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    用于OLED應用的d10金屬卡賓絡合物制造技術

    技術編號:37642442 閱讀:13 留言:0更新日期:2023-05-25 10:09
    本文描述了二配位d10金屬卡賓絡合物,其包含(i)Cu(I)、Ag(I)或Au(I),(ii)吡嗪稠合的NHC配體或吡啶稠合的NHC配體,以及(iii)咔唑配體、吡啶并[2,3

    【技術實現步驟摘要】
    用于OLED應用的d10金屬卡賓絡合物
    [0001]相關申請的交叉引用
    [0002]本申請要求2021年11月23日提交的美國臨時申請No.63/282,496的權益和優先權,其全部內容通過引用并入本文。


    [0003]本專利技術通常涉及發光的d10金屬卡賓絡合物領域,特別是含有(i)吡嗪稠合的N
    ?
    雜環卡賓配體或吡啶稠合的N
    ?
    雜環卡賓配體以及(ii)咔唑配體或α
    ?
    、β
    ?
    、γ
    ?
    或δ
    ?
    咔啉配體的d10金屬卡賓絡合物,以及這些絡合物在有機發光器件(OLEDs)中的用途。

    技術介紹

    [0004]過渡金屬絡合物作為分子探針、催化劑和發光材料在商業和學術領域獲得了極大的關注。作為發光材料,與純有機基材料相比,由于其具有提高的發光效率和設備穩定性的潛力,過渡金屬絡合物越來越多地被探討作為純有機基材料的潛在替代品。
    [0005]目前,環金屬化的銥(III)和鉑(II)磷光體是商業OLED發射體中最具競爭力的候選材料之一。盡管如此,金屬基或有機熱激活延遲熒光(TADF)發光體的發展仍然落后,主要是因為它們的穩定性較低,這會影響器件的壽命。對于實際應用,必須提高金屬基OLEDs的器件性能和操作穩定性/壽命。一些研究已經描述了用作OLED發射體的d10絡合物。其中包括Thompson等人的美國專利9,773,986;Thompson等人的歐洲專利申請公布3,489,243;Thompson等人的美國專利申請公布2015/0108451,和Thompson等人的美國專利申請公布2019/0161504;以及CN112794863。盡管如此,這些研究并沒有報道設備壽命的研究結果。其它研究包括Cu(I)、Ag(I)或Au(I)的絡合物,涉及卡賓配體和咔唑類,例如:Hamze等人,Science 2019,363,601

    606;Shi等人,J.Am.Chem.Soc.2019,141,3576
    ?
    3588;Hamze等人,J.Am.Chem.Soc.2019,141,21,8616
    ?
    8626;Li等人,Angew.Chem.Int.Ed.2020,59,8210

    8217;以及,Hamze等人,Front.Chem.2020,8:401。然而,一些絡合物顯示出磷光的特性,導致輻射衰減率較低。例如,IPr
    ?
    Cu
    ?
    Cz和IMes
    ?
    Cu
    ?
    Cz絡合物(Angew.Chem.Int.Ed.2020,59,8210
    ?
    8217)顯示出長壽命的室溫磷光,其壽命在毫秒范圍內。
    [0006]所以,仍然需要開發改進的和高效的過渡金屬絡合物,以使包含OLED的產品能夠具備更高的效率。
    [0007]因此,本專利技術的一個目的是提供新的和改進的含有d10金屬的發光過渡金屬二配位絡合物。

