本實(shí)用新型專利技術(shù)涉及護(hù)膚品生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種原料研磨裝置
【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
一種原料研磨裝置
[0001]本技術(shù)屬于護(hù)膚品生產(chǎn)
，特別涉及一種原料研磨裝置
。
技術(shù)介紹
[0002]護(hù)膚品生產(chǎn)加工的過(guò)程中，需要對(duì)一些護(hù)膚品的原料進(jìn)行研磨
。
[0003]經(jīng)檢索，現(xiàn)有技術(shù)中，中國(guó)專利公告號(hào)：
CN218784847U
，公告日：
2023
?
04
?
04
，公開(kāi)了一種護(hù)膚產(chǎn)品加工研磨裝置，涉及護(hù)膚品加工
。
本技術(shù)包括外殼體，外殼體的內(nèi)側(cè)設(shè)置有研磨組件，研磨組件的兩側(cè)設(shè)置有清理組件；研磨組件包括第一絲桿
、
滑塊和研磨輥，第一絲桿的外壁兩側(cè)均套設(shè)有滑塊，滑塊相鄰之間活動(dòng)連接有轉(zhuǎn)軸，轉(zhuǎn)軸的外壁上均套設(shè)有研磨輥；清理組件包括第三電機(jī)
、
第二絲桿和刮板，第三電機(jī)的輸出軸貫穿外殼體的一側(cè)外壁并固定連接有第二絲桿，第二絲桿通過(guò)滑板設(shè)置有刮板，刮板的一側(cè)抵觸連接在研磨輥的背向面上
。
該技術(shù)通過(guò)研磨組件中的第一絲桿和滑塊帶動(dòng)研磨輥進(jìn)行運(yùn)動(dòng)，從而實(shí)現(xiàn)了對(duì)研磨后的顆粒大小進(jìn)行控制，同時(shí)通過(guò)第三電機(jī)和第二絲桿帶動(dòng)刮板將研磨輥上粘附的原料粉末刮下
。
[0004]但該研磨裝置仍存在以下缺陷：
[0005]現(xiàn)有的研磨裝置在研磨過(guò)程中，經(jīng)常會(huì)出現(xiàn)研磨不充分的現(xiàn)象，因此研磨后通常需要進(jìn)行一次過(guò)濾，將大顆粒的原料篩分出來(lái)進(jìn)行二次研磨，導(dǎo)致研磨工作缺乏連續(xù)性，降低了研磨工作的效率
。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
[0006]針對(duì)上述問(wèn)題，本技術(shù)提供了一種原料研磨裝置，包括箱體；所述箱體內(nèi)設(shè)有研磨室；所述研磨室的頂部?jī)?nèi)壁上設(shè)有第一研磨機(jī)構(gòu)；所述第一研磨機(jī)構(gòu)的下方設(shè)有篩網(wǎng)；所述篩網(wǎng)的底部中心處設(shè)有激振器；所述篩網(wǎng)的右視截面為扇環(huán)形；所述篩網(wǎng)為傾斜設(shè)置，且最低處開(kāi)設(shè)有轉(zhuǎn)移通槽；所述研磨室的一側(cè)內(nèi)部上設(shè)有第二研磨機(jī)構(gòu)；所述第二研磨機(jī)構(gòu)位于轉(zhuǎn)移通槽的正下方；所述第二研磨機(jī)構(gòu)的輸入端上連通有轉(zhuǎn)移管；所述轉(zhuǎn)移管遠(yuǎn)離第二研磨機(jī)構(gòu)的一端與轉(zhuǎn)移通槽的底部連通
。
[0007]進(jìn)一步的，所述箱體的底部邊緣處設(shè)有若干組支撐柱；所述箱體的頂部設(shè)有投料口；所述研磨室的一側(cè)內(nèi)壁上設(shè)有開(kāi)口；所述開(kāi)口上設(shè)有箱門(mén)
。
[0008]進(jìn)一步的，所述第一研磨機(jī)構(gòu)的輸入端與投料口連通；所述第一研磨機(jī)構(gòu)包括第一研磨箱；所述第一研磨箱內(nèi)平行設(shè)有兩組第一研磨輥
。
[0009]進(jìn)一步的，所述第一研磨箱的兩側(cè)內(nèi)壁上對(duì)稱設(shè)有兩組第一刮板；每組所述第一刮板均活動(dòng)抵觸在相應(yīng)一組第一研磨輥的外壁上；所述第一研磨箱的底部設(shè)有第一下料口
。
