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    一種無機(jī)化合物晶體RbSb5S8及其制備方法、應(yīng)用技術(shù)

    技術(shù)編號(hào):29126922 閱讀:27 留言:0更新日期:2021-07-02 22:21
    本申請(qǐng)公開了一種無機(jī)化合物晶體RbSb

    【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
    一種無機(jī)化合物晶體RbSb5S8及其制備方法、應(yīng)用
    本申請(qǐng)涉及一種無機(jī)化合物晶體及其制備方法、應(yīng)用,屬于非線性光學(xué)材料領(lǐng)域。
    技術(shù)介紹
    具有二階非線性光學(xué)(NLO)性質(zhì)的開關(guān)材料因其在傳感器,信號(hào)處理,存儲(chǔ)器和光器件領(lǐng)域的潛在應(yīng)用而備受關(guān)注。在過去的十幾年里,已經(jīng)發(fā)現(xiàn)了多種NLO開關(guān)材料如Kx(NH4)2-xPO3F(x=0-0.3)、Li9Na3Rb2(SO4)7、有機(jī)鹽(Hdabco+)(CF3COO-)、NH4[(CH3)4N]SO4·H2O等。這些化合物在紫外線和可見光區(qū)域具有良好的光學(xué)透過性。但是,由于化合物中涉及的含碳和氧的化學(xué)鍵存在振動(dòng)激發(fā),因此不能應(yīng)用于紅外(IR)區(qū)域。所以,IRNLO開關(guān)材料的探索已成為NLO材料研究的重點(diǎn)領(lǐng)域。在理想的IRNLO材料的所有性能要求中,大的非線性效應(yīng)和高的激光誘導(dǎo)損傷閾值(LIDT)是兩個(gè)重要的方面,但由于其固有的不相容性,因此很難同時(shí)實(shí)現(xiàn)。此外,在具有晶態(tài)-玻璃態(tài)轉(zhuǎn)變的開關(guān)材料中,開關(guān)的可逆性和NLO開關(guān)比是NLO開關(guān)材料的兩個(gè)重要指標(biāo)。由于開關(guān)比與NLO-on和NLO-off狀態(tài)的NLO效應(yīng)有關(guān),因此同時(shí)獲得具有良好的NLO性能和開關(guān)性能的材料是比較困難的。
    技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
    根據(jù)本申請(qǐng)的第一個(gè)方面,提供一例無機(jī)化合物晶體RbSb5S8。該無機(jī)化合物晶體非線性效應(yīng)是商用AgGaS2的1.1倍(在已知的非線性光學(xué)開關(guān)材料中是最高的),激光損傷閾值是商用AgGaS2的7.1倍,非線性開光比是665,經(jīng)過3次晶態(tài)和玻璃態(tài)的可逆轉(zhuǎn)變,非線性效應(yīng)沒有明顯的衰減,其開關(guān)的可逆性良好。該化合物同時(shí)具有良好的NLO性能和開關(guān)性能,是潛在的紅外非線性光學(xué)開關(guān)材料。一種無機(jī)化合物晶體,所述的無機(jī)化合物晶體的化學(xué)式RbSb5S8,屬于單斜晶系,空間群為Pn。可選地,所述無機(jī)化合物晶體的晶胞參數(shù)為Z=2。可選地,晶胞參數(shù)為可選地,具體地,晶胞參數(shù)為α=γ=90°,β=91.822(2)°,Z=2。所述無機(jī)化合物晶體RbSb5S8的晶體結(jié)構(gòu)如圖1所示。無機(jī)化合物晶體RbSb5S8是一種二維波浪形的層狀結(jié)構(gòu):由多個(gè)[SbS3]、[SbS4]和[SbS5]單元共角和共邊形成的,Rb離子作為電荷補(bǔ)償離子通過離子鍵將這些層狀結(jié)構(gòu)連接起來。理論計(jì)算表明,RbSb5S8的NLO性能主要源于這種層狀結(jié)構(gòu)。此外,[SbS]基團(tuán)的多種配位環(huán)境和較寬的鍵長(zhǎng)范圍有利于形成具有低能壘的亞穩(wěn)態(tài)結(jié)構(gòu),因此很容易被熱誘導(dǎo)而引發(fā)相變。根據(jù)本申請(qǐng)的第二個(gè)方面,提供了一種上述所述的無機(jī)化合物晶體RbSb5S8的制備方法。該制備方法過程簡(jiǎn)單,可得到高純度、高結(jié)晶度的無機(jī)化合物晶體RbSb5S8材料。