記憶效應小的溶液導入系統技術方案

一種新型裝置——立式樣品溶液導入裝置，它完全不同于國內外流行的Ｓｃｏｔｔ型溶液導入系統。新裝置不僅保持流行裝置的優點，而且具有記憶效應很小，信號上升下降速度快，線背比高，結構簡單，容易清洗的特長。在等離子體發射光譜分析儀和等離子體質譜儀使用中，效果良好，分析時間縮短一倍以上，氬氣消耗減少一倍多。（*該技術在1999年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】

本技術涉及一種試樣溶液導入系統裝置，屬分析儀器領域。主要用于等離子體發射光譜(ICP－AES)和等離子體質譜(ICP－MS)。八十年代后期，ICP－AES和ICP－MS作為一種先進的分析儀器得到迅速發展。等離子體發射光譜法和等離子體質譜法是利用原子、離子的發射光譜或質譜來測定樣品的含量和組成，質譜法還能進行結構分析和同位素分析。這兩種分析法的特長是能進行多元素同時分析，靈敏度高，精密度高，檢出下限低，分辨本領高，線性范圍寬，既能進行定性分析，亦能進行準確定量分析。是一種比原子吸收分析(AAS)更為優越的儀器分析法。目前，國內外商品儀器流行的溶液導入系統大多采用scott型(雙層園筒型)，如圖2所示。這種系統信號上升下降慢，記憶效應大(回零時間長)，因此，不僅使分析時間加長，氬氣消耗量也大。這對實用分析是不利的。本技術結構如附圖說明圖1所示。霧化室1是一個立式空心園錐體(通常用硬質玻璃制成，亦可用其它耐腐蝕材料)，噴霧器5前方用一個碰撞球4，互呈180°角，并有一向上小仰角。工作原理及過程高速氣體自噴霧器口噴出后，試樣溶液經毛細管自噴口呈霧狀噴出，被前方碰撞球進一步細化，根據流體動力學原理，中心軸流速大于四周流速，結果，在輸運過程中大小霧粒被自動分離開小霧粒由載氣導入炬管(Torch)，大霧粒被擴散到四周內壁，最后凝聚成液滴迅速流到底部2的廢液口6排泄掉。本裝置經實驗研究并與Scott型裝置進行詳細對比研究表明，不僅靈敏度、檢出下限、精密度、線性范圍等保持原有水平(不少元素甚至超過)，且線背比高、信號上升下降速度快、記憶效應很小，回零時間快一倍以上、樣品間清洗時間縮短，結果全部樣品分析時間加快一倍以上，氬氣消耗減小一倍多。裝置結構簡單，容易清洗。上述特長對實用分析帶來很大方便。本裝置亦適用于其它要求記憶效應小的溶液導入系統。本技術結構附圖1說明1、立式霧化室；2、底座；3、密封圈；4、碰撞球；5、噴霧器；6、廢液排泄器；7、炬管(Torch)。權利要求1.一種新型立式溶液導入系統裝置，其特征包括立式霧化室1，噴霧器5和碰撞球4。霧化室是直立式，可以是園錐體、球錐復合體或其它曲線旋封面，用硬質玻璃或其它耐腐蝕材料制作，底座2用特氟隆或其它耐腐蝕材料制作，碰撞球4根據實際分析要求可加可不加。噴霧器5與碰撞球互呈180°。并有一向上仰角。專利摘要一種新型裝置——立式樣品溶液導入裝置，它完全不同于國內外流行的Scott型溶液導入系統。新裝置不僅保持流行裝置的優點，而且具有記憶效應很小，信號上升下降速度快，線背比高，結構簡單，容易清洗的特長。在等離子體發射光譜分析儀和等離子體質譜儀使用中，效果良好，分析時間縮短一倍以上，氬氣消耗減少一倍多。文檔編號G01N30/16GK2064508SQ8922076公開日1990年10月24日 申請日期1989年12月5日 優先權日1989年12月5日專利技術者李超隆 申請人:廣東工學院本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種新型立式溶液導入系統裝置，其特征包括立式霧化室１，噴霧器５和碰撞球４。霧化室是直立式，可以是園錐體、球錐復合體或其它曲線旋封面，用硬質玻璃或其它耐腐蝕材料制作，底座２用特氟隆或其它耐腐蝕材料制作，碰撞球４根據實際分析要求可加可不加。噴霧器５與碰撞球互呈１８０°。并有一向上仰角。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：李超隆，
申請(專利權)人：廣東工學院，
類型：實用新型
國別省市：81[中國|廣州]