【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)涉及領(lǐng)域，具體為一種超導(dǎo)體用鈮錠的熔煉工藝。
技術(shù)介紹
1、鈮化學(xué)符號nb，原子序數(shù)為41，是一種過渡金屬元素，鈮單質(zhì)是一種帶光澤的灰色金屬，高純度鈮金屬的延展性較高，但會隨雜質(zhì)含量的增加而變硬，鈮對于熱中子的捕獲截面很低，因此在核工業(yè)上有相當(dāng)?shù)挠锰?，超?dǎo)體，又稱為超導(dǎo)材料，指在某一溫度下，電阻為零的導(dǎo)體，在實(shí)驗(yàn)中，若導(dǎo)體電阻的測量值低于10—25ω，可以認(rèn)為電阻為零，超導(dǎo)體不僅具有零電阻的特性，另一個(gè)重要特征是完全抗磁性，鈮金屬在超導(dǎo)體領(lǐng)域中通常生產(chǎn)為鈮錠以達(dá)到其使用目的，而現(xiàn)有鈮錠熔煉生產(chǎn)通常采用加熱熔煉的方式對其進(jìn)行熔煉，常見的容量器械為熔煉爐；
2、現(xiàn)有熔煉爐對其進(jìn)行熔煉過程中通常需要對鈮錠用以火焰噴槍對其進(jìn)行加熱熔煉，而熔煉的鈮錠在下落以及輸送至熔煉爐內(nèi)部的過程中，導(dǎo)致其內(nèi)部出現(xiàn)大量的空氣，現(xiàn)有的去除空氣方式為對其內(nèi)部加入金屬鋁，借助鋁來去除鈮材中的氧，此方法可以做到1次熔煉就能使氧含量降低到10ppm以下，提升效率，降低成本。
3、該方式中，其內(nèi)部的空氣容易殘留于熔煉爐內(nèi)壁，由于熔煉溫度較高導(dǎo)致其內(nèi)部的空氣難以有效地對其進(jìn)行排出，因此存在一定的局限性，并且在加入金屬濾同時(shí)，需要使其充分混合，由于其高溫熔煉的特性導(dǎo)致其混合難度大大提高，并且導(dǎo)致其效率大大降低。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、基于此，本專利技術(shù)的目的是提供一種超導(dǎo)體用鈮錠的熔煉工藝，以解決上述背景中提出的技術(shù)問題。
2、為實(shí)現(xiàn)上述目的，本專利技術(shù)提供如下技術(shù)方案：一種超導(dǎo)體
3、所述熔煉爐本體包括有熔煉座，所述熔煉座頂端固定有固定底座；
4、所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)包括有與熔煉座轉(zhuǎn)動連接的轉(zhuǎn)軸，所述轉(zhuǎn)軸端部固定有偏心盤；
5、所述往復(fù)滑動機(jī)構(gòu)包括有滑動于偏心盤一側(cè)的滑盤，且滑盤內(nèi)壁固定有多組與偏心盤側(cè)壁接觸的內(nèi)推擠盤，所述滑盤頂端固定有導(dǎo)向桿；
6、所述自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)包括有固定于轉(zhuǎn)軸端部的內(nèi)固定齒盤，且內(nèi)固定齒盤位于偏心盤下方，所述熔煉座頂端轉(zhuǎn)動有與內(nèi)固定齒盤相咬合的傳動齒輪，所述熔煉座頂端轉(zhuǎn)動有與固定底座轉(zhuǎn)動連接的轉(zhuǎn)盤座，所述轉(zhuǎn)盤座內(nèi)壁固定有與傳動齒輪相咬合的內(nèi)齒環(huán)，且導(dǎo)向桿與轉(zhuǎn)盤座滑動連接，所述轉(zhuǎn)盤座頂端開設(shè)有與導(dǎo)向桿相匹配的導(dǎo)向總槽。
7、作為本專利技術(shù)的一種超導(dǎo)體用鈮錠的熔煉工藝優(yōu)選技術(shù)方案，多組所述內(nèi)推擠盤呈環(huán)形陣列分布，所述導(dǎo)向桿為十字型，所述導(dǎo)向桿位于轉(zhuǎn)盤座內(nèi)部。
8、作為本專利技術(shù)的一種超導(dǎo)體用鈮錠的熔煉工藝優(yōu)選技術(shù)方案，所述導(dǎo)向總槽包括有多組方形槽，多組所述方形槽呈環(huán)形陣列分布，且多組方形槽數(shù)量與內(nèi)推擠盤數(shù)量相等同，所述導(dǎo)向總槽包括有位于多組方形槽之間的直滑槽，且直滑槽為方形。
9、作為本專利技術(shù)的一種超導(dǎo)體用鈮錠的熔煉工藝優(yōu)選技術(shù)方案，所述方形槽內(nèi)壁固定有與導(dǎo)向桿側(cè)壁接觸的伸縮桿，且伸縮桿內(nèi)部設(shè)置有復(fù)位彈簧與阻尼器。
