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    一種具有豐富紋理圖案的陶瓷磚布料系統(tǒng)技術(shù)方案

    技術(shù)編號(hào):23156965 閱讀:39 留言:0更新日期:2020-01-21 20:57
    本發(fā)明專利技術(shù)公開(kāi)了一種具有豐富紋理圖案的陶瓷磚布料系統(tǒng),包括有沿微粉料輸送方向依次排列的一級(jí)輸送帶和二級(jí)輸送帶,其特征在于:還包括有設(shè)于一級(jí)輸送帶上的底紋模組及面紋模組、設(shè)于二級(jí)輸送帶上的粗紋造型模塊及細(xì)紋造型模塊,其中,所述底紋模組、面紋模組、粗紋造型模塊、細(xì)紋造型模塊沿微粉料輸送方向依次排列;所述底紋模組包括有底層布料模塊、一次雕花模塊以及與一級(jí)輸送帶相銜接的底紋布料皮帶,所述面紋模組包括有面層布料模塊和二次雕花模塊,所述粗紋造型模塊包括有粗線吸料模塊和粗線布料模塊,所述細(xì)紋造型模塊包括有細(xì)線吸料模塊和細(xì)線布料模塊。

    A ceramic brick fabric system with rich texture patterns

    【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
    一種具有豐富紋理圖案的陶瓷磚布料系統(tǒng)
    本專利技術(shù)涉及陶瓷生產(chǎn)布料設(shè)備的
    ,尤其是指一種具有豐富紋理圖案的陶瓷磚布料系統(tǒng)。
    技術(shù)介紹
    因其豐富、高貴的裝飾效果,一直作為高檔裝飾素材深受用戶喜愛(ài)。但因大理石價(jià)格昂貴且具有放射性,因此難以廣泛普及。因此市面上出現(xiàn)表面紋理仿大理石的瓷磚,并廣受消費(fèi)者青睞,但這類仿大大理石瓷磚表層紋理變化少、產(chǎn)品表層的紋理效果與產(chǎn)品內(nèi)部紋理效果不一致;隨著陶瓷行業(yè)不斷發(fā)展,這類傳統(tǒng)的仿大理石瓷磚逐步被俗稱為“假通體瓷磚”,而人們?cè)谶x購(gòu)?fù)w瓷磚時(shí),不再僅僅只需求產(chǎn)品表面的紋理效果所帶來(lái)的美感,還對(duì)于產(chǎn)品內(nèi)部與表面紋理效果一致性提出了新的要求,也逐步成為了消費(fèi)者所追求的消費(fèi)方向。此外,現(xiàn)有的布料設(shè)備很難實(shí)現(xiàn)所制備出的面料具備有天然大理石的天線裂紋的效果,紋理圖案非常單一,缺少類似于天然的層次感;因此,需要一種能夠?qū)崿F(xiàn)生產(chǎn)效率高、能夠制備出豐富紋理效果的布料系統(tǒng),以滿足當(dāng)今消費(fèi)者的市場(chǎng)需求。
    技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
    本專利技術(shù)的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種能夠制備出仿大理石紋理的真通體瓷磚且具有豐富紋理圖案的陶瓷磚布料系統(tǒng)。為了實(shí)現(xiàn)上述的目的,本專利技術(shù)所提供的一種具有豐富紋理圖案的陶瓷磚布料系統(tǒng),包括有沿微粉料輸送方向依次排列的一級(jí)輸送帶和二級(jí)輸送帶,還包括有設(shè)于一級(jí)輸送帶上的底紋模組及面紋模組、設(shè)于二級(jí)輸送帶上的粗紋造型模塊及細(xì)紋造型模塊,其中,所述底紋模組、面紋模組、粗紋造型模塊、細(xì)紋造型模塊沿微粉料輸送方向依次排列;所述底紋模組包括有底層布料模塊、一次雕花模塊以及與一級(jí)輸送帶相銜接的底紋布料皮帶,其中,所述底層布料模塊和一次雕花模塊按先后順序依次作用在底紋布料皮帶上并且逐漸轉(zhuǎn)送至一級(jí)輸送帶上,形成底層紋理層;所述面紋模組包括有面層布料模塊和二次雕花模塊,所述面層布料模塊和二次雕花模塊按先后順序依次作用在由一級(jí)輸送帶所輸送來(lái)的底層紋理層上方,其中,所形成了面層紋理層與底層紋理層作為坯料層,并且由一級(jí)輸送帶逐漸轉(zhuǎn)送至二級(jí)輸送帶;所述粗紋造型模塊包括有粗線吸料模塊和粗線布料模塊,其中,所述粗線吸料模塊和粗線布料模塊按現(xiàn)有順序依次作用在由一級(jí)輸送帶所輸送來(lái)的坯料層上;所述細(xì)紋造型模塊包括有細(xì)線吸料模塊和細(xì)線布料模塊,其中,所述細(xì)線吸料模塊和細(xì)線布料模塊按現(xiàn)有順序依次作用在經(jīng)粗紋造型模塊處理后的坯料層上。進(jìn)一步,所述底紋模組還包括有設(shè)于一級(jí)輸送帶上的微粉補(bǔ)料模塊,用于對(duì)底層紋理層進(jìn)行補(bǔ)料。進(jìn)一步,所述底層布料模塊包括有多個(gè)底料斗、設(shè)于多個(gè)底料斗出料口處的擠壓對(duì)輥、設(shè)于擠壓對(duì)輥出料口處的混料斗以及設(shè)于底紋布料皮帶上的底層造型器,其中,所述擠壓對(duì)輥用于對(duì)多個(gè)底料斗所送出的底層粉料進(jìn)行擠壓造粒。進(jìn)一步,所述面層布料模塊包括有多個(gè)面層料斗、設(shè)于多個(gè)面層料斗下方的混料皮帶、設(shè)于混料皮帶末端處的集料斗、設(shè)于集料斗下方的下料皮帶、設(shè)于下料皮帶上的面層造型器以及平粉輥。