節(jié)能改進型雙銀中空玻璃磁控濺射銀靶間距調(diào)節(jié)機構制造技術

本實用新型專利技術公開了一種節(jié)能改進型雙銀中空玻璃磁控濺射銀靶間距調(diào)節(jié)機構，包括設置在磁控濺射鍍膜機其真空腔室下方的調(diào)節(jié)定板與調(diào)節(jié)動板，調(diào)節(jié)定板及調(diào)節(jié)動板均為環(huán)形板，調(diào)節(jié)定板與調(diào)節(jié)動板之間固定設置環(huán)形的波紋管，位于調(diào)節(jié)定板與調(diào)節(jié)動板之間設置至少兩組調(diào)節(jié)部件，調(diào)節(jié)部件位于波紋管的外側。本實用新型專利技術通過調(diào)節(jié)部件并配合波紋管可以實現(xiàn)根據(jù)不同真空腔室的情況合理調(diào)節(jié)磁控濺射銀靶與基材的間距，最大化的降低邊緣效應，并且由于每個真空腔室的情況不同，能夠根據(jù)情況調(diào)節(jié)間距比以往單獨制備定厚的金屬墊塊更好。

Energy saving and improved mechanism for adjusting the distance between silver targets in magnetron sputtering of double silver hollow glass