    技術實現思路

    [0008]本文所描述的是包含(i)Cu(I)、Ag(I)或Au(I),(ii)吡嗪稠合的N
    ?
    雜環卡賓(NHC)配體或吡啶稠合的N
    ?
    雜環卡賓配體,以及(iii)咔唑配體、吡啶[2,3
    ?
    b]吲哚配體或吡啶[3,4
    ?
    b]吲哚配體的二配位d10金屬卡賓絡合物。這些化合物的輻射特性可以通過TADF來控制。這些化合物的發射顏色也可以通過使用具有不同供體強度的咔唑、吡啶并[2,3
    ?
    b]吲哚或
    吡啶并[3,4
    ?
    b]吲哚來調節。
    [0009]本專利技術化合物具有以下結構:
    [0010][0011]其中:
    [0012]D為碳,
    [0013]T、J和W獨立地為碳或氮,其中T、J和W中至少有一個為氮,其中當T為碳時,J為氮,或者當T為氮時,J為碳,以及T、J和W根據化合價鍵合一個氫原子或不鍵合氫原子,
    [0014]每個Ra獨立地為氫、未取代的烷基或取代的烷基,
    [0015]每個Rb獨立地為未取代的烷基或取代的烷基,
    [0016]X和Y為氮,
    [0017]L為無或單鍵,
    [0018]CY3和CY4獨立地為未取代的芳基、取代的芳基、未取代的雜芳基、取代的雜芳基、取代的C3?
    C
    20
    環烯基、未取代的C3?
    C
    20
    環烯基或其稠合的組合,以及
    [0019]R1和R2為氫,或R1、J、D和R2共同形成未取代的芳基、取代的芳基、未取代的雜芳基或取代的雜芳基。
    [0020]在一些形式中,本專利技術化合物具有以下結構:
    [0021][0022]其中:
    [0023](i)M=Cu(I);W=N;Ra=H;U=CH;V=V"=碳;Rv=H;R7=R8=H;
    [0024](ii)M=Cu(I);W=N;Ra=H;U=CH;V=V"=碳;Rv=H;R7=H;R8=CN;
    [0025](iii)M=Cu(I);W=N;Ra=H;U=CH;V=V"=碳;Rv=H;R7=R8=叔丁基;
    [0026](iv)M=Cu(I);W=N;Ra=H;U=CH;V=V"=碳;Rv=H;R7=R8=苯基;
    [0027](v)M=Cu(I);W=N;Ra=H;U=CH;V=N;V"=碳;Rv=無;R7=R8=H;
    [0028](vi)M=Cu(I);W=U=CH;V=V"=碳;Rv=H;Ra=異丙基;R7=R8=H;
    [0029](vii)M=Cu(I);W=N;Ra=H;U=CH;V=V"=碳;R8=H;Rv和R7一起形成
    [0030][0031](viii)M=Cu(I);W=U=CH;Ra=異丙基;V=V"=碳;R8=H;Rv和R7一起形成
    [0032][0033](ix)M=Cu(I);W=N;Ra=H;U=CH;V=V"=碳;Rv=H;R7=R8=H;
    [0034](x)M=Cu(I);W=N;Ra=H;U=CH;V=V"=碳;Rv=H;R7=H;R8=F;
    [0035](xi)M=Cu(I);W=N;Ra=H;U=CH;V=V"=碳;Rv=H;R7=R8=甲基;
    [0036](xii)M=Au(I);W=N;Ra=H;U=CH;V=碳;Rv=H;V"=碳;R7=R8=H;
    [0037](xiii)M=Au(I);W=N;Ra=H;U=CH;V=碳;Rv=H;V"=碳;R7=H;R8=CN;
    [0038](xiv)M=Au(I);W=N;Ra=H;U=N;V=碳;Rv=H;V"=碳;R7=R8=H;
    [0039](xv)M=Au(I);W=U=CH;V=碳;Rv=H;Ra=異丙基;V"=碳;R7=R8=H;
    [0040](xvi)M=A本文檔來自技高網
    ...

