【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
【國(guó)外來華專利技術(shù)】基板搬運(yùn)裝置、曝光裝置、平板顯示器的制造方法、元件制造方法、基板搬運(yùn)方法以及曝光方法
本專利技術(shù)涉及一種基板搬運(yùn)裝置、曝光裝置、平板顯示器(flatpaneldisplay)的制造方法、元件制造方法、基板搬運(yùn)方法以及曝光方法。
技術(shù)介紹
在制造液晶顯示器件、半導(dǎo)體器件等電子元件的光刻步驟中，一直使用曝光裝置，所述曝光裝置利用能量束將形成于掩模(或光掩模(reticle))的圖案轉(zhuǎn)印至基板(由玻璃或塑料等構(gòu)成的基板、半導(dǎo)體晶片(wafer)等)上。此種曝光裝置中，進(jìn)行保持基板的平臺(tái)裝置上的經(jīng)曝光基板的搬出、及新基板向平臺(tái)裝置上的搬入。關(guān)于基板的搬運(yùn)方法，例如專利文獻(xiàn)1所記載的方法為已知。現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1：國(guó)際公開第2013/150787號(hào)
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
根據(jù)第一實(shí)施方式，提供一種基板搬運(yùn)裝置，其向可保持基板的保持裝置的保持面搬運(yùn)所述基板，且包括：第一保持部，具有在所述保持裝置的上方保持所述基板的基板保持面；第二保持部，在上下方向上所述保持面與所述基板保持面之間的位置，保持經(jīng)所述第一保持部保持的所述基板的一部分；以及驅(qū)動(dòng)部，以所述第一保持部自所述保持裝置的上方退避的方式，在所述第二保持部保持所述基板的所述一部分的狀態(tài)下，使所述保持裝置及所述第二保持部與所述第一保持部相對(duì)移動(dòng)。根據(jù)第二實(shí)施方式，提供一種曝光裝置，其包括：所述基板搬運(yùn)裝置；以及光學(xué)系統(tǒng)，對(duì)經(jīng)搬運(yùn)至所述保持裝置的所述基板照射能量束，對(duì)所述基板進(jìn)行曝光。根據(jù)第三實(shí)施...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
1.一種基板搬運(yùn)裝置，向能夠保持基板的保持裝置的保持面搬運(yùn)所述基板，且包括：/n第一保持部，具有在所述保持裝置的上方保持所述基板的基板保持面；/n第二保持部，在上下方向上所述保持面與所述基板保持面之間的位置，保持經(jīng)所述第一保持部保持的所述基板的一部分；以及/n驅(qū)動(dòng)部，以所述第一保持部自所述保持裝置的上方退避的方式，在所述第二保持部保持所述基板的所述一部分的狀態(tài)下，使所述保持裝置及所述第二保持部與所述第一保持部相對(duì)移動(dòng)。/n
【技術(shù)特征摘要】
【國(guó)外來華專利技術(shù)】1.一種基板搬運(yùn)裝置，向能夠保持基板的保持裝置的保持面搬運(yùn)所述基板，且包括：
第一保持部，具有在所述保持裝置的上方保持所述基板的基板保持面；
第二保持部，在上下方向上所述保持面與所述基板保持面之間的位置，保持經(jīng)所述第一保持部保持的所述基板的一部分；以及
驅(qū)動(dòng)部，以所述第一保持部自所述保持裝置的上方退避的方式，在所述第二保持部保持所述基板的所述一部分的狀態(tài)下，使所述保持裝置及所述第二保持部與所述第一保持部相對(duì)移動(dòng)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板搬運(yùn)裝置，其中所述驅(qū)動(dòng)部在上下方向上，使所述第一保持部在所述第二保持部及所述保持裝置的上方移動(dòng)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的基板搬運(yùn)裝置，其中所述驅(qū)動(dòng)部使所述第一保持部向自所述第二保持部離開的方向移動(dòng)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的基板搬運(yùn)裝置，其中所述保持裝置自所述基板的所述一部分側(cè)向其他部分側(cè)依序保持所述基板。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的基板搬運(yùn)裝置，其中所述第二保持部在保持所述基板的其他部分的狀態(tài)下，調(diào)整所述基板相對(duì)于所述保持裝置的位置。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基板搬運(yùn)裝置，其中所述第二保持部設(shè)于所述保持面。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的基板搬運(yùn)裝置，其中所述第二保持部設(shè)于所述保持面的上方。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的基板搬運(yùn)裝置，其中所述第二保持部以沿著所述基板的背面的方式能夠移動(dòng)地設(shè)置，保持為所述背面的一部分區(qū)域的所述基板的所述一部分。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的基板搬運(yùn)裝置，其中所述第一保持部以所述基板的所述一部分與所述保持面的距離短于所述基板的其他部分與所述保持面的距離的狀態(tài)下來保持所述基板。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)所述的基板搬運(yùn)裝置，其中所述基板保持面相對(duì)于所述保持面而傾斜設(shè)置。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的基板搬運(yùn)裝置，其中所述基板保持面包含：第一面，保持所述基板的一部分且相對(duì)于所述保持面而傾斜設(shè)置；以及第二面，保持所述基板的其他部分且具有與所述保持面平行的面。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的基板搬運(yùn)裝置，其中所述第一保持部具有驅(qū)動(dòng)部，以相對(duì)于所述第二面傾斜的方式驅(qū)動(dòng)所述第一面。
13.根據(jù)權(quán)利要求1至12中任一項(xiàng)所述的基板搬運(yùn)裝置，其中所述驅(qū)動(dòng)部使所述第一保持部沿著所述保持面移動(dòng)。
14.根據(jù)權(quán)利要求1至13中任一項(xiàng)所述的基板搬運(yùn)裝置，包括將與所述基板不同的其他基板自所述保持裝置搬出的搬出裝置，
所述搬出裝置在所述驅(qū)動(dòng)部進(jìn)行的所述保持裝置及所述第二保持部與所述第一保持部與所述保持裝置及所述第二保持部的相對(duì)移動(dòng)中，搬出所述其他基板。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的基板搬運(yùn)裝置，其中所述搬出裝置使所述其他基板在上下方向上所述第一保持部與所述保持裝置之間的位置移動(dòng)。
16.根據(jù)權(quán)利要求14或15所述的基板搬運(yùn)裝置，其中所述搬出裝置設(shè)于所述第一保持部，
所述驅(qū)動(dòng)部使所述第一保持部相對(duì)于所述第二保持部及所述保持裝置相對(duì)移動(dòng)，并且使所述搬出裝置移動(dòng)。
17.根據(jù)權(quán)利要求14至16中任一項(xiàng)所述的基板搬運(yùn)裝置，其中所述保持裝置具有吸氣孔，所述吸氣孔供給使所述其他基板上浮的氣體，
所述搬出裝置使在所述保持裝置上經(jīng)上浮的所述其他基板沿著所述保持裝置的所述保持面移動(dòng)。
18.一種曝光裝置，包括：
根據(jù)權(quán)利要求1至17中任一項(xiàng)所述的基板搬運(yùn)裝置；以及
光學(xué)系統(tǒng)，對(duì)經(jīng)搬運(yùn)至所述保持裝置的所述基板照射能量束，對(duì)所述基板進(jìn)行曝光。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的曝光裝置，其中所述基板的至少一邊的長(zhǎng)度或?qū)情L(zhǎng)度為5...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：青木保夫，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：株式會(huì)社尼康，
類型：發(fā)明
國(guó)別省市：日本;JP
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