本發明專利技術目的在于提供一種應用于高精度變頻干涉儀的氣體靜壓減振基座，主要包括減振基座支撐基體、減振基座臺面、左右側連接板、左右底面壓板、立柱和以及多孔質材料塊等結構和部件組成；減振基座四個圓柱形立柱和采用天然花崗巖材料，有助于保證工作臺的穩定性；減振基座臺面、左右側連接板和、左右底面壓板和及對應的多孔質材料塊等組成氣浮結構，可以實現減振基座的減振及隔振作用，左右側連接板、前后擋板及軟質材料保證氣浮過程減振基座臺面穩固，左右底板及減振基座臺面分布有特殊設計布局的多孔質材料塊及氣體通道實現氣浮過程中氣隙的均勻性及穩定不變性。
【技術實現步驟摘要】
一種高精度干涉儀氣體靜壓減振基座
本專利技術涉及一種高精度干涉儀氣體靜壓減振基座。
技術介紹
隨著科學技術發展，精密及超精密機械制造越來越重要，因此超精密測量技術也越來越重要，干涉儀則是其中一種重要的精密測量方法的儀器，在各個領域尤其是在光學測量領域應用越來越重要。與此同時，氣體靜壓氣浮導軌具有摩擦功耗低、運動精度高、低速時不出現爬行和蠕動、運動平穩、壽命長、無污染等一系列優點，廣泛應用于三坐標測量機、超精密機床、電子加工、醫療器械領域。但是目前機床領域一般采用的雙氣體靜壓氣浮導軌運動設計，兩個導軌之間存在氣壓差導致氣隙不均的缺點，沒有充分發揮氣浮精度高、平穩性好優點。與此同時，目前多數減振基座采用四柱氣體彈簧支撐設計，同樣存在著沒有充分發揮氣浮精度高、平穩性好優點。
技術實現思路
本專利技術的目的是為了解決現有技術提出的問題，提供一種高精度干涉儀氣體靜壓減振基座，其可以實現變頻干涉儀使用過程中振動的減弱及隔振的作用，保證變頻干涉儀平穩工作。為解決現有技術存在的問題，本專利技術的技術方案是：一種高精度干涉儀氣體靜壓減振基座，包括氣浮結構，其特征在于：還包括左立柱和右立柱，所述的左立柱和右立柱設置于氣浮結構的底部，所述的氣浮結構包括減振基座臺面、左連接板、右連接板、支撐基座、左側底座、右側底座、前側擋板和后側擋板，所述的減振基座臺面、左側底座和右側底座的外側分別設置有若干進氣孔，所述的減振基座臺面底部兩側分別設置有左連接板和右連接板，左連接板和右連接板的底部設置有左側底座和右側底座，左側底座和右側底座的寬度大于左連接板和右連接板的寬度，所述的支撐基座設置于的減振基座臺面、左連接板、右連接板、左側底座和右側底座圍成的腔體內，所述的減振基座臺面底部設置有側多孔制材料塊、中間多孔制材料塊和中心多孔制材料，中間多孔制材料塊有4塊組成環狀，中心多孔制材料設置于4塊中間多孔制材料塊內，側多孔制材料塊設置有4塊，圍繞環狀的中間多孔制材料塊的圓周設置；所述的左側底座、右側底座與支撐基座接觸的上表面處設置有多孔制材料塊，所述的左側底座、右側底座內部分布著與多孔制材料塊內部相連通的氣孔通道，減振基座臺面內部分布著與側多孔制材料塊、中間多孔制材料塊和中心多孔制材料內部相互連通的氣孔通道，左右連接板與支撐基座之間填充有軟性材料，前側擋板和后側擋板分別設置于減振基座臺面、左連接板、右連接板、左側底座、右側底座的兩側通過螺釘連接。所述的側多孔制材料塊、中間多孔制材料塊和中心多孔制材料凸出減振基座臺面底部1-2mm。所述的左側底座和右側底座上多孔制材料塊高出于左側底座和右側底座1-2mm。所述的左連接板通過螺釘與減振基座臺面和左側底座連接，右連接板通過螺釘與減振基座臺面和右側底座連接，所述的左立柱和右立柱采用天然花崗巖材料制成。所述的軟性材料為樹脂。