10、作為本專利技術(shù)的一種超導(dǎo)體用鈮錠的熔煉工藝優(yōu)選技術(shù)方案，所述熔煉座底端開設(shè)有與轉(zhuǎn)軸相匹配的轉(zhuǎn)孔，所述熔煉座底端固定有驅(qū)動電機(jī)，且轉(zhuǎn)軸與驅(qū)動電機(jī)之間通過聯(lián)軸器連接。
11、作為本專利技術(shù)的一種超導(dǎo)體用鈮錠的熔煉工藝優(yōu)選技術(shù)方案，所述導(dǎo)向桿頂端固定有與轉(zhuǎn)盤座滑動連接的外滑筒，所述熔煉總成包括有滑動于外滑筒內(nèi)部的熔煉筒，所述熔煉筒底端固定有延伸至轉(zhuǎn)盤座內(nèi)部的下固定桿，所述下固定桿底端固定有與偏心盤側(cè)壁接觸的半球塊。
12、作為本專利技術(shù)的一種超導(dǎo)體用鈮錠的熔煉工藝優(yōu)選技術(shù)方案，所述熔煉總成包括有固定于熔煉筒內(nèi)部的傾斜塊，所述熔煉筒側(cè)壁設(shè)置有延伸至熔煉筒內(nèi)部的出液管，所述出液管內(nèi)部設(shè)置有蝶閥。
13、作為本專利技術(shù)的一種超導(dǎo)體用鈮錠的熔煉工藝優(yōu)選技術(shù)方案，所述熔煉座底端固定有多組支撐腿，且多組支撐腿呈矩形整列分布。
14、綜上所述，本專利技術(shù)主要具有以下有益效果：
15、1.本專利技術(shù)通過啟動驅(qū)動電機(jī)，可使得偏心輪推擠多組內(nèi)推擠盤，并在導(dǎo)向桿以及伸縮桿的相互配合下，可使得導(dǎo)向桿頂端固定的外滑筒滑動于轉(zhuǎn)盤座頂端，可起到充分混合的作用；
16、2.本專利技術(shù)通過可在傳動齒輪、內(nèi)齒環(huán)以及轉(zhuǎn)盤座的相互配合下，可使得轉(zhuǎn)盤座圍繞與熔煉座接觸位置處轉(zhuǎn)動，起到了自轉(zhuǎn)的作用，可對熔煉的鈮錠進(jìn)行充分混合的作用；
17、3.本專利技術(shù)通過驅(qū)動電機(jī)的啟動可使得偏心盤轉(zhuǎn)動，繼而可使其與多組下固定桿底端固定的半球塊接觸，可推擠下固定桿頂端固定的熔煉筒滑動于外滑筒內(nèi)部，可使得熔煉筒內(nèi)壁存在的氣泡進(jìn)行抖動，可起到去除氣泡的作用，避免了傳統(tǒng)對熔煉筒靜置所存在效率低的問題，大大提高了其生產(chǎn)效率。
18、4.本專利技術(shù)通過打開蝶閥，并在傾斜塊的配合下，可使得熔煉的鈮錠沿著其傾斜面滑動，繼而通過出液管排出，起到了便于排出的作用。
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1.一種超導(dǎo)體用鈮錠的熔煉工藝，包括熔煉爐本體(100)，其特征在于：所述熔煉爐本體(100)頂端設(shè)置有延伸至其下方的驅(qū)動機(jī)構(gòu)(200)，所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)(200)頂端轉(zhuǎn)動有往復(fù)滑動機(jī)構(gòu)(300)，所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)(200)側(cè)設(shè)置有自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)(400)，所述自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)(400)頂端設(shè)置有熔煉總成(500)；
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種超導(dǎo)體用鈮錠的熔煉工藝，其特征在于：多組所述內(nèi)推擠盤(320)呈環(huán)形陣列分布，所述導(dǎo)向桿(330)為十字型，所述導(dǎo)向桿(330)位于轉(zhuǎn)盤座(440)內(nèi)部。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種超導(dǎo)體用鈮錠的熔煉工藝，其特征在于：所述導(dǎo)向總槽(350)包括有多組方形槽(351)，多組所述方形槽(351)呈環(huán)形陣列分布，且多組方形槽(351)數(shù)量與內(nèi)推擠盤(320)數(shù)量相等同，所述導(dǎo)向總槽(350)包括有位于多組方形槽(351)之間的直滑槽(352)，且直滑槽(352)為方形。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種超導(dǎo)體用鈮錠的熔煉工藝，其特征在于：所述方形槽(351)內(nèi)壁固定有與導(dǎo)向桿(330)側(cè)壁接觸的伸縮桿(340)，且伸縮桿(340)內(nèi)
