本發(fā)明專利技術(shù)提供了一種承載裝置及離子注入設(shè)備,所述承載裝置包括:用于承托基板的承托臺;以及,用于支撐基板的多個支撐部件,各支撐部件以可移動地方式設(shè)置在所述承托臺上,以使各支撐部件在基板上的支撐位置可調(diào)節(jié)。本發(fā)明專利技術(shù)提供的承載裝置及離子注入設(shè)備,能夠減少由于支撐部件與基板接觸所引起的亮暗點、白Mura等不良產(chǎn)生。
Bearing device and ion implantation device
The present invention provides a bearing device and ion implantation device, the bearing device comprises a supporting table used for supporting a substrate; and a plurality of support members for supporting a substrate, each support member movably disposed on the supporting table, so that the support position on the substrate of the supporting parts adjustable. The invention provides a bearing device and ion implantation equipment, can reduce caused by contact with the substrate supporting member of bright and white Mura produced adverse scotoma.
【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
承載裝置及離子注入設(shè)備
本專利技術(shù)涉及一種專門用于制造或處理固體器件的設(shè)備,特別是一種承載裝置及離子注入設(shè)備。
技術(shù)介紹
離子注入技術(shù)是近30年來在國際上蓬勃發(fā)展和廣泛應(yīng)用的一種材料表面改性技術(shù)。離子注入的基本原理是:用能量為100keV量級的離子束入射到材料中去,離子束與材料中的原子或分子將發(fā)生一系列物理的和化學(xué)的相互作用,入射離子逐漸損失能量,最后停留在材料中,并引起材料表面成分、結(jié)構(gòu)和性能發(fā)生變化,從而優(yōu)化材料表面性能或獲得某些新的優(yōu)異性能。在離子注入(Implant)過程中,玻璃基板首先會被水平放置于基板承載裝置的承載臺(Platen)上,而后由承載臺垂直立起進行掃描。在此過程中,承載臺上的支撐部件(Pin)會與玻璃基板的背部接觸,由于現(xiàn)有的承載臺上的支撐部件的頂部呈球形,與玻璃基板背部接觸面積小,且支撐部件是固定于承載臺上,隨著使用次數(shù)的增加,支撐部件的表面磨損,在承載臺翻動過程中容易產(chǎn)生靜電,尤其是,當支撐部件的支撐位置在顯示面板的有效顯示區(qū)(A/A區(qū)),玻璃基板背部靜電釋放,會對TFT(ThinFilmTransistor,薄膜晶體管)產(chǎn)生影響,引起亮暗點、白Mura等不良。
技術(shù)實現(xiàn)思路
本專利技術(shù)的目的在于提供一種承載裝置及離子注入設(shè)備,能夠減少由于支撐部件與基板接觸所引起的亮暗點、白Mura等不良產(chǎn)生。本專利技術(shù)所提供的技術(shù)方案如下:一種承載裝置,包括:用于承托基板的承托臺;以及,用于支撐基板的多個支撐部件,各支撐部件以可移動地方式設(shè)置在所述承托臺上,以使各支撐部件在基板上的支撐位置可調(diào)節(jié)。進一步的,在所述承托臺上設(shè)置有導(dǎo)軌,在所述導(dǎo)軌上設(shè)置有能夠沿所述導(dǎo)軌移動的多個滑動塊,其中在每一所述滑動塊上連接有至少一個所述支撐部件。進一步的,所述導(dǎo)軌為凸出于所述承托臺側(cè)面外的長條形凸塊結(jié)構(gòu),所述滑動塊中部形成有凹槽,所述凹槽的槽口朝向所述長條形凸塊結(jié)構(gòu),以使所述滑動塊環(huán)套在所述長條形凸塊結(jié)構(gòu)上。進一步的,在所述凹槽的內(nèi)壁與所述導(dǎo)軌的外周面之間設(shè)置有多個滾珠,多個所述滾珠排列成至少一排,且所述滾珠的排列方向與所述導(dǎo)軌的延伸方向一致。進一步的,所述滑動塊包括一用于形成所述凹槽的槽底的第一部分、以及用于分別形成所述凹槽的兩側(cè)壁的第二部分和第三部分,其中,所述第二部分和所述第三部分均可拆卸地連接在所述第一部分上,且所述第二部分和所述第三部分上分別設(shè)置所述滾珠。進一步的,所述凹槽為槽底尺寸大于槽口尺寸的梯形槽結(jié)構(gòu),所述導(dǎo)軌為與所述凹槽結(jié)構(gòu)相匹配的、橫截面呈梯形的長條形凸塊結(jié)構(gòu)。