進(jìn)一步,介于所述粗紋造型模塊與細(xì)紋造型模塊之間的二級(jí)輸送帶上還設(shè)置有壓輥,用于壓實(shí)經(jīng)粗紋造型模塊處理后的坯料層。本專利技術(shù)采用上述的方案,其有益效果在于:可根據(jù)生產(chǎn)紋理要求,通過(guò)底紋模組及面紋模組分別在底層及面層上分別形成有紋理效果,具有層次感;并且利用粗紋造型模塊及細(xì)紋造型模塊的吸補(bǔ)作用從而實(shí)現(xiàn)制備出通體紋路,通過(guò)上述的多次布料的方式,從而確保所制備出的紋理效果精確、并且紋理效果豐富多變。附圖說(shuō)明圖1為本專利技術(shù)的布料系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為本專利技術(shù)的底紋模組的結(jié)構(gòu)示意圖。圖3為本專利技術(shù)的面紋模組的結(jié)構(gòu)示意圖。圖4為本專利技術(shù)的粗紋造型模塊的結(jié)構(gòu)示意圖。圖5為本專利技術(shù)的細(xì)紋造型模塊的結(jié)構(gòu)示意圖。其中,1-一級(jí)輸送帶,2-二級(jí)輸送帶,3-底紋模組,31-底層布料模塊,311-底料斗,312-擠壓對(duì)輥,313-混料斗,314-底層造型器,32-一次雕花模塊,321-第一雕花布料斗,322-第一振動(dòng)篩,323-第一下料斗,33-底紋布料皮帶,34-微粉補(bǔ)料模塊,4-面紋模組,41-面層布料模塊,411-面層料斗,412-混料皮帶,413-集料斗,414-下料皮帶,415-面層造型器,416-平粉輥,42-二次雕花模塊,421-二次雕花布料斗,422-雕花下料皮帶,5-粗紋造型模塊,51-粗線吸料模塊,52-粗線布料模塊,521-粗線布料斗,522-粗線振動(dòng)篩,523-導(dǎo)料板,53-壓輥,6-細(xì)紋造型模塊,61-細(xì)線吸料模塊,62-細(xì)線布料模塊。具體實(shí)施方式下面結(jié)合具體實(shí)施例對(duì)本專利技術(shù)作進(jìn)一步的說(shuō)明。參見(jiàn)附圖1所示,在本實(shí)施例中,一種具有豐富紋理圖案的陶瓷磚布料系統(tǒng),包括有沿微粉料輸送方向依次排列的一級(jí)輸送帶1和二級(jí)輸送帶2、設(shè)于一級(jí)輸送帶1上的底紋模組3及面紋模組4、設(shè)于二級(jí)輸送帶2上的粗紋造型模塊5及細(xì)紋造型模塊6,其中,所述一級(jí)輸送帶1末端為呈向下傾斜坡度段,從而以便于微粉料運(yùn)行至一級(jí)輸送帶1末端處時(shí),微粉料沿著傾斜坡度段組件下落到二級(jí)輸送帶2上。另外,底紋模組3、面紋模組4、粗紋造型模塊5、細(xì)紋造型模塊6沿微粉料輸送方向依次排列。參見(jiàn)附圖2所示,在本實(shí)施例中,底紋模組3包括有底層布料模塊31、一次雕花模塊32以及設(shè)于一級(jí)輸送帶1上方的底紋布料皮帶33(呈向下傾斜布置),其中,底層布料模塊31和一次雕花模塊32按先后順序依次作用在底紋布料皮帶33上并且逐漸轉(zhuǎn)送至一級(jí)輸送帶1上。本實(shí)施例的底層布料模塊31包括有三個(gè)底料斗311、設(shè)于多個(gè)底料斗311出料口處的擠壓對(duì)輥312、設(shè)于擠壓對(duì)輥312出料口處的混料斗313以及設(shè)于底紋布料皮帶33上的底層造型器314,其中,底層造型器314介于混料斗313出料口至一次雕花模塊32之間。三個(gè)底料斗311內(nèi)分別預(yù)先儲(chǔ)存有不同類型的微粉料并且利用擠壓對(duì)輥312(兩擠壓輥53相向旋轉(zhuǎn))對(duì)下落至輥間的微粉料(來(lái)自三個(gè)底料斗311)進(jìn)行擠壓呈顆粒狀掉落至下方的混料斗313中,隨后利用混料斗313對(duì)底紋布料皮帶33進(jìn)行布料(混料斗313出料口設(shè)置有布料輥以便于混料斗313的布料操作),從而預(yù)先在底紋布料皮帶33上形成有底料層;其次,底料層隨著底紋布料皮帶33的輸送作用經(jīng)過(guò)底層造型器314,從而利用底層造型器314作用于底料層上形成底層紋理。本實(shí)施例的一次雕花模塊32包括有儲(chǔ)存有雕花粉料的第一雕花布料斗321、第一振動(dòng)篩322、呈上寬下窄的第一下料斗323,從而使第一雕花布料斗321將雕花微粉料送進(jìn)第一振動(dòng)篩322里,將雕花微粉料振碎形成細(xì)微狀的雕花粉料布撒在預(yù)由底紋布料皮帶33輸送來(lái)的底料層上,進(jìn)而疊加形成到具有預(yù)設(shè)定雕花紋理效果的底層紋理層,并且由底紋布料皮帶33組件轉(zhuǎn)送至一級(jí)輸送帶1上;此外,本實(shí)施例的第一雕花布料斗321設(shè)置有帶預(yù)設(shè)定的紋理凹槽的雕花輥,以便于一次雕花模塊32能夠根據(jù)預(yù)設(shè)定的雕花紋理效果進(jìn)行布料操作。另外,由于微粉料自底層布料模塊31和一次雕花模塊32落料至底紋布料皮帶33上時(shí),微粉料會(huì)產(chǎn)生小范圍便宜和縮放,會(huì)出現(xiàn)底料層與雕花紋理之間空隙空隙現(xiàn)象,因此,底紋模組3還包括有設(shè)于一級(jí)輸送帶1上本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...

