磁控濺射鍍膜機制造技術

本實用新型專利技術屬于磁控濺射技術領域，尤其涉及一種磁控濺射鍍膜機，包括熱溫鍍膜裝置、冷溫鍍膜裝置、供料卸料裝置和中轉搬送裝置。該磁控濺射鍍膜機可以在?100～800℃的溫度范圍內選擇任意溫度進行磁控濺射，從而極大地提高待鍍膜物料磁控濺射的作業溫度范圍，以及使待鍍膜物料多次往返于熱溫鍍膜裝置100和冷溫鍍膜裝置200之間進行鍍膜作業，這樣，極大地豐富了了成膜環境的多樣性，有利于企業、大學或科研機構探索、挖掘磁性材料薄膜、超晶格薄膜等的特性。

Magnetron sputtering coater

【技術實現步驟摘要】
磁控濺射鍍膜機
本技術屬于磁控濺射
，尤其涉及一種磁控濺射鍍膜機。
技術介紹
近年來，磁性材料薄膜、超晶格薄膜以其在電學、光學、磁學、力學和熱學方面展現出優秀的特性，從而在半導體、太陽能、納米器件、傳感器、激光器等方面具有應用前景而備受關注。為挖掘磁性材料薄膜、超晶格薄膜的特性，需要獲取在不同成膜環境下的性材料薄膜、超晶格薄膜，但目前的磁控濺射鍍膜機存在成膜環境單一，不便于挖掘磁性材料薄膜、超晶格薄膜的特性。
技術實現思路
本技術的目的在于克服上述現有技術的不足，提供了一種磁控濺射鍍膜機，其旨在解決成膜環境單一的問題。本技術是這樣實現的：一種磁控濺射鍍膜機，包括：熱溫鍍膜裝置，包括熱溫料閥、具有熱溫鍍膜腔的熱溫鍍膜室、設于所述熱溫鍍膜腔內并用于固定待鍍膜物料的熱溫固定件、用于加熱所述熱溫固定件且能夠將所述熱溫固定件加熱至X～800℃中任一溫度的熱溫溫控組件以及至少一個設于所述熱溫鍍膜腔內并與所述熱溫固定件間隔設置的熱溫磁控濺射靶，所述熱溫鍍膜室開設有供待鍍膜物料進出所述熱溫鍍膜腔的熱溫進出料口，所述熱溫料閥用于打開/關閉所述熱溫進出料口；冷溫鍍膜裝置，包括冷溫料閥、具有冷溫鍍膜腔的冷溫鍍膜室、設于所述冷溫鍍膜腔內并用于固定待鍍膜物料的冷溫固定件、用于冷卻所述冷溫固定件且能夠將所述冷溫固定件冷卻至-100℃～X中任一溫度的冷溫溫控組件以及至少一個設于所述冷溫鍍膜腔內并與所述冷溫固定件間隔設置的冷溫磁控濺射靶，所述冷溫鍍膜室開設有供待鍍膜物料進出所述冷溫鍍膜腔的冷溫進出料口，所述冷溫料閥用于打開/關閉所述冷溫進出料口；供料卸料裝置，用于供應待鍍膜物料以及用于將待鍍膜物料取離；中轉搬送裝置，包括具有中轉搬送腔的中轉搬送室以及設于所述中轉搬送腔的中轉搬送機械手，所述中轉搬送室開設經用于供待鍍膜物料進出所述中轉搬送腔的熱端進出料口、冷端進出料口和供料端進出料口，所述熱端進出料口與所述熱溫進出料口對接，所述冷端進出料口與所述冷溫進出料口對接，所述中轉搬送機械手用于使待鍍物料經所述熱端進出料口、所述熱溫進出料口而讓待鍍物料從所述熱溫鍍膜腔運送至所述中轉搬送腔或將待鍍物料從所述中轉搬送腔運送至所述熱溫鍍膜腔，所述中轉搬送機械手用于使待鍍物料經所述冷端進出料口、所述冷溫進出料口而將待鍍物料從所述冷溫鍍膜腔運送至所述中轉搬送腔或讓待鍍物料從所述中轉搬送腔運送至所述冷溫鍍膜腔，所述中轉搬送機械手還用于使待鍍物料經供料端進出料口而讓待鍍物料從所述中轉搬送腔運送至供料卸料裝置或讓待鍍物料從所述供料卸料裝置運送至中轉搬送腔；其中，X為常溫。