[0010]進(jìn)一步的，所述第二研磨機(jī)構(gòu)包括第二研磨箱；所述第二研磨箱內(nèi)平行設(shè)有兩組第二研磨輥
。
[0011]進(jìn)一步的，所述第二研磨箱的兩側(cè)內(nèi)壁上對(duì)稱設(shè)有兩組第二刮板；每組所述第二
刮板均活動(dòng)抵觸在相應(yīng)一組第二研磨輥的外壁上；所述第二研磨箱底部一側(cè)內(nèi)壁上開(kāi)設(shè)有第二下料口
。
[0012]進(jìn)一步的，所述研磨室的底部?jī)?nèi)壁上開(kāi)設(shè)有集中槽；所述集中槽的俯視截面為圓形；所述集中槽的底部中心處設(shè)有轉(zhuǎn)桿；所述轉(zhuǎn)桿的側(cè)壁上設(shè)有底刮板
。
[0013]進(jìn)一步的，所述底刮板活動(dòng)抵觸在集中槽的底部和側(cè)內(nèi)壁上；所述集中槽的底部開(kāi)設(shè)有出料槽；所述箱體的頂部中心處設(shè)有電機(jī)；所述電機(jī)的輸出端與轉(zhuǎn)桿傳動(dòng)連接
。
[0014]本技術(shù)的有益效果是：
[0015]1、
通過(guò)將化妝品原料在第一研磨機(jī)構(gòu)內(nèi)進(jìn)行一次研磨后排出，激振器帶動(dòng)篩網(wǎng)震動(dòng)將第一研磨后的遠(yuǎn)離進(jìn)行篩分，直徑符合標(biāo)準(zhǔn)的顆粒通過(guò)篩網(wǎng)落下，直徑不符合標(biāo)準(zhǔn)的顆粒在篩網(wǎng)震動(dòng)的過(guò)程中朝低處移動(dòng)并通過(guò)轉(zhuǎn)移通槽和轉(zhuǎn)移管進(jìn)入第二研磨機(jī)構(gòu)內(nèi)進(jìn)行二次研磨，避免了需要單獨(dú)進(jìn)行二次研磨，保證了研磨工作的連續(xù)性，提高了研磨裝置的工作效率
。
[0016]2、
通過(guò)控制電機(jī)帶動(dòng)轉(zhuǎn)桿轉(zhuǎn)動(dòng)，轉(zhuǎn)桿帶動(dòng)底刮板轉(zhuǎn)動(dòng)，將集中槽底部的研磨后的原料掃入出料槽內(nèi)，隨后進(jìn)行收集工作，避免了下料不徹底有殘留原料需要人工清潔的問(wèn)題，提高了研磨裝置的清潔效率
。
[0017]本技術(shù)的其它特征和優(yōu)點(diǎn)將在隨后的說(shuō)明書(shū)中闡述，并且，部分地從說(shuō)明書(shū)中變得顯而易見(jiàn)，或者通過(guò)實(shí)施本技術(shù)而了解
。
本技術(shù)的目的和其他優(yōu)點(diǎn)可通過(guò)在說(shuō)明書(shū)
、
權(quán)利要求書(shū)以及附圖中所指出的結(jié)構(gòu)來(lái)實(shí)現(xiàn)和獲得
。
附圖說(shuō)明
[0018]為了更清楚地說(shuō)明本技術(shù)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作一簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖是本技術(shù)的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖
。
[0019]圖1示出了根據(jù)本技術(shù)實(shí)施例的研磨裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0020]圖2示出了根據(jù)本技術(shù)實(shí)施例的研磨裝置的剖視示意圖；
[0021]圖3示出了根據(jù)本技術(shù)實(shí)施例的研磨裝置的局部剖視示意圖；
[0022]圖4示出了根據(jù)本技術(shù)實(shí)施例的濾網(wǎng)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0023]圖5示出了根據(jù)本技術(shù)實(shí)施例的圖
2A
處的放大示意圖
。
[0024]圖中：
1、
箱體；
2、
支撐柱；
3、
投料口；
4、
箱門(mén)；
5、
研磨室；
6、
第一研磨箱；
7、
第一研磨輥；
8、
第一刮板；
