顯示基板及其制作方法、顯示裝置制造方法及圖紙

本發(fā)明專利技術(shù)提供了一種顯示基板及其制作方法、顯示裝置，屬于顯示技術(shù)領(lǐng)域。其中，顯示基板的制作方法包括在襯底基板上形成公共電極線的步驟，形成所述公共電極線的步驟包括：形成延伸方向相同的透明導(dǎo)電圖形和金屬圖形，所述透明導(dǎo)電圖形與所述金屬圖形相接觸組成至少部分所述公共電極線，所述透明導(dǎo)電圖形在所述襯底基板上的正投影具有超出所述金屬圖形在所述襯底基板上的正投影的部分。本發(fā)明專利技術(shù)的技術(shù)方案能夠在不影響顯示裝置的開口率的情況下提高顯示裝置的存儲電容，改善顯示裝置的顯示效果。

【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
顯示基板及其制作方法、顯示裝置
本專利技術(shù)涉及顯示
，特別是指一種顯示基板及其制作方法、顯示裝置。
技術(shù)介紹
TFT-LCD(薄膜晶體管-液晶顯示器)行業(yè)中，扭曲向列(TwistedNematic，TN)型液晶顯示器因其具有工藝簡單、成熟、良率更高的優(yōu)點，廣泛應(yīng)用于筆記本電腦、掌上終端等電子顯示終端產(chǎn)品中。在TN模式的液晶顯示器中，公共電極線是由不透光的金屬制成的，為了保證TN模式液晶顯示器的開口率，需要將公共電極線設(shè)置的比較窄，而TN模式液晶顯示器的存儲電容是由公共電極線和像素電極之間的正對面積決定的，因此存儲電容受限于開口率會比較低，導(dǎo)致TN模式的液晶顯示器在電容耦合效應(yīng)以及關(guān)態(tài)電流Ioff的影響下可能出現(xiàn)Flicker(閃爍)和殘影等不良。
技術(shù)實現(xiàn)思路
本專利技術(shù)要解決的技術(shù)問題是提供一種顯示基板及其制作方法、顯示裝置，能夠在不影響顯示裝置的開口率的情況下提高顯示裝置的存儲電容，改善顯示裝置的顯示效果。為解決上述技術(shù)問題，本專利技術(shù)的實施例提供技術(shù)方案如下：一方面，提供一種顯示基板的制作方法，包括在襯底基板上形成公共電極線的步驟，形成所述公共電極線的步驟包括：形成延伸方向相同的透明導(dǎo)電圖形和金屬圖形，所述透明導(dǎo)電圖形與所述金屬圖形相接觸組成至少部分所述公共電極線，所述透明導(dǎo)電圖形在所述襯底基板上的正投影具有超出所述金屬圖形在所述襯底基板上的正投影的部分。進一步地，形成所述透明導(dǎo)電圖形和所述金屬圖形包括：在所述襯底基板上依次形成所述透明導(dǎo)電圖形和所述金屬圖形，所述透明導(dǎo)電圖形在所述襯底基板上的正投影與所述金屬圖形在所述襯底基板上的正投影部分重合；或在所述襯底基板上依次形成所述金屬圖形和所述透明導(dǎo)電圖形，所述透明導(dǎo)電圖形在所述襯底基板上的正投影與所述金屬圖形在所述襯底基板上的正投影部分重合。進一步地，形成所述透明導(dǎo)電圖形和所述金屬圖形包括：通過一次構(gòu)圖工藝同時形成所述透明導(dǎo)電圖形和所述金屬圖形，所述金屬圖形在所述襯底基板上的正投影完全落入所述透明導(dǎo)電圖形在所述襯底基板上的正投影內(nèi)。進一步地，所述通過一次構(gòu)圖工藝同時形成所述透明導(dǎo)電圖形和所述金屬圖形包括：依次形成透明導(dǎo)電層和金屬層；在所述金屬層上涂覆光刻膠，利用半色調(diào)掩膜板或灰色調(diào)掩膜板對所述光刻膠進行曝光，顯影后形成光刻膠完全保留區(qū)域、光刻膠部分保留區(qū)域和光刻膠未保留區(qū)域；刻蝕掉光刻膠未保留區(qū)域的透明導(dǎo)電層和金屬層，形成所述透明導(dǎo)電圖形；去除光刻膠部分保留區(qū)域的光刻膠；刻蝕掉光刻膠部分保留區(qū)域的金屬層，形成所述金屬圖形；去除光刻膠完全保留區(qū)域的光刻膠。進一步地，所述顯示基板還包括薄膜晶體管的柵極和柵線，在形成所述透明導(dǎo)電圖形和所述金屬圖形的同一次構(gòu)圖工藝中，還形成所述薄膜晶體管的柵極和柵線。