利技術名稱為“相位差膜及其制造方法、偏振片、以及顯示裝置”的申請的分案申請。
本專利技術涉及相位差膜及其制造方法、以及具備該相位差膜的偏振片及顯示裝置。特別是，本專利技術涉及具有逆波長分散特性的相位差膜、以及通過對高分子膜進行拉伸來制造該相位差膜的方法，所述相位差膜的波長分散變化少，基于這一點，其可靠性高，且由相位差變化的部位依賴性引起的顯示不均少。
技術介紹
近年來，伴隨著顯示器的普及，對于顯示器中所使用的光學膜所要求的性能也不斷提高。為此，要求利用新型材料及新型工藝來開發光學膜。作為光學膜的一種，包括相位差膜。相位差膜的特性包括相位差值的波長依賴性，已開發了具有越是用長波長的光進行測定其相位差值越大的特性(也稱為逆波長分散特性)的相位差膜。對于相位差膜、尤其是具有逆波長分散特性的相位差膜，日本特愿2010-271860號說明書出于大量生產寬幅且薄型的膜等目的，從行進性、加工性、制品可靠性等觀點出發，公開了改善膜脆性的技術。日本特開2009-086651號公報公開了一種目的在于使用熔融粘度低、環境負擔小、流動性、成型性、耐熱性、長期相位差穩定性、波長分散性優異的相位差膜來提供即使從斜向觀察也具有高對比度、可實現不帶有藍色的良好顯示的圓偏振片及顯示裝置的技術。然而，在這些文獻中，并未進行由下述情況引起的顯示不均的研究，即，當用于顯示裝置用偏振片等中的相位差膜在顯示裝置使用時等長期暴露于高溫條件的情況下，相位差膜的相位差變化會因相位差膜上位置的不同而不同。現有技術文獻專利文獻專利文獻1：日本特愿2010-271860號說明書專利文獻2：日本特開2009-086651號公報
技術實現思路
專利技術要解決的問題本專利技術首次發現，當相位差膜以經由粘結劑貼合于玻璃的狀態長期置于高溫條件下時，在相位差膜的中央部，相位差增加，同時，在相位差膜的端部，相位差降低，而相位差變化存在這樣的部位依賴性正是造成顯示不均的原因。于是，本專利技術基于下述見解而完成，即，通過使高溫處理前后相位差膜的波長分散變化在給定范圍內，并在相位差膜的制法中采用給定的多段收縮工序，可使上述顯示不均的問題得以解決。解決問題的方法本專利技術的相位差膜的制造方法的特征在于，該相位差膜滿足下述式(1)及(2)：0.70＜Re1[450]/Re1[550]＜0.97…(1)1.5×10-3＜Δn＜6.0×10-3…(2)(式中，Re1[450]及Re1[550]分別是在23℃下用波長450nm及550nm的光測定的相位差膜的面內相位差值，Δn是用波長550nm的光測定的相位差膜的面內雙折射)，上述制造方法包括下述工序：連續地輸送并供給長條的高分子膜的工序；相對于輸送方向橫向拉伸上述高分子膜的拉伸工序；在上述拉伸工序后，使上述高分子膜沿上述橫向收縮的第1收縮工序；以及在上述第1收縮工序后，使上述高分子膜沿上述橫向收縮的第2收縮工序，上述第1收縮工序中的收縮溫度T1(℃)和上述第2收縮工序中的收縮溫度T2(℃)滿足下述式(3)：1＜(T1－T2)≤10…(3)。作為本專利技術的一個實施方式，上述制造方法還包括下述工序：在上述第2收縮工序后，使上述高分子膜沿上述橫向收縮的第3收縮工序，上述第2收縮工序中的收縮溫度T2(℃)和上述第3收縮工序中的收縮溫度T3(℃)滿足下述式(4)：1＜(T2－T3)≤10…(4)。作為本專利技術的一個實施方式，上述拉伸工序中的拉伸溫度T0(℃)和上述第1收縮工序中的收縮溫度T1(℃)滿足下述式(5)：0≤(T0－T1)≤10…(5)。作為本專利技術的一個實施方式，上述第1收縮工序中的收縮溫度T1(℃)、上述第2收縮工序中的收縮溫度T2(℃)、及上述第3收縮工序中的收縮溫度T3(℃)滿足下述式(6)：(Tg－20)＜T＜(Tg+3)…(6)(式中，Tg為上述高分子膜的玻璃化轉變溫度，T為T1、T2或T3)。作為本專利技術的一個實施方式，利用上述制造方法得到的相位差膜滿足下述式(7)：2°＜(取向角的最大值－取向角的最小值)＜10°…(7)。