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    真空燒結氣淬爐制造技術

    技術編號:2479329 閱讀:215 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
    本實用新型專利技術公開了一種真空燒結氣淬爐,屬于材料真空燒結、真空熱處理領域,包括真空室雙層殼體,內設有加熱體、屏蔽層、換熱器、風機、水冷氣流分布板、冷卻翅片。加熱體水平布置在被處理材料的上下兩側,也可只布置在上側或下側。本實用新型專利技術的目的是針對在同一爐內熱處理外觀尺寸相同或相近的許多小件物體提供一種均勻加熱和淬火的真空燒結氣淬爐,使爐內被熱處理的物體升溫、降溫均勻,物體性能一致,熱處理時間縮短,熱處理效率提高,節約能源。(*該技術在2010年保護過期,可自由使用*)

    【技術實現步驟摘要】

    本技術屬于材料真空燒結、真空熱處理領域,特別涉及一種真空燒結氣淬爐。真空燒結氣淬爐主要用于在無氧條件下對材料進行燒結和淬火。其工作過程為將被處理材料在無氧條件下按照一定的熱工工藝制度加熱、保溫進行燒結;停止加熱后,用低溫惰性氣體對被處理材料進行淬火。目前使用的真空燒結氣淬爐其加熱體一般都布置成圍繞被加熱材料,對材料進行加熱;如立式真空燒結氣淬爐(圖3、圖4),臥式真空燒結氣淬爐(圖5、圖6),這對于熱處理體積較大的整體形物體是必須的。要想把物體內外加熱均勻需要較長的時間,如果加熱時間受限制,物體內外的溫度將不一致,將導致被燒結的材料性能不同,影響材料性能的一致性。尤其是熱處理外觀尺寸相同或相近的小件物體,為提高裝爐量,往往將物體象搭積木一樣疊放在一起,盡量充滿加熱空間,這樣,中心物體的熱工工藝制度將有別于邊緣物體的熱工工藝制度,最終導致被加熱物體的性能不一致。本技術的目的是針對在同一爐內熱處理外觀尺寸相同或相近的許多小件物體提供一種均勻加熱和淬火的真空燒結氣淬爐,使爐內被熱處理的物體升溫、降溫均勻,物體性能一致,熱處理時間縮短,熱處理效率提高,節約能源。本技術的具體解決方案如下在真空燒結氣淬爐中將加熱體水平布置在被加熱物體的上下兩側,也可只布置在上側或下側,并保證加熱體直徑D大于加熱深度h(圖2)。這樣,當被加熱物體并排放置時,加熱體表面溫度一致,每件物體的加熱深度是相同的,則每件物體的加熱工藝制度是相同的。本技術中的加熱體可根據不同的加熱溫度選擇各種加熱元件,例如,鐵鉻鋁絲、鉬絲、鉬帶、硅碳棒、石墨棒等。在真空燒結氣淬爐中,其淬火冷卻系統主要由殼體(1)、屏蔽層(3)形成封閉氣流通道(10),與加熱室(8)、換熱器(4)、風機(5)組成。在風機(5)與加熱室之間有氣流分布板(6),使氣流穿過屏蔽層(3)進入加熱室。附圖說明圖1為本技術真空燒結氣淬爐結構示意圖。圖2為加熱體布置示意圖。圖3為立式真空燒結氣淬爐裝料示意圖(主視圖)。圖4為立式真空燒結氣淬爐裝料示意圖(俯視圖)。圖5為臥式真空燒結氣淬爐裝料示意圖(主視圖)。圖6為臥式真空燒結氣淬爐裝料示意圖(左視圖)。圖1所示的真空燒結氣淬爐為實施本技術的一個實施例。圖1中包括真空室雙層殼體(1),中間帶水冷卻,殼體(1)上由真空法蘭(9)接真空機組以及充放氣系統,在殼體(1)內設有加熱體(2)、屏蔽層(3)、換熱器(4)、風機(5)、水冷氣流分布板(6)、冷卻翅片(7);(8)為加熱室,(10)為封閉氣流通道。加熱體(2)水平布置在被處理材料的上下兩側,也可只布置在上側或下側,加熱體(2)直徑為D,加熱體(2)表面到被加熱材料的距離加上被加熱材料的厚度為加熱深度h,D/h≥1(見圖2);屏蔽層(3)與加熱體(2)構成加熱室(8),下部屏蔽層的上表面高于周邊屏蔽層的底部;屏蔽層(3)外表面與殼體(1)內表面構成封閉氣流通道(10);殼體(1)內表面安裝有冷卻翅片(7);換熱器(4)在屏蔽層(3)上方、圍繞風機(5)安裝;風機(5)在屏蔽層(3)上方;風機(5)與屏蔽層(3)之間安裝有水冷氣流分布板(6)。本實施例真空燒結氣淬爐的工作過程如下以燒結材料為例,首先將被處理工件并排放置在料盒內,把料盒送入加熱室,關閉爐門;啟動真空機組對爐內抽真空,當真空度達到要求后開始升溫加熱,按規定的熱工工藝制度進行;當工件燒結完成后,停止加熱,通入惰性氣體,啟動風機,使靜態氣體在爐內形成循環,完成淬火。權利要求1.一種真空燒結氣淬爐由真空室殼體(1)、加熱體(2)、換熱器(4)、風機(5)及真空系統組成,其特征在于加熱體(2)水平布置在被加熱物體上下兩側,也可只布置在上側或下側。2.根據權利要求1所述的真空燒結氣淬爐,其特征在于,加熱體(2)直徑為D,加熱深度為h,D/h≥1。3.根據權利要求1所述的真空燒結氣淬爐,其特征在于,加熱體可以由各種發熱元件組成。4.根據權利要求1所述的真空燒結氣淬爐,其特征在于,由殼體(1)、屏蔽層(3)形成封閉氣流通道(10),與加熱室(8)、換熱器(4)、風機(5)組成其循環系統。5.根據權利要求1所述的真空燒結氣淬爐,其特征在于,殼體(1)上布置有冷卻翅片(7)。6.根據權利要求1所述的真空燒結氣淬爐,其特征在于,換熱器(4)在屏蔽層(3)上方、圍繞風機(5)安裝。7.根據權利要求1所述的真空燒結氣淬爐,其特征在于,風機(5)與加熱室之間有水冷氣流分布板(6),使氣流穿過屏蔽層(3)進入加熱室。專利摘要本技術公開了一種真空燒結氣淬爐,屬于材料真空燒結、真空熱處理領域,包括真空室雙層殼體,內設有加熱體、屏蔽層、換熱器、風機、水冷氣流分布板、冷卻翅片。加熱體水平布置在被處理材料的上下兩側,也可只布置在上側或下側。本技術的目的是針對在同一爐內熱處理外觀尺寸相同或相近的許多小件物體提供一種均勻加熱和淬火的真空燒結氣淬爐,使爐內被熱處理的物體升溫、降溫均勻,物體性能一致,熱處理時間縮短,熱處理效率提高,節約能源。文檔編號F27B5/05GK2428745SQ0023617公開日2001年5月2日 申請日期2000年6月6日 優先權日2000年6月6日專利技術者楊勝天 申請人:楊勝天本文檔來自技高網...

    【技術保護點】
    一種真空燒結氣淬爐由真空室殼體(1)、加熱體(2)、換熱器(4)、風機(5)及真空系統組成,其特征在于:加熱體(2)水平布置在被加熱物體上下兩側,也可只布置在上側或下側。

    【技術特征摘要】

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:楊勝天
    申請(專利權)人:楊勝天
    類型:實用新型
    國別省市:11[中國|北京]

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