熱溫鍍膜裝置能夠間接地通過熱溫固定件對待鍍膜物料從常溫加熱至800℃，而冷溫鍍膜裝置能夠間接地通過冷溫固定件對待鍍膜物料從常溫冷卻至-100℃，在具體使用過程中，當待鍍膜物料需要的工作溫度處于常溫至800℃的溫度范圍時，待鍍膜物料通過供料卸料裝置送至中轉搬送機械手后，再由中轉搬送機械手將待鍍膜物料送至熱溫鍍膜裝置，而當待鍍膜物料需要的工作溫度處于-100℃至常溫的溫度范圍時，待鍍膜物料通過供料卸料裝置送至中轉搬送機械手后，中轉搬送機械手則將待鍍膜物料送至熱溫鍍膜裝置，這樣，該磁控濺射鍍膜機可以在-100～800℃的溫度范圍內選擇任意溫度進行磁控濺射，從而極大地提高待鍍膜物料磁控濺射的作業溫度范圍，增加了成膜環境的多樣性。此外，中轉搬運機械手能夠將待鍍膜物料在熱溫鍍膜裝置和冷溫鍍膜裝置之間往復搬運，具體就是，中轉搬運機械手能夠將鍍膜物料從熱溫鍍膜裝置搬運至冷溫鍍膜裝置，也能夠將鍍膜物料從冷溫鍍膜裝置搬運至熱溫鍍膜裝置，這樣，該磁控濺射鍍膜機能夠在待鍍膜物料完成一次常溫至800℃溫度范圍內的鍍膜之后，再進行一次-100℃至常溫溫度范圍內的鍍膜，或者在待鍍膜物料完成一次-100℃至常溫溫度范圍內的鍍膜之后，再進行一次常溫至800℃溫度范圍內的鍍膜，或使待鍍膜物料多次往返于熱溫鍍膜裝置和冷溫鍍膜裝置之間進行鍍膜作業，這樣，進一步增加了成膜環境的多樣性。由上可知，該磁控濺射鍍膜機極大地增加了成膜環境的多樣性，這樣，有利于企業、大學或科研機構探索、挖掘磁性材料薄膜、超晶格薄膜等的特性。附圖說明為了更清楚地說明本技術實施例中的技術方案，下面將對實施例中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本技術的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。圖1是本技術實施例提供的磁控濺射鍍膜機的俯視結構示意圖；圖2是本技術實施例提供的磁控濺射鍍膜機的側視結構透視圖；圖3是本技術實施例提供的磁控濺射鍍膜機中的熱溫鍍膜裝置的側視結構透視圖；圖4是本技術實施例提供的磁控濺射鍍膜機中的中轉搬送裝置的側視結構透視圖；圖5是本技術實施例提供的磁控濺射鍍膜機中的冷溫鍍膜裝置的側視結構透視圖。附圖標號說明：標號名稱標號名稱100熱溫鍍膜裝置110熱溫鍍膜室1101熱溫鍍膜腔1102熱溫進出料口120熱溫固定件130熱溫溫控組件140熱溫料閥150熱溫磁控濺射靶160熱溫遮蔽組件170熱溫修正組件200冷溫鍍膜裝置210冷溫鍍膜室2101冷溫鍍膜腔2102冷溫進出料口220冷溫固定件230冷溫溫控組件240冷溫料閥250冷溫磁控濺射靶260冷溫遮蔽組件270冷溫修正組件300供料卸料裝置400中轉搬送裝置410中轉搬送室4101中轉搬送腔4102熱端進出料口4103冷端進出料口420中轉搬送機械手421抓料機構422伸縮驅動器423旋轉驅動器500中轉貯料裝置510中轉貯料室520中轉貯料閥具體實施方式為了使本技術的目的、技術方案及優點更加清楚明白，以下結合附圖及實施例，對本技術進行進一步詳細說明。應當理解，此處所描述的具體實施例僅用以解釋本技術，并不用于限定本技術。本技術實施例提供一種磁控濺射鍍膜機，用于給待鍍膜物料鍍膜，該待鍍膜物料通常為板片結構。