    【技術保護點】

    【技術特征摘要】
    1.一種化合物,其具有以下結構:其中:所述化合物總體上具有中性、負電荷或正電荷,M是銅、銀或金,其氧化態為0、+1、+2或+3,優選+1,P'具有以下結構:D為碳,T、J和W獨立地為碳或氮,其中T、J和W中至少有一個為氮,其中當T為碳時,J為氮,或者當T為氮時,J為碳,以及T、J和W根據化合價鍵合一個氫原子或不鍵合氫原子,X和Y獨立地為碳或氮,其中X和Y中至少有一個為氮,X和Y根據化合價鍵合一個氫原子或不鍵合氫原子,R1和R2獨立地為氫、取代的烷基、未取代的烷基、取代的烯基、未取代的烯基、取代的炔基、未取代的炔基、取代的芳基、未取代的芳基、鹵素、羥基、硫醇、氰基、硝基、未取代的烷氧基、取代的烷氧基、未取代的芳氧基、取代的芳氧基、未取代的雜芳基、取代的雜芳基、未取代的多雜芳基、取代的多雜芳基、未取代的烷硫基、取代的烷硫基、未取代的羰基、取代的羰基、未取代的羧基、取代的羧基、未取代的酯、取代的酯、取代的C3?
    C
    20
    環烷基、未取代的C3?
    C
    20
    環烷基、取代的C2?
    C
    20
    雜環基、未取代的C2?
    C
    20
    雜環基、取代的C3?
    C
    20
    環烯基、未取代的C3?
    C
    20
    環烯基、取代的C3?
    C
    20
    環炔基或未取代的C3?
    C
    20
    環炔基,或者R1、J、D和R2共同形成未取代的芳基、取代的芳基、未取代的雜芳基或取代的雜芳基,R3和R4獨立地為氫、取代的烯基、未取代的烯基、取代的炔基、未取代的炔基、取代的芳基、未取代的芳基、鹵素、羥基、硫醇、氰基、硝基、未取代的烷氧基、取代的烷氧基、未取代的芳氧基、取代的芳氧基、未取代的雜芳基、取代的雜芳基、未取代的多雜芳基、取代的多雜芳基、未取代的烷硫基、取代的烷硫基、未取代的羰基、取代的羰基、未取代的羧基、取代的羧基、未取代的酯、取代的酯、取代的C3?
    C
    20
    環烷基、未取代的C3?
    C
    20
    環烷基、取代的C2?
    C
    20
    雜環基、未取代的C2?
    C
    20
    雜環基、取代的C3?
    C
    20
    環烯基、未取代的C3?
    C
    20
    環烯基、取代的C3?
    C
    20
    環炔基,或未取代的C3?
    C
    20
    環炔基,R3'和R4'獨立地為無、氫、取代的烷基、未取代的烷基、取代的烯基、未取代的烯基、取代的炔基、未取代的炔基、取代的芳基、未取代的芳基、鹵素、羥基、硫醇、氰基、硝基、未取代的
    烷氧基、取代的烷氧基、未取代的芳氧基、取代的芳氧基、未取代的雜芳基、取代的雜芳基、未取代的多雜芳基、取代的多雜芳基、未取代的烷硫基、取代的烷硫基、未取代的羰基、取代的羰基、未取代的羧基、取代的羧基、未取代的酯、取代的酯、取代的C3?
    C
    20
    環烷基、未取代的C3?
    C
    20
    環烷基、取代的C2?
    C
    20
    雜環基、未取代的C2?
    C
    20
    雜環基、取代的C3?
    C
    20
    環烯基、未取代的C3?
    C
    20
    環烯基、取代的C3?
    C
    20
    環炔基,或未取代的C3?
    C
    20
    環炔基,以及Z為取代的雜芳基、未取代的雜芳基、取代的多雜芳基、未取代的多雜芳基、取代的多雜環基、未取代的多雜環基、取代的雜環基或未取代的雜環基,或
    ?
    NR
    a
    R
    b
    ,其中R
    a
    和R
    b
    獨立地為氫、取代的芳基、未取代的芳基、取代的雜芳基、未取代的雜芳基、取代的C3?
    C
    20
    環烷基、未取代的C3?
    C
    20
    環烷基、取代的雜環基、未取代的雜環基、取代的烷基或未取代的烷基,其中(i)R3和R4不同時為3,5
    ?
    二烷基取代的芳基,(ii)R3和R4不同時為3,5
    ?
    二烷基取代的苯基,(iii)R3和R4不同時為3,5
    ?
    二甲基苯基,(iv)當M為Cu或Au時,R3和R4不同時為3,5
    ?
