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    一種真空蒸鍍卷繞鍍膜裝置的膜面質量調控方法制造方法及圖紙

    技術編號:43428200 閱讀:15 留言:0更新日期:2024-11-27 12:39
    本發明專利技術公開了一種真空蒸鍍卷繞鍍膜裝置及膜面質量調控方法,裝置包括:放卷輥、收卷輥,以及位于放卷輥和收卷輥之間的鍍膜鼓、鍍膜鼓刮刀、膜面視覺檢測相機、方阻檢測儀;還包括位于鍍膜鼓底部的蒸發舟和送絲機構、位于真空蒸鍍室外部的蒸發舟表面監測相機,以及與鍍膜鼓刮刀、膜面視覺檢測相機、方阻檢測儀、蒸發舟、送絲機構和蒸發舟表面監測相機連接的控制裝置。通過本發明專利技術公開的真空蒸鍍卷繞鍍膜裝置及膜面質量調控方法,能夠提高膜面質量。

    【技術實現步驟摘要】

    本專利技術涉及集流體,具體為一種真空蒸鍍卷繞鍍膜裝置的膜面質量調控方法


    技術介紹

    1、真空蒸鍍卷繞鍍膜設備是一類對柔性基材表面在較高真空度下進行連續鍍膜的設備。目前的真空卷繞鍍膜設備包括單面蒸鍍設備和雙面蒸鍍設備。單面和雙面真空蒸鍍卷繞鍍膜設備的機內下部位置設有蒸鍍鍍膜室,機內上部設有柔性基材收放卷室和供基材穿過的過渡室。收放卷室主要作用為柔性基材進行放卷和鍍膜后收卷,蒸鍍鍍膜室的主要作用是為在柔性基材表面鍍膜提供真空場所、蒸發源和蒸發材料所在位置,過渡室主要作用為在柔性基材在進入鍍膜腔室前或基材鍍膜完成進入收卷前將材料進行展平對齊,防止出現鍍膜瑕疵。

    2、一般的真空蒸鍍卷繞鍍膜設備,其蒸鍍室內有多個蒸發舟,每個蒸發舟配一個送絲盤和送絲機構,整體鍍膜質量受每一個蒸發舟、送絲機構以及蒸發室內部整體變化影響,因此其鍍膜質量非常低,經常出現表面針孔、穿孔、金屬微粒濺射、表面方阻不均一等瑕疵問題。出現以上問題時基本需要人工進行干預,且人工調整效率低、速度慢,要求設備操作人員具備豐富的真空蒸鍍鍍膜設備操作經驗。


    技術實現思路

    1、本專利技術所要解決的技術問題在于:解決鍍膜過程中膜面出現針孔、穿孔、金屬的微粒濺射、膜表面方阻均一性差等瑕疵問題。

    2、為解決上述技術問題,本專利技術提供如下技術方案:

    3、一種真空蒸鍍卷繞鍍膜裝置,包括:放卷輥(110)、收卷輥(120),以及位于放卷輥(110)和收卷輥(120)之間的鍍膜鼓(200)、鍍膜鼓刮刀(300)、膜面視覺檢測相機(400)、方阻檢測儀(500);還包括位于鍍膜鼓(200)底部的蒸發舟(600)和送絲機構(700)、位于真空蒸鍍室(a)外部的蒸發舟表面監測相機(800),以及與鍍膜鼓刮刀(300)、膜面視覺檢測相機(400)、方阻檢測儀(500)、蒸發舟(600)、送絲機構(700)和蒸發舟表面監測相機(800)連接的控制裝置。

    4、優點:蒸發舟表面監測相機、膜面視覺檢測相機、方阻檢測儀和控制裝置組成的在線膜面質量控制系統,來檢測獲知蒸鍍過程蒸鍍設備和膜面瑕疵,以便于調控鍍膜工藝參數和設備表面及時清潔,保證鍍膜膜面質量,提升鍍膜良率,提高設備調控效率和準確性。

    5、在本專利技術的一實施例中,鍍膜鼓(200)包括依次設置的第一側面鍍膜鼓(210)和第二側面鍍膜鼓(220),用于實現膜材兩面鍍厚。

    6、在本專利技術的一實施例中,鍍膜鼓刮刀(300)的數量與鍍膜鼓(200)的數量匹配,包括第一鍍膜鼓刮刀(310)和第二鍍膜鼓刮刀(320),第一鍍膜鼓刮刀(310)位于第一側面鍍膜鼓(210)的非蒸鍍面,用以清理刮除因蒸鍍過程金屬濺射黏附在第一側面鍍膜鼓(210)表面的金屬微粒;第二鍍膜鼓刮刀(320)位于第二側面鍍膜鼓(220)的非蒸鍍面,用以清理刮除因蒸鍍過程金屬濺射黏附在第二側面鍍膜鼓(220)表面的金屬微粒。