【技術實現(xiàn)步驟摘要】
節(jié)能改進型雙銀中空玻璃磁控濺射銀靶間距調(diào)節(jié)機構
本技術涉及一種節(jié)能改進型雙銀中空玻璃磁控濺射銀靶間距調(diào)節(jié)機構。
技術介紹
雙銀LowE玻璃突出了玻璃對太陽熱輻射的遮陽效果，將玻璃的高透光性與太陽熱輻射的低透過性巧妙地結合在一起，有較高的可見光透過率，可有效地限制夏季室外的背景熱輻射進入室內(nèi)。鍍膜玻璃(Reflectiveglass)也稱反射玻璃。鍍膜玻璃是在玻璃表面涂鍍一層或多層金屬、合金或金屬化合物薄膜，以改變玻璃的光學性能，滿足某種特定要求。鍍膜玻璃按產(chǎn)品的不同特性，可分為以下幾類：熱反射玻璃、低輻射玻璃(Low-E)、導電膜玻璃等。鍍膜玻璃的生產(chǎn)方法很多，主要有真空磁控濺射法、真空蒸發(fā)法、化學氣相沉積法以及溶膠—凝膠法等。磁控濺射鍍膜玻璃利用磁控濺射技術可以設計制造多層復雜膜系，可在白色的玻璃基片上鍍出多種顏色，膜層的耐腐蝕和耐磨性能較好，是目前生產(chǎn)和使用最多的產(chǎn)品之一。真空蒸發(fā)鍍膜玻璃的品種和質(zhì)量與磁控濺射鍍膜玻璃相比均存在一定差距，已逐步被真空濺射法取代。化學氣相沉積法是在浮法玻璃生產(chǎn)線上通入反應氣體在灼熱的玻璃表面分解，均勻地沉積在玻璃表面形成鍍膜玻璃。該方法的特點是設備投入少、易調(diào)控，產(chǎn)品成本低、化學穩(wěn)定性好，可進行熱加工，是目前最有發(fā)展前途的生產(chǎn)方法之一。溶膠—凝膠法生產(chǎn)鍍膜玻璃工藝簡單，穩(wěn)定性也好，不足之處是產(chǎn)品光透射比太高，裝飾性較差。目前磁控濺射法還是應用地最多的方法，而磁控濺射銀靶與基材間的間距設置得不恰當會造成邊緣效應。
技術實現(xiàn)思路
本技術的目的在于，克服現(xiàn)有技術中存在的缺陷，提供一種節(jié)能改進型雙銀中空玻璃磁控濺射銀靶間距調(diào)節(jié)機構，可以實現(xiàn)根據(jù)不同真空腔室的情況合理調(diào)節(jié)磁控濺射銀靶與基材的間距，最大化的降低邊緣效應，并且由于每個真空腔室的情況不同，能夠根據(jù)情況調(diào)節(jié)間距比以往單獨制備定厚的金屬墊塊更好。為實現(xiàn)上述目的，本技術的技術方案是設計一種節(jié)能改進型雙銀中空玻璃磁控濺射銀靶間距調(diào)節(jié)機構，包括設置在磁控濺射鍍膜機其真空腔室下方的調(diào)節(jié)定板與調(diào)節(jié)動板，調(diào)節(jié)定板及調(diào)節(jié)動板均為環(huán)形板，調(diào)節(jié)定板與調(diào)節(jié)動板之間固定設置環(huán)形的波紋管，位于調(diào)節(jié)定板與調(diào)節(jié)動板之間設置至少兩組調(diào)節(jié)部件，調(diào)節(jié)部件位于波紋管的外側。環(huán)形的調(diào)節(jié)定板及調(diào)節(jié)動板避開了中部真空濺射的空間，調(diào)節(jié)部件設置在波紋管外側，這樣調(diào)節(jié)銀靶與基材距離時不會影響內(nèi)部、不會出現(xiàn)調(diào)節(jié)部件調(diào)節(jié)時干涉或觸碰內(nèi)部的靶材或待鍍膜基材。進一步的技術方案是，調(diào)節(jié)定板位于調(diào)節(jié)動板的下方，調(diào)節(jié)動板固定連接在真空腔室的下表面，調(diào)節(jié)定板固定連接在支撐真空室的機臺的上表面，調(diào)節(jié)部件包括一根固定在調(diào)節(jié)動板下表面的支撐柱及一根固定在調(diào)節(jié)動板下表面的支撐管，支撐柱充當調(diào)節(jié)濺射銀靶間距的墊塊，支撐管位于支撐柱的一側，調(diào)節(jié)定板上設置U形孔，U形孔其兩個孔口的位置分別與支撐管及支撐柱相對應，U形孔內(nèi)適配設有橡膠棒。進一步的技術方案是，橡膠棒的一端固定連接在支撐柱下，另一端滑動設置在支撐管其管腔內(nèi)，支撐柱的直徑與支撐管的外徑相同，U形孔其兩個孔口的尺寸大于支撐柱的直徑，支撐管上設置兩個腰形孔，兩個腰形孔相對設置且位于支撐管同一高度處，與腰形孔適配設有調(diào)節(jié)螺柱，與調(diào)節(jié)螺柱適配設有兩個螺母，螺母內(nèi)徑大于腰形孔其半圓的直徑，腰形孔其半圓的直徑小于橡膠棒的直徑。U形孔的尺寸與支撐柱的高度的選擇決定了銀靶間距可調(diào)節(jié)的范圍，設置調(diào)節(jié)螺柱處于腰形孔處的位置決定了銀靶間距，調(diào)節(jié)螺柱固定好后橡膠棒只能抵靠在調(diào)節(jié)螺柱的側面，根據(jù)不同真空腔室的情況調(diào)節(jié)調(diào)節(jié)螺柱處于腰形孔處的不同位置以調(diào)節(jié)好最佳的銀靶間距以最大化降低邊緣效應。進一步的技術方案為，波紋管其分別與調(diào)節(jié)定板及調(diào)節(jié)動板相連的一端設置有固定連接在調(diào)節(jié)定板或調(diào)節(jié)動板上的密封圈。這樣保證了真空腔室不會由于調(diào)節(jié)過程的存在而影響真空腔室的真空情況，仍然保證能夠達到所要的真空度。本技術的優(yōu)點和有益效果在于：通過調(diào)節(jié)部件并配合波紋管可以實現(xiàn)根據(jù)不同真空腔室的情況合理調(diào)節(jié)磁控濺射銀靶與基材的間距，最大化的降低邊緣效應，并且由于每個真空腔室的情況不同，能夠根據(jù)情況調(diào)節(jié)間距比以往單獨制備定厚的金屬墊塊更好；環(huán)形的調(diào)節(jié)定板及調(diào)節(jié)動板避開了中部真空濺射的空間，調(diào)節(jié)部件設置在波紋管外側，這樣調(diào)節(jié)銀靶與基材距離時不會影響內(nèi)部、不會出現(xiàn)調(diào)節(jié)部件調(diào)節(jié)時干涉或觸碰內(nèi)部的靶材或待鍍膜基材。U形孔的尺寸與支撐柱的高度的選擇決定了銀靶間距可調(diào)節(jié)的范圍，設置調(diào)節(jié)螺柱處于腰形孔處的位置決定了銀靶間距，調(diào)節(jié)螺柱固定好后橡膠棒只能抵靠在調(diào)節(jié)螺柱的側面，根據(jù)不同真空腔室的情況調(diào)節(jié)調(diào)節(jié)螺柱處于腰形孔處的不同位置以調(diào)節(jié)好最佳的銀靶間距以最大化降低邊緣效應。保證了真空腔室不會由于調(diào)節(jié)過程的存在而影響真空腔室的真空情況，仍然保證能夠達到所要的真空度。附圖說明圖1是本技術一種節(jié)能改進型雙銀中空玻璃磁控濺射銀靶間距調(diào)節(jié)機構的示意圖；圖2是圖1中調(diào)節(jié)定板與調(diào)節(jié)動板部分的主視圖；圖3是圖1中調(diào)節(jié)定板、支撐柱及支撐管部分的放大示意圖；圖4是圖3中支撐管的左視圖。圖中：1、調(diào)節(jié)定板；2、調(diào)節(jié)動板；3、波紋管；4、機臺；5、支撐柱；6、支撐管；7、U形孔；8、橡膠棒；9、腰形孔；10、調(diào)節(jié)螺柱；11、螺母。具體實施方式下面結合附圖和實施例，對本技術的具體實施方式作進一步描述。以下實施例僅用于更加清楚地說明本技術的技術方案，而不能以此來限制本技術的保護范圍。如圖1至圖4所示(為便于圖示，圖3中支撐管上僅示出腰形孔，未示出調(diào)節(jié)螺柱及螺母)，本技術是一種節(jié)能改進型雙銀中空玻璃磁控濺射銀靶間距調(diào)節(jié)機構，包括設置在磁控濺射鍍膜機其真空腔室下方的調(diào)節(jié)定板1與調(diào)節(jié)動板2，調(diào)節(jié)定板1及調(diào)節(jié)動板2均為環(huán)形板，調(diào)節(jié)定板1與調(diào)節(jié)動板2之間固定設置環(huán)形的波紋管3，位于調(diào)節(jié)定板1與調(diào)節(jié)動板2之間設置至少兩組調(diào)節(jié)部件，調(diào)節(jié)部件位于波紋管3的外側。調(diào)節(jié)定板1位于調(diào)節(jié)動板2的下方，調(diào)節(jié)動板2固定連接在真空腔室的下表面，調(diào)節(jié)定板1固定連接在支撐真空室的機臺4的上表面，調(diào)節(jié)部件包括一根固定在調(diào)節(jié)動板2下表面的支撐柱5及一根固定在調(diào)節(jié)動板2下表面的支撐管6，支撐柱5充當調(diào)節(jié)濺射銀靶間距的墊塊，支撐管6位于支撐柱5的一側，調(diào)節(jié)定板1上設置U形孔7，U形孔7其兩個孔口的位置分別與支撐管6及支撐柱5相對應，U形孔7內(nèi)適配設有橡膠棒8。橡膠棒8的一端固定連接在支撐柱5下，另一端滑動設置在支撐管6其管腔內(nèi)，支撐柱5的直徑與支撐管6的外徑相同，U形孔7其兩個孔口的尺寸大于支撐柱5的直徑，支撐管6上設置兩個腰形孔9，兩個腰形孔9相對設置且位于支撐管6同一高度處，與腰形孔9適配設有調(diào)節(jié)螺柱10，與調(diào)節(jié)螺柱10適配設有兩個螺母11，螺母11內(nèi)徑大于腰形孔9其半圓的直徑，腰形孔9其半圓的直徑小于橡膠棒8的直徑。波紋管3其分別與調(diào)節(jié)定板1及調(diào)節(jié)動板2相連的一端設置有固定連接在調(diào)節(jié)定板1或調(diào)節(jié)動板2上的密封圈。以上所述僅是本技術的優(yōu)選實施方式，應當指出，對于本
的普通技術人員來說，在不脫離本技術技本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術保護點】
1.節(jié)能改進型雙銀中空玻璃磁控濺射銀靶間距調(diào)節(jié)機構，其特征在于，包括設置在磁控濺射鍍膜機其真空腔室下方的調(diào)節(jié)定板與調(diào)節(jié)動板，調(diào)節(jié)定板及調(diào)節(jié)動板均為環(huán)形板，調(diào)節(jié)定板與調(diào)節(jié)動板之間固定設置環(huán)形的波紋管，位于調(diào)節(jié)定板與調(diào)節(jié)動板之間設置至少兩組調(diào)節(jié)部件，調(diào)節(jié)部件位于波紋管的外側。/n