作為本專利技術的一個實施方式，利用上述制造方法得到的相位差膜滿足下述式(8)：|Re1[450]/Re1[550]－Re2[450]/Re2[550]|＜0.02…(8)(式中，Re1[450]及Re1[550]分別是在23℃下用波長450nm及550nm的光測定的相位差膜的面內相位差值，Re2[450]及Re2[550]分別是在23℃下用波長450nm及550nm的光測定的、于溫度90℃熱處理100小時后的相位差膜的面內相位差值)。本專利技術的相位差膜滿足下述式(1)、(2)及(8)：0.70＜Re1[450]/Re1[550]＜0.97…(1)1.5×10-3＜Δn＜6.0×10-3…(2)|Re1[450]/Re1[550]－Re2[450]/Re2[550]|＜0.02…(8)(式中，Re1[450]及Re1[550]分別是在23℃下用波長450nm及550nm的光測定的相位差膜的面內相位差值，Δn是用波長550nm的光測定的相位差膜的面內雙折射，Re2[450]及Re2[550]分別是在23℃下用波長450nm及550nm的光測定的、于溫度90℃熱處理100小時后的相位差膜的面內相位差值)。作為本專利技術的一個實施方式，上述相位差膜滿足下述式(7)：2°＜(取向角的最大值－取向角的最小值)＜10°…(7)。作為本專利技術的一個實施方式，上述相位差膜包含以下述聚合物為主成分的高分子，所述聚合物具有主鏈和側鏈，所述主鏈具有拉伸取向性，所述側鏈包含在260～380nm內具有吸收端的單元，并且該側鏈的面與所述主鏈的延伸方向交叉。本專利技術還提供具備上述相位差膜和起偏鏡的偏振片、以及具備這樣的偏振片的顯示裝置。上述偏振片可以為直線偏振片、圓偏振片等。另外，顯示裝置可以為OLED顯示裝置等。附圖說明圖1是本專利技術的一個實施方式中的拉伸工序及收縮工序的示意圖。圖2(a)～(d)是本專利技術的優選實施方式中將相位差膜用于偏振片時的剖面示意圖。圖3是示出本專利技術的一個實施方式中的起偏鏡的制造工序的概念的模式圖。符號說明1起偏鏡2、2’任意的保護層3、3’光學膜4相位差膜11偏振片300放出部310碘水溶液浴320含有硼酸和碘化鉀的水溶液浴330含有碘化鉀的水溶液浴340干燥裝置350起偏鏡360卷取部具體實施方式<1.相位差膜>本專利技術的相位差膜通常為拉伸高分子膜而得到的膜。本說明書中，相位差膜是指在面內和/或厚度方向具有雙折射的膜。本說明書中，所述Re1[550]是指，對于實施后述熱處理之前的相位差膜，在23℃下利用波長550nm的光測定的面內相位差值。Re1[550]可通過式：Re1[550]＝(nx-ny)×d而求出，其中，將在波長550nm下相位差膜的慢軸方向、快軸方向的折射率分別設為nx、ny，將相位差膜的厚度設為d(nm)。需要說明的是，所述慢軸是指面內折射率最大的方向。所述Re1[450]除了是利用波長450nm的光進行測定以外，與Re1[550]的情況相同。本專利技術的相位差膜滿足0.70＜Re1[450]/Re1[550本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種相位差膜，其滿足下述式(1)、(2)及(8)，0.70＜Re

【技術特征摘要】
2012.02.27 JP 2012-0404991.一種相位差膜，其滿足下述式(1)、(2)及(8)，0.70＜Re1[450]/Re1[550]＜0.97…(1)1.5×10-3＜Δn＜6.0×10-3…(2)|Re1[450]/Re1[550]－Re2[450]/Re2[550]|＜0.02…(8)式中，Re1[450]及Re1[550]分別是在23℃下用波長450nm及550nm的光測定的相位差膜的面內相位差值，Δn是用波長550nm的光測定的相位差膜的面內雙折射，Re2[450]及Re2[55...

【專利技術屬性】
技術研發人員：飯田敏行，清水享，村上奈穗，
申請(專利權)人：日東電工株式會社，
類型：發明
國別省市：日本,JP