    二甲基苯基,或(v)所述化合物不為2.權利要求1的化合物,其具有以下結構:其中CY1和CY2獨立地為取代的芳基、未取代的芳基、取代的多芳基、未取代的多芳基、取代的雜芳基、未取代的雜芳基、取代的多雜芳基、未取代的多雜芳基、取代的C3?
    C
    20
    環烷基、未取代的C3?
    C
    20
    環烷基、取代的C3?
    C
    20
    環烯基、未取代的C3?
    C
    20
    環烯基、取代的C3?
    C
    20
    環炔基或未取代的C3?
    C
    20
    環炔基。3.權利要求1或2的化合物,其中R3'和R4’
    為無。4.權利要求2或3的化合物,其中CY1和CY2獨立地為取代的芳基、未取代的芳基、取代的多芳基或未取代的多芳基。5.權利要求2至4中任一項的化合物,其中CY1和CY2為取代的芳基。
    6.權利要求1至5中任一項的化合物,其具有以下結構:其具有以下結構:其中:R5和R6獨立地為取代的烷基或未取代的烷基,以及n1和n2獨立地為0至5之間、1至5之間、3至5之間(例如3)或2至5之間(例如2)的整數。7.權利要求1至6中任一項的化合物,其具有以下結構:其中:n1和n2獨立地為1至5之間、2至5之間或3至5之間的整數,L為無、單鍵、取代的烷基、
    ?
    (CH2)
    nx
    ?
    、氧、硫或NRx,其中nx為1至3之間的整數(例如1、2或3),以及Rx為未取代的烷基、取代的烷基、未取代的芳基或取代的芳基,以及CY3和CY4獨立地為未取代的芳基、取代的芳基、未取代的多芳基、取代的多芳基、未取代的雜芳基、取代的雜芳基、未取代的多雜芳基、取代的多雜芳基、未取代的C3?
    C
    20
    環烷基、取代的C3?
    C
    20
    環烷基、取代的C3?
    C
    20
    環烯基、未取代的C3?
    C
    20
    環烯基、取代的C3?
    C
    20
    環炔基、未取代的C3?
    C
    20
    環炔基或其稠合的組合。8.權利要求1至7中任一項的化合物,其具有以下結構:
    其中:每個Ra獨立地為氫、未取代的烷基或取代的烷基,每個Rb獨立地為未取代的烷基或取代的烷基,L為無、單鍵、取代的烷基、
    ?
    (CH2)
    nx
    ?
    、氧、硫或NRx,其中nx為1至3之間的整數(例如1、2或3),以及Rx為未取代的烷基、取代的烷基、未取代的芳基或取代的芳基,以及任選地,其中X和Y中至少有一個為氮。9.權利要求1至8中任一項的化合物,其中:(i)T為氮,J為碳,以及W為碳,(ii)T為氮,J為碳,以及W為氮,(iii)T為碳,J為氮,以及W為碳,或(iv)T為碳,J為氮,以及W為氮。10.權利要求8或9的化合物,其中:Ra獨立地為氫、未取代的烷基或取代的烷基,以及Rb獨立地為未取代的烷基或取代的烷基。11.權利要求1至10中任一項的化合物,其中P'選自:
    其中:Ra獨立地為氫、未取代的烷基或取代的烷基,以及Rb獨立地為未取代的烷基或取代的烷基。12.權利要求8至11中任一項的化合物,其中:Ra獨立地為氫、甲基、異丙基或
    ?
    CH(C2H5)2,以及Rb獨立地為甲基、異丙基或
    ?
    CH(C2H5)2。13.權利要求7至12中任一項所述的化合物,其中CY3和CY4獨立地為未取代的芳基、取代的芳基、未取代的多芳基、取代的多芳基、未取代的雜芳基、取代的雜芳基、取代的C3?
    C
    20
    環烯基、未取代的C3?
    C
    20
    環烯基或其稠合組合。14.權利要求7至13中任一項的化合物,其中CY3和CY4獨立地為未取代的芳基、取代的芳基、未取代的雜芳基、取代的雜芳基、取代的C3?
    C
    20
    環烯基、未取代的C3?
    C
    20
    環烯基或其稠合的組合。15.權利要求1至14中任一項的化合物,其中Z具有以下結構:其中:X1、X2、X3、X4、X5、X6、X...

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:唐睿支志明程剛林子龍
    申請(專利權)人:香港量子人工智能實驗室有限公司
    類型:發明
    國別省市:

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