與現有技術相比，本專利技術的優點如下：1）本專利技術相對于傳統的氣體靜壓減振基座，采用中心環形與五點氣浮布局的多質孔材料塊與內部相互連通的氣體通道來保證氣浮過程氣隙的均勻性及穩定性，實現優良的減振及隔振效果；2）本專利技術整體布局與氣浮導軌的類似，但沒有縱向運動設計，只有氣動浮起作用，不僅實現氣浮隔振效果，同時避免常見氣浮結構設計中雙導軌設計；3）本專利技術氣體靜壓減振基座左右側連接板與前后擋板之間填充相應的樹脂材料組成氣體靜壓減振基座的阻擋穩定結構。附圖說明圖1為本專利技術氣體靜壓減振基座主視圖；圖2為本專利技術氣體靜壓減振基座側視圖；圖3為本專利技術減振基座臺面視圖。具體實施方式為了使本專利技術的目的、技術方案及優點更加清楚明白，以下結合附圖及實施例，對本專利技術進行進一步詳細說明。應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本專利技術，并不用于限定本專利技術。參見圖1—圖3：一種高精度干涉儀氣體靜壓減振基座，包括氣浮結構、左立柱11和右立柱13，所述的左立柱11和右立柱13設置于氣浮結構的底部，本專利技術氣浮結構可以實現減振基座臺面的減振及隔振作用，左立柱11和右立柱13采用天然花崗巖材料制成。所述的氣浮結構包括減振基座臺面1、左連接板2、右連接板5、支撐基座3、左側底座4、右側底座6、前側擋板10和后側擋板12，所述的減振基座臺面1、左側底座4和右側底座6的外側分別設置有若干進氣孔15，所述的減振基座臺面1底部兩側分別通過螺釘設置有左連接板2和右連接板3，左連接板2和右連接板5的底部分別通過螺釘設置有左側底座4和右側底座6，左側底座4和右側底座6的寬度大于左連接板2和右連接板3的寬度，所述的支撐基座3設置于的減振基座臺面1、左連接板2、右連接板3、左側底座4和右側底座6圍成的腔體內，所述的減振基座臺面1底部設置有側多孔制材料塊7、中間多孔制材料塊8和中心多孔制材料9，中間多孔制材料塊8有4塊組成環狀，中心多孔制材料9設置于4塊中間多孔制材料塊8內，側多孔制材料塊7設置有4塊，圍繞環狀的中間多孔制材料塊8的圓周設置；所述的左側底座4、右側底座6與支撐基座3接觸的上表面處設置有多孔制材料塊14，所述的側多孔制材料塊7、中間多孔制材料塊8和中心多孔制材料9凸出減振基座臺面1底部1-2mm，左側底座4和右側底座6上多孔制材料塊14高出于左側底座4和右側底座1-2mm。所述的左側底座4、右側底座6內部分布著與多孔制材料塊14內部相連通的氣孔通道，氣孔與進氣孔15相通，減振基座臺面1內部分布著與側多孔制材料塊7、中間多孔制材料塊8和中心多孔制材料9內部相互連通的氣孔通道，氣孔與進氣孔15相通，以實現氣浮過程中氣隙的均勻性及穩定不變性；側多孔制材料塊7、中間多孔制材料塊8、中心多孔制材料9和多孔制材料塊14周圍分布著若干氣壓傳感器配合相應反饋系統進一步保證氣隙的穩定性及均勻性。左右連接板與支撐基座3之間填充有樹脂軟性材料，組成氣體靜壓減振基座的阻擋穩定結構，保證氣浮過程工作臺面移動及微運行。前側擋板10和后側擋板12分別設置于減振基座臺面1、左連接板2、右連接板5、左側底座4、右側底座6的兩側通過螺釘連接。本專利技術的工作原理：通過在減振基座臺面1、左側底座4、右側底座6上的由軟管相互串通的進氣孔15進氣以保證進氣氣壓均衡，氣體在減振基座臺面1、左側底座4、右側底座6內部孔道流通，并與采用中心環形與五點浮布局的多質孔材料塊通過其內部相互連通的孔道配合實現氣浮過程，氣體通過已密封在減振基座臺面1、左側底座4、右側底座6上的多孔質材料塊內部微小氣孔流出，與支撐基座3之間形成氣流間隙進而實現氣浮過程。以上所述，僅為本專利技術的較佳實施例而已，并非用于限定本專利技術的保護范圍。本文檔來自技高網...