【技術特征摘要】
1.節(jié)能改進型雙銀中空玻璃磁控濺射銀靶間距調(diào)節(jié)機構，其特征在于，包括設置在磁控濺射鍍膜機其真空腔室下方的調(diào)節(jié)定板與調(diào)節(jié)動板，調(diào)節(jié)定板及調(diào)節(jié)動板均為環(huán)形板，調(diào)節(jié)定板與調(diào)節(jié)動板之間固定設置環(huán)形的波紋管，位于調(diào)節(jié)定板與調(diào)節(jié)動板之間設置至少兩組調(diào)節(jié)部件，調(diào)節(jié)部件位于波紋管的外側。


2.根據(jù)權利要求1所述的節(jié)能改進型雙銀中空玻璃磁控濺射銀靶間距調(diào)節(jié)機構，其特征在于，所述調(diào)節(jié)定板位于調(diào)節(jié)動板的下方，調(diào)節(jié)動板固定連接在真空腔室的下表面，調(diào)節(jié)定板固定連接在支撐真空室的機臺的上表面，調(diào)節(jié)部件包括一根固定在調(diào)節(jié)動板下表面的支撐柱及一根固定在調(diào)節(jié)動板下表面的支撐管，支撐柱充當調(diào)節(jié)濺射銀靶間距的墊塊，支撐管位于支撐柱的一側，調(diào)節(jié)定板上設置U形孔，U形孔其兩個孔口的位置分別與...

【專利技術屬性】
技術研發(fā)人員：郭博，郭亞霓，郭超，
申請(專利權)人：江陰沐祥節(jié)能裝飾工程有限公司，
類型：新型
國別省市：江蘇;32