    【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
    1.一種具有豐富紋理圖案的陶瓷磚布料系統(tǒng),包括有沿微粉料輸送方向依次排列的一級(jí)輸送帶(1)和二級(jí)輸送帶(2),其特征在于:還包括有設(shè)于一級(jí)輸送帶(1)上的底紋模組(3)及面紋模組(4)、設(shè)于二級(jí)輸送帶(2)上的粗紋造型模塊(5)及細(xì)紋造型模塊(6),其中,所述底紋模組(3)、面紋模組(4)、粗紋造型模塊(5)、細(xì)紋造型模塊(6)沿微粉料輸送方向依次排列;/n所述底紋模組(3)包括有底層布料模塊(31)、一次雕花模塊(32)以及與一級(jí)輸送帶(1)相銜接的底紋布料皮帶(33),其中,所述底層布料模塊(31)和一次雕花模塊(32)按先后順序依次作用在底紋布料皮帶(33)上并且逐漸轉(zhuǎn)送至一級(jí)輸送帶(1)上,形成底層紋理層;/n所述面紋模組(4)包括有面層布料模塊(41)和二次雕花模塊(42),所述面層布料模塊(41)和二次雕花模塊(42)按先后順序依次作用在由一級(jí)輸送帶(1)所輸送來(lái)的底層紋理層上方,其中,所形成了面層紋理層與底層紋理層作為坯料層,并且由一級(jí)輸送帶(1)逐漸轉(zhuǎn)送至二級(jí)輸送帶(2);/n所述粗紋造型模塊(5)包括有粗線吸料模塊(51)和粗線布料模塊(52),其中,所述粗線吸料模塊(51)和粗線布料模塊(52)按現(xiàn)有順序依次作用在由一級(jí)輸送帶(1)所輸送來(lái)的坯料層上;/n所述細(xì)紋造型模塊(6)包括有細(xì)線吸料模塊(61)和細(xì)線布料模塊(62),其中,所述細(xì)線吸料模塊(61)和細(xì)線布料模塊(62)按現(xiàn)有順序依次作用在經(jīng)粗紋造型模塊(5)處理后的坯料層上。/n...