進一步的,所述承托臺包括相對的第一側(cè)邊和第二側(cè)邊、及相對的第三側(cè)邊和第四側(cè)邊,在所述第一側(cè)邊設(shè)置有能夠使得所述承托臺由水平狀態(tài)翻轉(zhuǎn)成豎直狀態(tài)的翻轉(zhuǎn)軸,所述導(dǎo)軌沿所述承托臺的第三側(cè)邊和第四側(cè)邊的延伸方向設(shè)置。進一步的,所述承載裝置還包括能夠驅(qū)動各滑動塊在所述導(dǎo)軌上移動的驅(qū)動機構(gòu),所述驅(qū)動機構(gòu)包括:橫桿,多個支撐部件呈陣列排布,同一行的多個支撐部件中各支撐部件所對應(yīng)的滑動塊通過同一根橫桿連接一起,以使同一行的多個支撐部件能夠同步移動;設(shè)置在所述承托臺的第三側(cè)邊和第四側(cè)邊的至少一個側(cè)邊上的驅(qū)動軌道,所述橫桿的一端設(shè)置在所述驅(qū)動軌道上,并能夠沿所述驅(qū)動軌道移動;以及,用于驅(qū)動所述橫桿沿所述驅(qū)動軌道往復(fù)移動的驅(qū)動部。進一步的,所述驅(qū)動部包括:驅(qū)動馬達,所述驅(qū)動馬達包括輸出軸;以及能夠在所述輸出軸驅(qū)動下旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)齒輪,所述橫桿的一端連接在所述旋轉(zhuǎn)齒輪的中心,且所述旋轉(zhuǎn)齒輪與所述橫桿之間能夠相對轉(zhuǎn)動;其中在所述驅(qū)動軌道上設(shè)置有齒條,所述齒條與所述旋轉(zhuǎn)齒輪嚙合。進一步的,所述承托臺呈階梯狀結(jié)構(gòu),所述承托臺的厚度從靠近所述第一側(cè)邊的一側(cè)向靠近所述第二側(cè)邊的一側(cè)呈階梯狀逐漸減小。進一步的,所述支撐部件包括用于與基板接觸的接觸端、及與所述接觸端相對的連接端,其中,所述支撐部件的接觸端端面為具有預(yù)定面積的平面結(jié)構(gòu)。進一步的,所述支撐部件為一圓柱形結(jié)構(gòu),且所述接觸端的邊緣為經(jīng)圓滑化處理的圓滑倒角結(jié)構(gòu)。一種離子注入設(shè)備,包括如上所述的承載裝置。本專利技術(shù)所帶來的有益效果如下:本專利技術(shù)所提供的承載裝置,其在承托臺上設(shè)置可移動的支撐部件,從而可以根據(jù)不同型號的基板,調(diào)節(jié)各支撐部件在基板上的支撐位置,以避讓開基板上的預(yù)定區(qū)域,例如:避讓開液晶屏的有效顯示區(qū)(A/A區(qū)),防止支撐部件與基板之間產(chǎn)生的靜電對液晶屏的薄膜晶體管產(chǎn)生影響,從而減少不良產(chǎn)生。附圖說明圖1表示本專利技術(shù)實施例中提供的承載裝置的整體結(jié)構(gòu)示意圖;圖2表示本專利技術(shù)實施例中提供的承載裝置的導(dǎo)軌與滑動塊的配合結(jié)構(gòu)示意圖;圖3表示本專利技術(shù)實施例中提供的承載裝置的滑動塊及支撐部件的結(jié)構(gòu)示意圖;圖4表示本專利技術(shù)實施例中提供的承載裝置的承托臺的側(cè)面結(jié)構(gòu)示意圖。具體實施方式以下結(jié)合附圖對本專利技術(shù)的原理和特征進行描述,所舉實例只用于解釋本專利技術(shù),并非用于限定本專利技術(shù)的范圍。針對現(xiàn)有技術(shù)中基板承載裝置上的支撐部件與液晶屏等基板之間接觸產(chǎn)生靜電,會導(dǎo)致產(chǎn)生不良的問題,本專利技術(shù)提高了一種承載裝置,能夠減少由于支撐部件與基板接觸所引起的亮暗點、白Mura等不良產(chǎn)生。如圖1所示,本專利技術(shù)實施例中所提供的承載裝置,包括:用于承托基板的承托臺100;以及,用于支撐基板的多個支撐部件200,各支撐部件200以可移動地方式設(shè)置在所述承托臺100上,以使各支撐部件200在基板上的支撐位置可調(diào)節(jié)。本專利技術(shù)所提供的承載裝置,其在承托臺100上設(shè)置的多個支撐部件200可以移動,從而可以根據(jù)不同型號的基板,調(diào)節(jié)各支撐部件200在基板上的支撐位置,以避讓開基板上的預(yù)定區(qū)域,例如:避讓開液晶屏的有效顯示區(qū)(A/A區(qū)),防止支撐部件200與基板之間產(chǎn)生的靜電對液晶屏的薄膜晶體管產(chǎn)生影響,從而減少不良產(chǎn)生。如圖1和圖2所示,在本專利技術(shù)所提供的實施例中,優(yōu)選的,在所述承托臺100上設(shè)置有導(dǎo)軌300,在所述導(dǎo)軌300上設(shè)置有能夠沿所述導(dǎo)軌300移動的多個滑動塊400,其中在每一所述滑動塊400上連接有至少一個所述支撐部件200。