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種超導(dǎo)體用鈮錠的熔煉工藝，其特征在于：所述熔煉座(110)底端開設(shè)有與轉(zhuǎn)軸(220)相匹配的轉(zhuǎn)孔，所述熔煉座(110)底端固定有驅(qū)動電機(jī)(210)，且轉(zhuǎn)軸(220)與驅(qū)動電機(jī)(210)之間通過聯(lián)軸器連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種超導(dǎo)體用鈮錠的熔煉工藝，其特征在于：所述導(dǎo)向桿(330)頂端固定有與轉(zhuǎn)盤座(440)滑動連接的外滑筒(360)，所述熔煉總成(500)包括有滑動于外滑筒(360)內(nèi)部的熔煉筒(510)，所述熔煉筒(510)底端固定有延伸至轉(zhuǎn)盤座(440)內(nèi)部的下固定桿(520)，所述下固定桿(520)底端固定有與偏心盤(230)側(cè)壁接觸的半球塊(530)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種超導(dǎo)體用鈮錠的熔煉工藝，其特征在于：所述熔煉總成(500)包括有固定于熔煉筒(510)內(nèi)部的傾斜塊(540)，所述熔煉筒(510)側(cè)壁設(shè)置有延伸至熔煉筒(510)內(nèi)部的出液管(550)，所述出液管(550)內(nèi)部設(shè)置有蝶閥。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種超導(dǎo)體用鈮錠的熔煉工藝，其特征在于：所述熔煉座(110)底端固定有多組支撐腿(120)，且多組支撐腿(120)呈矩形整列分布。
...【技術(shù)特征摘要】
1.一種超導(dǎo)體用鈮錠的熔煉工藝，包括熔煉爐本體(100)，其特征在于：所述熔煉爐本體(100)頂端設(shè)置有延伸至其下方的驅(qū)動機(jī)構(gòu)(200)，所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)(200)頂端轉(zhuǎn)動有往復(fù)滑動機(jī)構(gòu)(300)，所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)(200)側(cè)設(shè)置有自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)(400)，所述自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)(400)頂端設(shè)置有熔煉總成(500)；
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種超導(dǎo)體用鈮錠的熔煉工藝，其特征在于：多組所述內(nèi)推擠盤(320)呈環(huán)形陣列分布，所述導(dǎo)向桿(330)為十字型，所述導(dǎo)向桿(330)位于轉(zhuǎn)盤座(440)內(nèi)部。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種超導(dǎo)體用鈮錠的熔煉工藝，其特征在于：所述導(dǎo)向總槽(350)包括有多組方形槽(351)，多組所述方形槽(351)呈環(huán)形陣列分布，且多組方形槽(351)數(shù)量與內(nèi)推擠盤(320)數(shù)量相等同，所述導(dǎo)向總槽(350)包括有位于多組方形槽(351)之間的直滑槽(352)，且直滑槽(352)為方形。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種超導(dǎo)體用鈮錠的熔煉工藝，其特征在于：所述方形槽(351)內(nèi)壁固定有與導(dǎo)向桿(330)側(cè)壁接觸的伸縮桿(340)，且伸縮桿(340)內(nèi)部設(shè)置有復(fù)位彈簧與阻尼器。
5.根...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：柴正伍，馮中慧，李瑩，
申請(專利權(quán))人：稀美貴陽科技有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：
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