本發明專利技術涉及一種牙種植體表面拋光的方法,屬于拋光領域。本發明專利技術所述牙種植體表面拋光的方法為:將化學鍍溶液、納米拋光顆粒加到機械拋光后的牙種植體表面上進行拋光;所述化學鍍溶液為主鹽硝酸銀溶液與還原劑葡萄糖溶液;拋光布的轉速為5?10r/min;所述牙種植體的轉速為50?100r/min。本發明專利技術所述方法可以快速得到高光潔的牙種植體表面。 1
A method of polishing the surface of dental implants
The invention relates to a method for polishing dental implant surfaces, belonging to the polishing field. The method of polishing the surface of the dental implant is to polish the electroless plating solution and nano polished particles on the surface of the dental implant after the mechanical polishing; the electroless plating solution is mainly a salt nitrate solution and a reducing agent glucose solution; the speed of the polishing cloth is 5 10r/min; the rotational speed of the dental implant is 50 00r/min. The method of the invention can quickly obtain the surface of a highly polished dental implant. One
【技術實現步驟摘要】
一種牙種植體表面拋光的方法
本專利技術涉及一種牙種植體表面拋光的方法,屬于拋光領域。
技術介紹
拋光是指利用機械、化學或電化學的作用,使工件表面粗糙度降低,以獲得光亮、平整表面的加工方法。是利用拋光工具和磨料顆粒或其他拋光介質對工件表面進行的修飾加工。拋光不能提高工件的尺寸精度或幾何形狀精度,而是以得到光滑表面或鏡面光澤為目的,有時也用以消除光澤(消光)。通常以拋光輪作為拋光工具。拋光輪一般用多層帆布、毛氈或皮革疊制而成,兩側用金屬圓板夾緊,其輪緣涂敷由微粉磨料和油脂等均勻混合而成的拋光劑。拋光時,高速旋轉的拋光輪(圓周速度在20米/秒以上)壓向工件,使磨料對工件表面產生滾壓和微量切削,從而獲得光亮的加工表面,當采用非油脂性的消光拋光劑時,可對光亮表面消光以改善外觀。大批量生產軸承鋼球時,常采用滾筒拋光的方法。粗拋時將大量鋼球、石灰和磨料放在傾斜的罐狀滾筒中,滾筒轉動時,使鋼球與磨料等在筒內隨機地滾動碰撞以達到去除表面凸鋒而減小表面粗糙度的目的,可去除0.01毫米左右的余量。精拋時在木桶中裝入鋼球和毛皮碎塊,連續轉動數小時可得到耀眼光亮的表面。精密線紋尺的拋光是將加工表面浸在拋光液中進行的,拋光液由粒度為W5-W0.5的氧化鉻微粉和乳化液混合而成。拋光輪采用材質勻細經脫脂處理的木材或特制的細毛氈制成,其運動軌跡為均勻稠密的網狀。
技術實現思路
