The present invention discloses a treatment solution for improving the fracture strength of microelectronic component substrates, which is made up of 30 40 portions of silanol, 20 30 portions of inorganic silicate, 5 8 portions of alkaline activator, 15 20 portions of resin, 80 100 portions of deionized water, 6 8 portions of boric acid, 8 12 portions of ginger chelate, 6 9 portions of honeysuckle enzymatic hydrolysate, 2 4 portions of chrysanthemum, 3 6 portions of Prunella vulgaris. Ethyl cellulose 1 3, acetone 0.5 0.8. After a long-term experiment, it is known that the microelectronic components are treated with the above-mentioned seven kinds of treatment liquids. After the experiment, the microelectronic components treated with the treatment liquids provided by the present invention for improving the fracture strength of the microelectronic components are significantly improved by more than 50% compared with the existing treatment liquids for microelectronic components. It should be popularized.
【技術實現步驟摘要】
一種提升微電子元件基材斷裂強度的處理液
本專利技術涉及微電子材料
,具體是一種提升微電子元件基材斷裂強度的處理液。
技術介紹
微電子元件是利用微電子工藝技術實現的微型化電子系統芯片和器件,這樣可以使電路和器件的性能、可靠性大幅度提高,體積和成本大幅度降低。微電子器件主要包括兩個部分,即半導體集成電路和半導體器件。半導體集成電路主要包括數字集成電路、模擬集成電路和數?;旌?混合信號)集成電路。半導體器件主要包括微波功率器件和其他的半導體分立器件。微電子元件工作環境往往伴隨振動、高溫等惡劣情況,使用時間過長,微電子元件基材老化很容易產生斷裂,導致微電子元件報廢,因此需要對微電子元件基材進行處理,提升其斷裂強度。
技術實現思路
為了解決上述
技術介紹
中提出的問題,本專利技術提供了一種提升微電子元件基材斷裂強度的處理液。一種提升微電子元件基材斷裂強度的處理液,按質量份數計,由如下組份制得:硅醇30-40份、無機硅酸鹽20-30份、堿性活化物5-8份、樹脂15-20份、去離子水80-100份、硼酸6-8份、良姜螯合物8-12份、金銀花酶解物6-9份、野菊花2-4份、夏枯草3-6份、乙基纖維素1-3份、丙酮0.5-0.8份。進一步的,所述無機硅酸鹽,為硅酸鈉、石棉、長石中的至少一種。進一步的,所述堿性活化物,為酸鈉、碳酸氫鈉、碳酸氫鉀中的至少一種。進一步的,所述樹脂,為水性聚氨酯樹脂、酚醛樹脂、萜烯樹脂中的至少一種。進一步的,所述良姜螯合物的制備方法,具體如下:取良姜,加良姜質量5倍的水,在高溫高壓下蒸煮,煎煮時間為5小時,得蒸煮液,將蒸煮液溫度降低至50℃,采用質量 ...
【技術保護點】
1.一種提升微電子元件基材斷裂強度的處理液,其特征在于,按質量份數計,由如下組份制得:硅醇30?40份、無機硅酸鹽20?30份、堿性活化物5?8份、樹脂15?20份、去離子水80?100份、硼酸6?8份、良姜螯合物8?12份、金銀花酶解物6?9份、野菊花2?4份、夏枯草3?6份、乙基纖維素1?3份、丙酮0.5?0.8份。
【技術特征摘要】
1.一種提升微電子元件基材斷裂強度的處理液,其特征在于,按質量份數計,由如下組份制得:硅醇30-40份、無機硅酸鹽20-30份、堿性活化物5-8份、樹脂15-20份、去離子水80-100份、硼酸6-8份、良姜螯合物8-12份、金銀花酶解物6-9份、野菊花2-4份、夏枯草3-6份、乙基纖維素1-3份、丙酮0.5-0.8份。2.根據權利要求1所述的一種提升微電子元件基材斷裂強度的處理液,其特征在于,按質量份數計,由如下組份制得:硅醇35份、無機硅酸鹽25份、堿性活化物6份、樹脂18份、去離子水90份、硼酸7份、良姜螯合物10份、金銀花酶解物7份、野菊花3份、夏枯草4份、乙基纖維素2份、丙酮0.6份。3.根據權利要求1或2所述的一種提升微電子元件基材斷裂強度的處理液,其特征在于:所述無機硅酸鹽,為硅酸鈉、石棉、長石中的至少一種。4.根據權利要求1或2所述的一種提升微電子元件基材斷裂強度的處理液,其特征在于:所述堿性活化物,為酸鈉、碳酸氫鈉、碳酸氫鉀中的至少一種。5.根據權利要求1或2所述的一種...
【專利技術屬性】
技術研發人員:萬明軍,
申請(專利權)人:合肥岑遙新材料科技有限公司,
類型:發明
國別省市:安徽,34
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