所述的無機(jī)化合物晶體RbSb5S8的制備方法,將含有鋇元素、銻元素、硫元素、銣元素的原料混合物,在1×10-4~2×10-4Pa壓強(qiáng)條件下,于900℃~1000℃溫度下發(fā)生反應(yīng),降溫得到。可選地,所述原料混合物中,鋇元素、銻元素、硫元素、銣元素的摩爾比例為:Ba:Sb:S:Rb=0.1~3:0.5~4:0.8~6:1。可選地,所述原料混合物中,鋇元素、銻元素、硫元素、銣元素的摩爾比例為:Ba:Sb:S:Rb=0.12~2:0.6~3.5:1~5.5:1;可選地,所述原料混合物中,鋇元素、銻元素、硫元素、銣元素的摩爾比例為:Ba:Sb:S:Rb=1.5:2.5:4:1。可選地,所述原料混合物中,鋇元素來自鋇單質(zhì)、氯化鋇、硫化鋇中的至少一種;銻元素來自銻單質(zhì)、硫化銻中的至少一種;硫元素來自硫單質(zhì)、硫化銻中的至少一種;銣元素來自銣單質(zhì)、氯化銣中的至少一種。可選地,所述原料混合物中,鋇元素來自鋇單質(zhì)和/或氯化鋇,銻元素來自銻單質(zhì),硫元素來自硫單質(zhì),銣元素來自氯化銣。其中,鋇單質(zhì)和氯化鋇作為助熔劑。可選地,鋇單質(zhì)、銻單質(zhì)、硫單質(zhì)、氯化銣的摩爾比為:Ba:Sb:S:RbCl=1:4~6:8~10:7~9。可選地,鋇單質(zhì)、銻單質(zhì)、硫單質(zhì)、氯化銣的摩爾比為:Ba:Sb:S:RbCl=1:5:9:8。可選地,鋇單質(zhì)、銻單質(zhì)、硫單質(zhì)、氯化銣、氯化鋇的摩爾比為:Ba:Sb:S:RbCl:BaCl2=1:8~12:14~18:2~5:3~6。可選地,鋇單質(zhì)、銻單質(zhì)、硫單質(zhì)、氯化銣、氯化鋇的摩爾比為:Ba:Sb:S:RbCl:BaCl2=1:10:16:4:5。可選地,鋇單質(zhì)、銻單質(zhì)、硫單質(zhì)、氯化銣、氯化鋇的摩爾比為:Ba:Sb:S:RbCl:BaCl2=1:10:16:3:4。可選地,所述反應(yīng)的溫度為920℃~980℃,反應(yīng)的時(shí)間為80~110h。可選地,所述反應(yīng)的溫度為940~960℃,反應(yīng)的時(shí)間為90~100h。可選地,所述反應(yīng)的溫度獨(dú)立地選自900℃、920℃、940℃、960℃、980℃、1000℃中的任意值或任意兩者之間的范圍值。可選地,所述反應(yīng)的時(shí)間獨(dú)立地選自80h、84h、88h、90h、94h、96h、98h、100h、104h、108h、110h中的任意值或任意兩者之間的范圍值。可選地,所述降溫的速率為0.5~10℃/h。可選地,所述降溫的速率為0.5~6℃/h。可選地,所述降溫的速率獨(dú)立地選自0.5℃/h、1℃/h、1.5℃/h、2℃/h、2.5℃/h、3℃/h、3.5℃/h、4℃/h、4.5℃/h、5℃/h、6℃/h、7℃/h、8℃/h、9℃/h、10℃/h中的任意值或任意兩者之間的范圍值。可選地,所述無機(jī)化合物晶體RbSb5S8為深紅色晶體。作為一種具體地實(shí)施方式,所述的無機(jī)化合物晶體RbSb5S8的制備方法如下:將鋇、銻、硫、氯化銣和氯化鋇的原材料按照摩爾比Ba:Sb:S:RbCl:BaCl2=1:10:16:4:5的比例配料并混合均勻后,裝入石英管中抽真空至10-4Pa封管,放入馬弗爐中緩慢加熱至950℃,保溫96小時(shí)后關(guān)掉馬弗爐緩慢冷卻至室溫,得到化學(xué)式為RbSb5S8的化合物。根據(jù)本申請(qǐng)的第三方面,提供了一種紅外非線性光學(xué)開關(guān)材料。一種紅外非線性光學(xué)開關(guān)材料,所述紅外非線性光學(xué)開關(guān)材料包括上述所述的無機(jī)化合物晶體RbSb5S8和/或根據(jù)上述所述的無機(jī)化合物晶體的制備方法制備得到的無機(jī)化合物晶體RbSb5S8。可選地,所述無機(jī)化合物晶體RbSb5S8經(jīng)過2-5次的晶態(tài)和玻璃態(tài)的可逆轉(zhuǎn)變,非線性效應(yīng)衰減率低于5%。激光波長(zhǎng)為1910nm時(shí),所述無機(jī)化合物晶體RbSb5S8可實(shí)現(xiàn)多次晶態(tài)和玻璃態(tài)的可逆轉(zhuǎn)變,最大開關(guān)比是665。可選地,所述無機(jī)化合物晶體RbSb5S8的非線性開光比為660~670。該無機(jī)化合物晶體RbSb5S8的非線性開光比是665,經(jīng)過3次晶態(tài)和玻璃態(tài)的可逆轉(zhuǎn)變,非線性效應(yīng)沒有明顯的衰減,說明開關(guān)的可逆性良好。可選地,所述無機(jī)化合物晶體的玻璃化溫度為200~205℃。...