采用上述方案,通過在所述承托臺100上設(shè)置導(dǎo)軌300,并在導(dǎo)軌300上設(shè)置可移動的滑動塊400,通過將支撐部件200與滑動塊400連接,在導(dǎo)軌300上移動滑動塊400,來實現(xiàn)支撐部件200的移動,這種利用滑動塊400和導(dǎo)軌300配合實現(xiàn)支撐部件200移動的方式,結(jié)構(gòu)簡單,操作方便。應(yīng)當理解的是,在實際應(yīng)用中,所述支撐部件200在所述承托臺100上的可移動方式并不僅局限于此,還可以采用其他方式來實現(xiàn),對此不再一一列舉。以下提供一種所述導(dǎo)軌300與所述滑動塊400配合的優(yōu)選實施方式。如圖2和圖3所示,優(yōu)選的,所述導(dǎo)軌300為凸出于所述承托臺100側(cè)面外的長條形凸塊結(jié)構(gòu),所述滑動塊400中部形成有凹槽401,所述凹槽401的槽口朝向所述長條形凸塊結(jié)構(gòu),以使所述滑動塊400環(huán)套在所述長條形凸塊結(jié)構(gòu)上。采用上述方案,所述導(dǎo)軌300可以設(shè)置在所述承托臺100的側(cè)面,其設(shè)計為一凸起的長條形凸塊結(jié)構(gòu),而所述滑動塊400的中部形成有凹槽401,而呈半殼狀,套設(shè)在所述導(dǎo)軌300上,這種配合結(jié)構(gòu)很簡單。當然可以理解的是,在其他實施例中,所述導(dǎo)軌300與所述滑動塊400的結(jié)構(gòu)并不僅局限于此,可以有多種配合方式。進一步優(yōu)選的,如圖3所示,在所述滑動塊400的凹槽401的內(nèi)壁與所述導(dǎo)軌本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護點】
一種承載裝置,其特征在于,包括:用于承托基板的承托臺;以及,用于支撐基板的多個支撐部件,各支撐部件以可移動地方式設(shè)置在所述承托臺上,以使各支撐部件在基板上的支撐位置可調(diào)節(jié)。
【技術(shù)特征摘要】
1.一種承載裝置,其特征在于,包括:用于承托基板的承托臺;以及,用于支撐基板的多個支撐部件,各支撐部件以可移動地方式設(shè)置在所述承托臺上,以使各支撐部件在基板上的支撐位置可調(diào)節(jié)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的承載裝置,其特征在于,在所述承托臺上設(shè)置有導(dǎo)軌,在所述導(dǎo)軌上設(shè)置有能夠沿所述導(dǎo)軌移動的多個滑動塊,其中在每一所述滑動塊上連接有至少一個所述支撐部件。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的承載裝置,其特征在于,所述導(dǎo)軌為凸出于所述承托臺側(cè)面外的長條形凸塊結(jié)構(gòu),所述滑動塊中部形成有凹槽,所述凹槽的槽口朝向所述長條形凸塊結(jié)構(gòu),以使所述滑動塊環(huán)套在所述長條形凸塊結(jié)構(gòu)上。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的承載裝置,其特征在于,在所述凹槽的內(nèi)壁與所述導(dǎo)軌的外周面之間設(shè)置有多個滾珠,多個所述滾珠排列成至少一排,且所述滾珠的排列方向與所述導(dǎo)軌的延伸方向一致。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的承載裝置,其特征在于,所述滑動塊包括一用于形成所述凹槽的槽底的第一部分、以及用于分別形成所述凹槽的兩側(cè)壁的第二部分和第三部分,其中,所述第二部分和所述第三部分均可拆卸地連接在所述第一部分上,且所述第二部分和所述第三部分上分別設(shè)置所述滾珠。6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的承載裝置,其特征在于,所述凹槽為槽底尺寸大于槽口尺寸的梯形槽結(jié)構(gòu),所述導(dǎo)軌為與所述凹槽結(jié)構(gòu)相匹配的、橫截面呈梯形的長條形凸塊結(jié)構(gòu)。7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的承載裝置,其特征在于,所述承托臺包括相對的第一側(cè)邊和第二側(cè)邊、及相對的第三側(cè)邊和第四側(cè)邊,在所述第一側(cè)邊設(shè)置有能夠使得所述承托臺由水平狀態(tài)翻轉(zhuǎn)成豎直狀態(tài)的...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員:劉晨亮,蔣冬華,傅永義,譚超,王學(xué)偉,李儒健,羅康,令勇洲,謝銀,楊劍波,李飛,
申請(專利權(quán))人:成都京東方光電科技有限公司,京東方科技集團股份有限公司,
類型:發(fā)明
國別省市:四川,51
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