本專利技術通過化學鍍與機械拋光的協同作用,使拋光后的牙種植體表面粗糙度Ra為≤0.001μm,解決了現有拋光方法無法快速得到高光潔牙種植體表面的問題。本專利技術提供了一種牙種植體表面拋光的方法,所述牙種植體表面拋光的方法為:將化學鍍溶液、納米拋光顆粒加到機械拋光后的牙種植體表面上進行拋光;所述化學鍍溶液為主鹽硝酸銀溶液與還原劑葡萄糖溶液;拋光布的轉速為5-10r/min;所述牙種植體的轉速為50-100r/min。本專利技術所述納米拋光顆粒優選為納米三氧化二鋁。本專利技術所述納米三氧化二鋁的粒度優選為≤2nm。本專利技術所述化學鍍溶液與納米拋光顆粒的重量比優選為1:0.005-0.01。本專利技術所述拋光布與牙種植體拋光面的接觸壓力優選為100-150g/cm2。本專利技術所述方法優選為包括粗拋光的步驟、精拋光的步驟、化學鍍復合拋光的步驟;其中,所述粗拋光的步驟為:采用粒度為300-350nm的金剛石塑膠磨輪將牙種植體表面拋光;所述牙種植體的轉速為500-800r/min。本專利技術所述粗拋光的步驟中金剛石塑膠磨輪與牙種植體拋光面的接觸壓力優選為250-350g/cm2。本專利技術所述精拋光的步驟優選為:將粒度250-280nm的膠體金剛石拋光液加到粗拋光后的牙種植體表面上,采用聚氨酯拋光布進行第一次精拋光;所述第一次精拋光中聚氨酯拋光布的轉速為350-400r/min;將粒度200-220nm的膠體金剛石拋光液加到第一次精拋光后的牙種植體表面上,采用聚氨酯拋光布進行第二次精拋光;所述第二次精拋光中聚氨酯拋光布的轉速為250-300r/min;將粒度150-180nm的膠體金剛石拋光液加到第二次精拋光后的牙種植體表面上,采用聚氨酯拋光布進行第三次精拋光;所述第三次精拋光中聚氨酯拋光布的轉速為150-200r/min。本專利技術所述第一次精拋光中聚氨酯拋光布與牙種植體拋光面的接觸壓力優選為150-250g/cm2。本專利技術所述第二次精拋光中聚氨酯拋光布與牙種植體拋光面的接觸壓力優選為100-200g/cm2。本專利技術所述第三次精拋光中聚氨酯拋光布與牙種植體拋光面的接觸壓力優選為50-100g/cm2。本專利技術通過將化學鍍溶液、納米拋光顆粒加到機械拋光后的牙種植體表面上進行拋光;所述化學鍍溶液為主鹽硝酸銀溶液與還原劑葡萄糖溶液;拋光布的轉速為5-10r/min;所述牙種植體的轉速為50-100r/min。本專利技術所述方法可以快速得到高光潔的牙種植體表面。解決了現有拋光方法無法快速得到高光潔牙種植體表面的問題。具體實施方式下述非限制性實施例可以使本領域的普通技術人員更全面地理解本專利技術,但不以任何方式限制本專利技術。下述化學鍍主鹽硝酸銀溶液的制備方法為:將主鹽AgNO3溶于去離子水中,攪拌中第一次加入氨水至溶液澄清,再加入NaOH固體,混勻后第二次加入氨水至溶液澄清,得到化學鍍主鹽硝酸銀溶液;所述主鹽AgNO3、去離子水與NaOH固體的重量比為1:17:0.5。下述化學鍍還原劑葡萄糖溶液的制備方法為:將還原劑葡萄糖溶于去離子水中,加入無水乙醇溶解后,再加入濃硝酸,沸煮15min;所述還原劑葡萄糖、去離子水、無水乙醇與濃硝酸的重量比為1:22:2:0.1。下述化學鍍溶液的制備方法為:將化學鍍主鹽硝酸銀溶液與化學鍍還原劑葡萄糖溶液按體積比1:1混勻。實施例1一種牙種植體表面拋光的方法,所述方法包括如下步驟:粗拋光步驟:采用粒度為350nm的金剛石塑膠磨輪將牙種植體表面拋光10min,拋光時向接觸面持續滴加去離子水;所述金剛石塑膠磨輪與牙種植體拋光面的接觸壓力為320g/cm2,所述牙種植體的轉速為750r/min。