本專利技術(shù)實施例還提供了一種顯示基板，包括位于襯底基板上的公共電極線，至少部分所述公共電極線由延伸方向相同的透明導(dǎo)電圖形和金屬圖形組成，所述透明導(dǎo)電圖形與所述金屬圖形相接觸，且所述透明導(dǎo)電圖形在所述襯底基板上的正投影具有超出所述金屬圖形在所述襯底基板上的正投影的部分。進一步地，所述公共電極線包括層疊設(shè)置的所述透明導(dǎo)電圖形和所述金屬圖形，所述透明導(dǎo)電圖形在所述襯底基板上的正投影與所述金屬圖形在所述襯底基板上的正投影部分重合，所述金屬圖形覆蓋所述透明導(dǎo)電圖形的部分區(qū)域；或所述透明導(dǎo)電圖形覆蓋所述金屬圖形的部分區(qū)域。進一步地，所述公共電極線包括所述金屬圖形和覆蓋所述金屬圖形的所述透明導(dǎo)電圖形，所述金屬圖形在所述襯底基板上的正投影完全落入所述透明導(dǎo)電圖形在所述襯底基板上的正投影內(nèi)；或所述公共電極線包括所述透明導(dǎo)電圖形和位于所述透明導(dǎo)電圖形上的所述金屬圖形，所述金屬圖形在所述襯底基板上的正投影完全落入所述透明導(dǎo)電圖形在所述襯底基板上的正投影內(nèi)。進一步地，所述公共電極線包括并排設(shè)置的所述金屬圖形和所述透明導(dǎo)電圖形。本專利技術(shù)實施例還提供了一種顯示裝置，包括如上所述的顯示基板。本專利技術(shù)的實施例具有以下有益效果：上述方案中，至少部分公共電極線由延伸方向相同的透明導(dǎo)電圖形和金屬圖形組成，透明導(dǎo)電圖形在襯底基板上的正投影具有超出金屬圖形在襯底基板上的正投影的部分，這樣能夠使得公共電極線與像素電極的正對面積大于金屬圖形與像素電極的正對面積，使得顯示裝置的存儲電容得到了提高；同時由于公共電極線與像素電極的正對面積增加的部分是由透明導(dǎo)電圖形導(dǎo)致的，而透明導(dǎo)電圖形因其具有的透光性不影響顯示裝置的開口率，因此能夠在不影響顯示裝置的開口率的情況下提高顯示裝置的存儲電容，改善顯示裝置的顯示效果。附圖說明圖1為現(xiàn)有顯示基板的平面示意圖；圖2為現(xiàn)有顯示基板的AA’方向的截面示意圖；圖3為本專利技術(shù)實施例顯示基板的平面示意圖；圖4為本專利技術(shù)實施例顯示基板的AA’方向的截面示意圖。附圖標(biāo)記1襯底基板2金屬圖形3柵絕緣層4鈍化層5像素電極6透明導(dǎo)電圖形具體實施方式為使本專利技術(shù)的實施例要解決的技術(shù)問題、技術(shù)方案和優(yōu)點更加清楚，下面將結(jié)合附圖及具體實施例進行詳細描述。如圖1和圖2所示，現(xiàn)有TN模式的液晶顯示器中，公共電極線為不透光的金屬圖形2，TN模式液晶顯示器的存儲電容是由公共電極線和像素電極之間的正對面積決定的，為了提高TN模式的液晶顯示器的存儲電容，需要將金屬圖形2設(shè)計的比較寬，但這樣又會降低液晶顯示器的開口率，影響液晶顯示器的顯示效果，因此TN模式的液晶顯示器的存儲電容和開口率不能兼顧。為了解決上述問題，本專利技術(shù)的實施例提供一種顯示基板及其制作方法、顯示裝置，能夠在不影響顯示裝置的開口率的情況下提高顯示裝置的存儲電容，改善顯示裝置的顯示效果。實施例一本實施例提供一種顯示基板的制作方法，包括在襯底基板上形成公共電極線的步驟，形成所述公共電極線的步驟包括：形成延伸方向相同的透明導(dǎo)電圖形和金屬圖形，所述透明導(dǎo)電圖形與所述金屬圖形相接觸組成至少部分所述公共電極線，所述透明導(dǎo)電圖形在所述襯底基板上的正投影具有超出所述金屬圖形在所述襯底基板上的正投影的部分。本實施例中，至少部分公共電極線由延伸方向相同的透明導(dǎo)電圖形和金屬圖形組成，透明導(dǎo)電圖形在襯底基板上的正投影具有超出金屬圖形在襯底基板上的正投影的部分，這樣能夠使得公共電極線與像素電極的正對面積大于金屬圖形與像素電極的正對面積，使得顯示裝置的存儲電容得到了提高；同時由于公共電極線與像素電極的正對面積增加的部分是由透明導(dǎo)電圖形導(dǎo)致的，而透明導(dǎo)電圖形因其具有的透光性不影響顯示裝置的開口率，因此能夠在不影響顯示裝置的開口率的情況下提高顯示裝置的存儲電容，改善顯示裝置的顯示效果。