請參閱圖1至圖5，該磁控濺射鍍膜機包括熱溫鍍膜裝置100、冷溫鍍膜裝置200、供料卸料裝置300和中轉搬送裝置400。具體地，熱溫鍍膜裝置100包括熱溫鍍膜室110、熱溫固定件120、熱溫溫控組件130、熱溫料閥140以及至少一個熱溫磁控濺射靶150，熱溫鍍膜室110具有熱溫鍍膜腔1101，熱溫固定件120設于熱溫鍍膜腔1101內并用于固定待鍍膜物料，熱溫溫控組件130用于加熱熱溫固定件120且能夠將熱溫固定件120加熱至X～800℃中任一溫度，各熱溫磁控濺射靶150設于熱溫鍍膜腔1101內并與熱溫固定件120間隔設置，熱溫鍍膜室110開設有供待鍍膜物料進出熱溫鍍膜腔1101的熱溫進出料口1102，熱溫料閥140用于打開/關閉熱溫進出料口1102。當然，在此還需要說明的是，在實施中，為保證熱溫鍍膜裝置100能夠進行磁控濺射鍍膜作業，熱溫鍍膜裝置100還包括用于實現熱溫鍍膜腔1101真空的熱溫真空發生器以及用于向熱溫鍍膜腔1101供應氬氣、氧氣和/氮氣等氣體的熱溫氣體工藝組件等，在本實施例中均采用現有的常規設計，因此，在此對這些部件就不展開細述。而冷溫鍍膜裝置200則包括冷溫鍍膜室210、冷溫固定件220、冷溫溫控組件230、冷溫料閥本文檔來自技高網...

【技術保護點】
1.一種磁控濺射鍍膜機，其特征在于，包括：熱溫鍍膜裝置，包括熱溫料閥、具有熱溫鍍膜腔的熱溫鍍膜室、設于所述熱溫鍍膜腔內并用于固定待鍍膜物料的熱溫固定件、用于加熱所述熱溫固定件且能夠將所述熱溫固定件加熱至X～800℃中任一溫度的熱溫溫控組件以及至少一個設于所述熱溫鍍膜腔內并與所述熱溫固定件間隔設置的熱溫磁控濺射靶，所述熱溫鍍膜室開設有供待鍍膜物料進出所述熱溫鍍膜腔的熱溫進出料口，所述熱溫料閥用于打開/關閉所述熱溫進出料口；冷溫鍍膜裝置，包括冷溫料閥、具有冷溫鍍膜腔的冷溫鍍膜室、設于所述冷溫鍍膜腔內并用于固定待鍍膜物料的冷溫固定件、用于冷卻所述冷溫固定件且能夠將所述冷溫固定件冷卻至?100℃～X中任一溫度的冷溫溫控組件以及至少一個設于所述冷溫鍍膜腔內并與所述冷溫固定件間隔設置的冷溫磁控濺射靶，所述冷溫鍍膜室開設有供待鍍膜物料進出所述冷溫鍍膜腔的冷溫進出料口，所述冷溫料閥用于打開/關閉所述冷溫進出料口；供料卸料裝置，用于供應待鍍膜物料以及用于將待鍍膜物料取離；中轉搬送裝置，包括具有中轉搬送腔的中轉搬送室以及設于所述中轉搬送腔的中轉搬送機械手，所述中轉搬送室開設經用于供待鍍膜物料進出所述中轉搬送腔的熱端進出料口、冷端進出料口和供料端進出料口，所述熱端進出料口與所述熱溫進出料口對接，所述冷端進出料口與所述冷溫進出料口對接，所述中轉搬送機械手用于使待鍍物料經所述熱端進出料口、所述熱溫進出料口而讓待鍍物料從所述熱溫鍍膜腔運送至所述中轉搬送腔或將待鍍物料從所述中轉搬送腔運送至所述熱溫鍍膜腔，所述中轉搬送機械手用于使待鍍物料經所述冷端進出料口、所述冷溫進出料口而將待鍍物料從所述冷溫鍍膜腔運送至所述中轉搬送腔或讓待鍍物料從所述中轉搬送腔運送至所述冷溫鍍膜腔，所述中轉搬送機械手還用于使待鍍物料經供料端進出料口而讓待鍍物料從所述中轉搬送腔運送至供料卸料裝置或讓待鍍物料從所述供料卸料裝置運送至中轉搬送腔；其中，X為常溫。...