    【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
    1.一種無機(jī)化合物晶體,其特征在于,所述的無機(jī)化合物晶體的化學(xué)式RbSb

    【技術(shù)特征摘要】
    1.一種無機(jī)化合物晶體,其特征在于,所述的無機(jī)化合物晶體的化學(xué)式RbSb5S8,屬于單斜晶系,空間群為Pn。


    2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無機(jī)化合物晶體,其特征在于,所述無機(jī)化合物晶體的晶胞參數(shù)為Z=2;
    優(yōu)選地,晶胞參數(shù)為
    優(yōu)選地,


    3.權(quán)利要求1至2任一項(xiàng)所述的無機(jī)化合物晶體的制備方法,其特征在于,將含有鋇元素、銻元素、硫元素、銣元素的原料混合物,在1×10-4~2×10-4Pa壓強(qiáng)條件下,于900℃~1000℃溫度下發(fā)生反應(yīng),降溫得到;
    所述原料混合物中,鋇元素、銻元素、硫元素、銣元素的摩爾比例為:
    Ba:Sb:S:Rb=0.1~3:0.5~4:0.8~6:1。


    4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的無機(jī)化合物晶體的制備方法,其特征在于,所述原料混合物中,鋇元素、銻元素、硫元素、銣元素的摩爾比例為:
    Ba:Sb:S:Rb=0.12~2:0.6~3.5:1~5.5:1;
    優(yōu)選地,所述原料混合物中,鋇元素、銻元素、硫元素、銣元素的摩爾比例為:
    Ba:Sb:S:Rb=1.5:2.5:4:1。


    5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的無機(jī)化合物晶體的制備方法,其特征在于,所述原料混合物中,鋇元素來自鋇單質(zhì)、氯化鋇、硫化鋇中的至少一種;
    銻元素來自銻單質(zhì)、硫化銻中的至少一種;
    硫元素來自硫單質(zhì)、硫化銻中的至少一種;
    銣元素來自銣單質(zhì)、氯化銣中的至少一種;
    優(yōu)選地,所述...

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:陳文發(fā)郭國(guó)聰姜小明劉彬文
    申請(qǐng)(專利權(quán))人:閩都創(chuàng)新實(shí)驗(yàn)室中國(guó)科學(xué)院福建物質(zhì)結(jié)構(gòu)研究所
    類型:發(fā)明
    國(guó)別省市:福建;35

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