其中，可以是公共電極線的一部分由透明導(dǎo)電圖形和金屬圖形組成，也可以是公共電極線的全部均由透明導(dǎo)電圖形和金屬圖形組成。具體實施例中，形成所述透明導(dǎo)電圖形和所述金屬圖形包括：在所述襯底基板上依次形成所述透明導(dǎo)電圖形和所述金屬圖形，所述透明導(dǎo)電圖形在所述襯底基板上的正投影與所述金屬圖形在所述襯底基板上的正投影部分重合；或在所述襯底基板上依次形成所述金屬圖形和所述透明導(dǎo)電圖形，所述透明導(dǎo)電圖形在所述襯底基板上的正投影與所述金屬圖形在所述襯底基板上的正投影部分重合。即可以通過兩次構(gòu)圖工藝分別形成透明導(dǎo)電圖形和金屬圖形，可以先形成透明導(dǎo)電圖形再形成金屬圖形，也可以先形成金屬圖形再形成透明導(dǎo)電圖形，但是透明導(dǎo)電圖形需要具有本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護點】
一種顯示基板的制作方法，包括在襯底基板上形成公共電極線的步驟，其特征在于，形成所述公共電極線的步驟包括：形成延伸方向相同的透明導(dǎo)電圖形和金屬圖形，所述透明導(dǎo)電圖形與所述金屬圖形相接觸組成至少部分所述公共電極線，所述透明導(dǎo)電圖形在所述襯底基板上的正投影具有超出所述金屬圖形在所述襯底基板上的正投影的部分。

【技術(shù)特征摘要】
1.一種顯示基板的制作方法，包括在襯底基板上形成公共電極線的步驟，其特征在于，形成所述公共電極線的步驟包括：形成延伸方向相同的透明導(dǎo)電圖形和金屬圖形，所述透明導(dǎo)電圖形與所述金屬圖形相接觸組成至少部分所述公共電極線，所述透明導(dǎo)電圖形在所述襯底基板上的正投影具有超出所述金屬圖形在所述襯底基板上的正投影的部分。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示基板的制作方法，其特征在于，形成所述透明導(dǎo)電圖形和所述金屬圖形包括：在所述襯底基板上依次形成所述透明導(dǎo)電圖形和所述金屬圖形，所述透明導(dǎo)電圖形在所述襯底基板上的正投影與所述金屬圖形在所述襯底基板上的正投影部分重合；或在所述襯底基板上依次形成所述金屬圖形和所述透明導(dǎo)電圖形，所述透明導(dǎo)電圖形在所述襯底基板上的正投影與所述金屬圖形在所述襯底基板上的正投影部分重合。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示基板的制作方法，其特征在于，形成所述透明導(dǎo)電圖形和所述金屬圖形包括：通過一次構(gòu)圖工藝同時形成所述透明導(dǎo)電圖形和所述金屬圖形，所述金屬圖形在所述襯底基板上的正投影完全落入所述透明導(dǎo)電圖形在所述襯底基板上的正投影內(nèi)。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示基板的制作方法，其特征在于，所述通過一次構(gòu)圖工藝同時形成所述透明導(dǎo)電圖形和所述金屬圖形包括：依次形成透明導(dǎo)電層和金屬層；在所述金屬層上涂覆光刻膠，利用半色調(diào)掩膜板或灰色調(diào)掩膜板對所述光刻膠進行曝光，顯影后形成光刻膠完全保留區(qū)域、光刻膠部分保留區(qū)域和光刻膠未保留區(qū)域；刻蝕掉光刻膠未保留區(qū)域的透明導(dǎo)電層和金屬層，形成所述透明導(dǎo)電圖形；去除光刻膠部分保留區(qū)域的光刻膠；刻蝕掉光刻膠部分保留...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：劉珠林，汪銳，王孝林，付鵬程，蔣日坤，鄧鳴，
申請(專利權(quán))人：京東方科技集團股份有限公司，重慶京東方光電科技有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：北京,11