【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
【國外來華專利技術(shù)】
本專利技術(shù)涉及空間光相位調(diào)制器以及具備多個空間光相位調(diào)制器的光運(yùn)算裝置。
技術(shù)介紹
1、通過將多個光調(diào)制器配置為矩陣狀而得到空間光調(diào)制器。作為空間光調(diào)制器，公知有l(wèi)cos(liquid?crystal?on?silicon：液晶覆硅，例如參照專利文獻(xiàn)1)以及dmd(digitalmirror?device：數(shù)字微鏡器件，例如參照專利文獻(xiàn)2)。這些空間光調(diào)制器例如用于投影儀。
2、專利文獻(xiàn)1：日本公開專利公報“日本特開2017-198949號公報”
3、專利文獻(xiàn)2：日本公表專利公報“日本特表2007-510174號公報”
4、這些空間光調(diào)制器存在難以使像素尺寸變小這樣的課題。
5、此外，lcos以及dmd存在難以以高速進(jìn)行動作這樣的課題。原因在于，lcos使用液晶，dmd使反射鏡機(jī)械移動。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本專利技術(shù)是鑒于上述的課題而完成的，其目的在于提供能夠?qū)崿F(xiàn)小型化且能夠以高速進(jìn)行動作的空間光相位調(diào)制器。此外，目的在于提供具備多個這樣的空間光相位調(diào)制器的光運(yùn)算裝置。
2、為了解決上述課題，本專利技術(shù)的第1方式所涉及的空間光相位調(diào)制器是具備多個微單元的空間光相位調(diào)制器。在該空間光相位調(diào)制器中，各微單元由光相位調(diào)制器構(gòu)成，上述光相位調(diào)制器具備具有相互對置的第1光學(xué)有效面以及第2光學(xué)有效面的磁化自由層、和控制該磁化自由層的磁化的朝向的控制部，各磁化自由層以及各控制部構(gòu)成為將上述磁化的朝向控制成與上述第1光學(xué)有效面以及上述第2
3、根據(jù)本專利技術(shù)的一個方式，能夠提供能夠?qū)崿F(xiàn)小型化且能夠以高速進(jìn)行動作的空間光相位調(diào)制器以及具備多個這樣的空間光相位調(diào)制器的光運(yùn)算裝置。
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1.一種空間光相位調(diào)制器，其具備多個微單元，
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的空間光相位調(diào)制器，其特征在于，
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的空間光相位調(diào)制器，其特征在于，
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的空間光相位調(diào)制器，其特征在于，
5.根據(jù)權(quán)利要求2～4中任一項(xiàng)所述的空間光相位調(diào)制器，其特征在于，
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的空間光相位調(diào)制器，其特征在于，
7.根據(jù)權(quán)利要求2～4中任一項(xiàng)所述的空間光相位調(diào)制器，其特征在于，
8.一種光運(yùn)算裝置，其具備多個權(quán)利要求1～7中任一項(xiàng)所述的空間光相位調(diào)制器，
【技術(shù)特征摘要】
【國外來華專利技術(shù)】
1.一種空間光相位調(diào)制器，其具備多個微單元，
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的空間光相位調(diào)制器，其特征在于，
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的空間光相位調(diào)制器，其特征在于，
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的空間光相位調(diào)制器，其特征在于，
5.根據(jù)權(quán)利要求2～4...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：九內(nèi)雄一朗，柏木正浩，
申請(專利權(quán))人：株式會社藤倉，
類型：發(fā)明
國別省市：
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