精拋光步驟:將粒度250nm的膠體金剛石拋光液加到粗拋光后的牙種植體表面上,采用聚氨酯拋光布進行第一次精拋光20min,其聚氨酯拋光布與牙種植體拋光面的接觸壓力為200g/cm2,聚氨酯拋光布的回轉速度為380r/min;將粒度200nm的膠體金剛石拋光液加到第一次精拋光后的牙種植體表面上,采用聚氨酯拋光布進行第二次精拋光15min,其聚氨酯拋光布與牙種植體拋光面的接觸壓力為150g/cm2,聚氨酯拋光布的回轉速度為280r/min;將粒度150nm的膠體金剛石拋光液加在第二次精拋光后的牙種植體表面上,采用聚氨酯拋光布進行第三次精拋光10min,其聚氨酯拋光布與牙種植體拋光面的接觸壓力為100g/cm2,聚氨酯拋光布的回轉速度為200r/min。化學鍍復合拋光步驟:將重量比為1:0.005的化學鍍溶液與粒度≤2nm的納米三氧化二鋁混合液加到第三次精拋光后的牙種植體表面上,采用聚氨酯拋光布進行拋光10min,其聚氨酯拋光布與牙種植體拋光面的接觸壓力為100g/cm2,聚氨酯拋光布的回轉速度為5r/min,牙種植體的轉速為80r/min。拋光前,牙種植體表面粗糙度Ra為0.10μm,拋光后,牙種植體表面粗糙度Ra為0.001μm。實施例2一種牙種植體表面拋光的方法,所述方法包括如下步驟:粗拋光步驟:采用粒度為300nm的金剛石塑膠磨輪將牙種植體表面拋光10min,拋光時向接觸面持續滴加去離子水;所述金剛石塑膠磨輪與牙種植體拋光面的接觸壓力為300g/cm2,所述牙種植體的轉速為550r/min。精拋光步驟:將粒度270nm的膠體金剛石拋光液加到粗拋光后的牙種植體表面上,采用聚氨酯拋光布進行第一次精拋光20min,其聚氨酯拋光布與牙種植體拋光面的接觸壓力為220g/cm2,聚氨酯拋光布的回轉速度為350r/min;將粒度205nm的膠體金剛石拋光液加到第一次精拋光后的牙種植體表面上,采用聚氨酯拋光布進行第二次精拋光15min,其聚氨酯拋光布與牙種植體拋光面的接觸壓力為120g/cm2,聚氨酯拋光布的回轉速度為250r/min;將粒度155nm的膠體金剛石拋光液加到第二次精拋光后的牙種植體表面上,采用聚氨酯拋光布進行本文檔來自技高網...
【技術保護點】
1.一種牙種植體表面拋光的方法,其特征在于:所述牙種植體表面拋光的方法為:將化
【技術特征摘要】
1.一種牙種植體表面拋光的方法,其特征在于:所述牙種植體表面拋光的方法為:將化學鍍溶液、納米拋光顆粒加到機械拋光后的牙種植體表面上進行拋光;所述化學鍍溶液為主鹽硝酸銀溶液與還原劑葡萄糖溶液;拋光布的轉速為5-10r/min;所述牙種植體的轉速為50-100r/min。2.根據權利要求1所述牙種植體表面拋光的方法,其特征在于:所述納米拋光顆粒為納米三氧化二鋁。3.根據權利要求2所述牙種植體表面拋光的方法,其特征在于:所述化學鍍溶液與納米拋光顆粒的重量比為1:0.005-0.01。4.根據權利要求3所述牙種植體表面拋光的方法,其特征在于:所述拋光布與牙種植體拋光面的接觸壓力為100-150g/cm2。5.根據權利要求4所述牙種植體表面拋光的方法,其特征在于:所述方法包括粗拋光的步驟、精拋光的步驟、化學鍍復合拋光的步驟;其中,所述粗拋光的步驟為:采用粒度為300-350nm的金剛石塑膠磨輪將牙種植體表面拋光;所述牙種植體的轉速為500-800r/min。6.根據權利要求5所述牙種植體表面拋光的方法,其特征在于:所述粗拋光的步驟中金剛石塑膠磨輪與牙種植體拋光面的接觸壓力為250-350g/cm2。7.根據權...
【專利技術屬性】
技術研發人員:蔡俊江,張久文,
申請(專利權)人:大連三生科技發展有限公司,
類型:發明
國別省市:遼寧,21
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