    【技術(shù)特征摘要】
    1.一種具有豐富紋理圖案的陶瓷磚布料系統(tǒng),包括有沿微粉料輸送方向依次排列的一級(jí)輸送帶(1)和二級(jí)輸送帶(2),其特征在于:還包括有設(shè)于一級(jí)輸送帶(1)上的底紋模組(3)及面紋模組(4)、設(shè)于二級(jí)輸送帶(2)上的粗紋造型模塊(5)及細(xì)紋造型模塊(6),其中,所述底紋模組(3)、面紋模組(4)、粗紋造型模塊(5)、細(xì)紋造型模塊(6)沿微粉料輸送方向依次排列;
    所述底紋模組(3)包括有底層布料模塊(31)、一次雕花模塊(32)以及與一級(jí)輸送帶(1)相銜接的底紋布料皮帶(33),其中,所述底層布料模塊(31)和一次雕花模塊(32)按先后順序依次作用在底紋布料皮帶(33)上并且逐漸轉(zhuǎn)送至一級(jí)輸送帶(1)上,形成底層紋理層;
    所述面紋模組(4)包括有面層布料模塊(41)和二次雕花模塊(42),所述面層布料模塊(41)和二次雕花模塊(42)按先后順序依次作用在由一級(jí)輸送帶(1)所輸送來(lái)的底層紋理層上方,其中,所形成了面層紋理層與底層紋理層作為坯料層,并且由一級(jí)輸送帶(1)逐漸轉(zhuǎn)送至二級(jí)輸送帶(2);
    所述粗紋造型模塊(5)包括有粗線吸料模塊(51)和粗線布料模塊(52),其中,所述粗線吸料模塊(51)和粗線布料模塊(52)按現(xiàn)有順序依次作用在由一級(jí)輸送帶(1)所輸送來(lái)的坯料層上;
    所述細(xì)紋造型模塊(6)包括有細(xì)線吸料模塊(61)和細(xì)線布料模塊(62),其中,所述細(xì)線吸料模塊(61)和細(xì)線布料模塊(62)按現(xiàn)有...

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:梁海果嚴(yán)蘇景嚴(yán)文記
    申請(qǐng)(專利權(quán))人:廣東博暉機(jī)電有限公司
    類型:發(fā)明
    國(guó)別省市:廣東;44

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