9、
第一下料口；
10、
篩網(wǎng)；
11、
激振器；
12、
轉(zhuǎn)移管；
13、
集中槽；
14、
轉(zhuǎn)桿；
15、
底刮板；
16、
出料槽；
17、
電機(jī)；
18、
轉(zhuǎn)移通槽；
19、
第二研磨箱；
20、
第二研磨輥；
21、
第二刮板；
22、
第二下料口
。
具體實(shí)施方式
[0025]為使本技術(shù)實(shí)施例的目的
、
技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合本技術(shù)實(shí)施例中的附圖，對(duì)本技術(shù)實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚
、
完整地說(shuō)明，顯然，所描述的實(shí)施例是本技術(shù)一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例
。
基于本技術(shù)中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于
本技術(shù)保護(hù)的范圍
。
[0026]本技術(shù)實(shí)施例提供了一種原料研磨裝置，包括箱體
1。
示例性的，如圖
1、
圖
2、<本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
【技術(shù)特征摘要】
1.
一種原料研磨裝置，其特征在于：包括箱體
(1)
；所述箱體
(1)
內(nèi)設(shè)有研磨室
(5)
；所述研磨室
(5)
的頂部?jī)?nèi)壁上設(shè)有第一研磨機(jī)構(gòu)；所述第一研磨機(jī)構(gòu)的下方設(shè)有篩網(wǎng)
(10)
；所述篩網(wǎng)
(10)
的底部中心處設(shè)有激振器
(11)
；所述篩網(wǎng)
(10)
的右視截面為扇環(huán)形；所述篩網(wǎng)
(10)
為傾斜設(shè)置，且最低處開(kāi)設(shè)有轉(zhuǎn)移通槽
(18)
；所述研磨室
(5)
的一側(cè)內(nèi)部上設(shè)有第二研磨機(jī)構(gòu)；所述第二研磨機(jī)構(gòu)位于轉(zhuǎn)移通槽
(18)
的正下方；所述第二研磨機(jī)構(gòu)的輸入端上連通有轉(zhuǎn)移管
(12)
；所述轉(zhuǎn)移管
(12)
遠(yuǎn)離第二研磨機(jī)構(gòu)的一端與轉(zhuǎn)移通槽
(18)
的底部連通
。2.
根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種原料研磨裝置，其特征在于：所述箱體
(1)
的底部邊緣處設(shè)有若干組支撐柱
(2)
；所述箱體
(1)
的頂部設(shè)有投料口
(3)
；所述研磨室
(5)
的一側(cè)內(nèi)壁上設(shè)有開(kāi)口；所述開(kāi)口上設(shè)有箱門(mén)
(4)。3.
根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種原料研磨裝置，其特征在于：所述第一研磨機(jī)構(gòu)的輸入端與投料口
(3)
連通；所述第一研磨機(jī)構(gòu)包括第一研磨箱
(6)
；所述第一研磨箱
(6)
內(nèi)平行設(shè)有兩組第一研磨輥
(7)。4.
根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種原料研磨裝置，其特征在于：所述第一研磨箱
(6)
的兩側(cè)內(nèi)壁上對(duì)稱設(shè)有兩組第一刮板
(8)
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：蘭鵬，零雄壯，簡(jiǎn)明，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：江西美儷佳生物科技有限公司，
類型：新型
國(guó)別省市：
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