【技術特征摘要】
1.一種磁控濺射鍍膜機，其特征在于，包括：熱溫鍍膜裝置，包括熱溫料閥、具有熱溫鍍膜腔的熱溫鍍膜室、設于所述熱溫鍍膜腔內并用于固定待鍍膜物料的熱溫固定件、用于加熱所述熱溫固定件且能夠將所述熱溫固定件加熱至X～800℃中任一溫度的熱溫溫控組件以及至少一個設于所述熱溫鍍膜腔內并與所述熱溫固定件間隔設置的熱溫磁控濺射靶，所述熱溫鍍膜室開設有供待鍍膜物料進出所述熱溫鍍膜腔的熱溫進出料口，所述熱溫料閥用于打開/關閉所述熱溫進出料口；冷溫鍍膜裝置，包括冷溫料閥、具有冷溫鍍膜腔的冷溫鍍膜室、設于所述冷溫鍍膜腔內并用于固定待鍍膜物料的冷溫固定件、用于冷卻所述冷溫固定件且能夠將所述冷溫固定件冷卻至-100℃～X中任一溫度的冷溫溫控組件以及至少一個設于所述冷溫鍍膜腔內并與所述冷溫固定件間隔設置的冷溫磁控濺射靶，所述冷溫鍍膜室開設有供待鍍膜物料進出所述冷溫鍍膜腔的冷溫進出料口，所述冷溫料閥用于打開/關閉所述冷溫進出料口；供料卸料裝置，用于供應待鍍膜物料以及用于將待鍍膜物料取離；中轉搬送裝置，包括具有中轉搬送腔的中轉搬送室以及設于所述中轉搬送腔的中轉搬送機械手，所述中轉搬送室開設經用于供待鍍膜物料進出所述中轉搬送腔的熱端進出料口、冷端進出料口和供料端進出料口，所述熱端進出料口與所述熱溫進出料口對接，所述冷端進出料口與所述冷溫進出料口對接，所述中轉搬送機械手用于使待鍍物料經所述熱端進出料口、所述熱溫進出料口而讓待鍍物料從所述熱溫鍍膜腔運送至所述中轉搬送腔或將待鍍物料從所述中轉搬送腔運送至所述熱溫鍍膜腔，所述中轉搬送機械手用于使待鍍物料經所述冷端進出料口、所述冷溫進出料口而將待鍍物料從所述冷溫鍍膜腔運送至所述中轉搬送腔或讓待鍍物料從所述中轉搬送腔運送至所述冷溫鍍膜腔，所述中轉搬送機械手還用于使待鍍物料經供料端進出料口而讓待鍍物料從所述中轉搬送腔運送至供料卸料裝置或讓待鍍物料從所述供料卸料裝置運送至中轉搬送腔；其中，X為常溫。2.如權利要求1所述的磁控濺射鍍膜機，其特征在于，所述磁...

【專利技術屬性】
技術研發人員：徐旻生，莊炳河，王應斌，龔文志，張亮，李永杰，
申請(專利權)人：愛發科豪威光電薄膜科技深圳有限公司，
類型：新型
國別省市：廣東,44