【技術保護點】
一種高精度干涉儀氣體靜壓減振基座，包括氣浮結構，其特征在于：還包括左立柱（11）和右立柱（13），所述的左立柱（11）和右立柱（13）設置于氣浮結構的底部，所述的氣浮結構包括減振基座臺面（1）、左連接板（2）、右連接板（5）、支撐基座（3）、左側底座（4）、右側底座（6）、前側擋板（10）和后側擋板（12），所述的減振基座臺面（1）、左側底座（4）和右側底座（6）的外側分別設置有若干進氣孔（15），所述的減振基座臺面（1）底部兩側分別設置有左連接板（2）和右連接板（3），左連接板（2）和右連接板（5）的底部設置有左側底座（4）和右側底座（6），左側底座（4）和右側底座（6）的寬度大于左連接板（2）和右連接板（3）的寬度，所述的支撐基座（3）設置于的減振基座臺面（1）、左連接板（2）、右連接板（3）、左側底座（4）和右側底座（6）圍成的腔體內，所述的減振基座臺面（1）底部設置有側多孔制材料塊（7）、中間多孔制材料塊（8）和中心多孔制材料（9），中間多孔制材料塊（8）有4塊組成環狀，中心多孔制材料（9）設置于4塊中間多孔制材料塊（8）內，側多孔制材料塊（7）設置有4塊，圍繞環狀的中間多孔制材料塊（8）的圓周設置；所述的左側底座（4）、右側底座（6）與支撐基座（3）接觸的上表面處設置有多孔制材料塊（14），所述的左側底座（4）、右側底座（6）內部分布著與多孔制材料塊（14）內部相連通的氣孔通道，減振基座臺面（1）內部分布著與側多孔制材料塊（7）、中間多孔制材料塊（8）和中心多孔制材料（9）內部相互連通的氣孔通道，左右連接板與支撐基座（3）之間填充有軟性材料，前側擋板（10）和后側擋板（12）分別設置于減振基座臺面（1）、左連接板（2）、右連接板（5）、左側底座（4）、右側底座（6）的兩側通過螺釘連接。...
【技術特征摘要】
1.一種高精度干涉儀氣體靜壓減振基座，包括氣浮結構，其特征在于：還包括左立柱（11）和右立柱（13），所述的左立柱（11）和右立柱（13）設置于氣浮結構的底部，所述的氣浮結構包括減振基座臺面（1）、左連接板（2）、右連接板（5）、支撐基座（3）、左側底座（4）、右側底座（6）、前側擋板（10）和后側擋板（12），所述的減振基座臺面（1）、左側底座（4）和右側底座（6）的外側分別設置有若干進氣孔（15），所述的減振基座臺面（1）底部兩側分別設置有左連接板（2）和右連接板（3），左連接板（2）和右連接板（5）的底部設置有左側底座（4）和右側底座（6），左側底座（4）和右側底座（6）的寬度大于左連接板（2）和右連接板（3）的寬度，所述的支撐基座（3）設置于的減振基座臺面（1）、左連接板（2）、右連接板（3）、左側底座（4）和右側底座（6）圍成的腔體內，所述的減振基座臺面（1）底部設置有側多孔制材料塊（7）、中間多孔制材料塊（8）和中心多孔制材料（9），中間多孔制材料塊（8）有4塊組成環狀，中心多孔制材料（9）設置于4塊中間多孔制材料塊（8）內，側多孔制材料塊（7）設置有4塊，圍繞環狀的中間多孔制材料塊（8）的圓周設置；所述的左側底座（4）、右側底座（6）與支撐基座（3）接觸的上表面處設置有多孔制材料塊（14），所述的左側底座（4）、右側底座（...
【專利技術屬性】
技術研發人員：朱學亮，王紅軍，劉丙才，田愛玲，董龍超，裴寧，
申請(專利權)人：西安工業大學，
類型：發明
國別省市：陜西,61
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