    7、在本專利技術的一實施例中,膜面視覺檢測相機(400)位于鍍膜鼓(200)完成蒸鍍作業之后的工藝流程中;包括第一膜面視覺檢測相機(410)和第二膜面視覺檢測相機(420),第一膜面視覺檢測相機(410)位于第一側面鍍膜鼓(210)完成蒸鍍作業之后的工藝流程中,第二膜面視覺檢測相機(420)位于第二側面鍍膜鼓(220)完成蒸鍍作業之后的工藝流程中。

    8、在本專利技術的一實施例中,方阻檢測儀(500)位于膜面視覺檢測相機(400)之后的工藝流程中;包括第一方阻檢測儀(510)和第二方阻檢測儀(520),第一方阻檢測儀(510)位于第一膜面視覺檢測相機(410)與第二側面鍍膜鼓(220)之間,第二方阻檢測儀(520)用于第二膜面視覺檢測相機(420)和收卷輥(120)之間。

    9、在本專利技術的一實施例中,送絲機構(700)向蒸發舟(600)輸送待蒸發的金屬絲,且每個蒸發舟(600)均配置一個送絲機構(700);在每個鍍膜鼓(200)的底部,按照膜面的幅寬方向,并排設置多個蒸發舟(600),對應的多個送絲機構(700)在多個蒸發舟(600)的兩端交替設置。

    10、在本專利技術的一實施例中,鍍膜鼓刮刀(300)設置有顆粒物收集槽,所述顆粒物收集槽與刮刀為一體式結構。

    11、本專利技術還提供一種真空蒸鍍卷繞鍍膜裝置的膜面質量調控方法,包括:

    12、膜面視覺檢測相機(400)、方阻檢測儀(500)和蒸發舟表面監測相機(800)將采集的膜面質量數據以及蒸發舟(600)的蒸發狀態數據反饋給所述控制裝置,所述控制裝置根據反饋的數據調控運行參數;

    13、蒸發舟表面監測相機(800)實時采集每個蒸發舟(600)表面溫度和熔融金屬液體在每個蒸發舟(600)表面展開狀態的圖像數據,并將圖像數據反饋給所述控制裝置與設定的第一標準圖像數據對比;當蒸發舟表面監測相機(800)檢測到某一蒸發舟(600)表面溫度低于設定的溫度范圍或熔融金屬液體不完全展開時,則所述控制裝置將調整該蒸發舟(600)的加熱功率,對該蒸發舟(600)進行升溫操作,反之,檢測到某一蒸發舟(600)表面溫度高于所述溫度范圍時,則對該蒸發舟(600)進行降溫操作;

    14、膜面視覺檢測相機(400)實時采集膜面瑕疵數據,并將所述膜面瑕疵數據反饋給所述控制裝置與設定的第二標準圖像數據對比;當檢測膜面有針孔/穿孔、凹凸點、金屬微粒時,所述控制裝置將調整對應位置蒸發舟(600)的加熱功率,進行降溫操作;以及使鍍膜鼓刮刀(300)對鍍膜鼓(200)的鼓表面粘附的金屬微粒進行清理消除;

    15、方阻檢測儀(500)實時檢測采集鍍膜后膜面的方阻數據,并將所述方阻數據反饋給所述控制裝置與設定的方阻范圍對比;當方阻檢測儀(500)檢測到鍍膜后膜面某一位置表面方阻低于方阻范圍時;則所述控制裝置將調整對應位置蒸發舟(600)的加熱功率,進行升溫操作,以及提高對應位置送絲機構(700)的送絲速度,反之,則對該位置蒸發舟(600)進行降溫操作,以及降低送絲速度。

    16、在本專利技術的一實施例中,在所述控制裝置對接收到的膜面瑕疵數據和方阻數據進行調控運行參數后,膜面視覺檢測相機(400)和方阻檢測儀(500)再次將采集的數據反饋給所述控制裝置分別與第二標準圖像數據和方阻范圍對比,以確認是否二次執行參數調整,若符合設定的標準,則所述控制裝置,不再繼續參數調控,若不符合設定的標準,則所述控制裝置進行二次調控運行參數,直到膜面質量合格。

    17、在本專利技術的一實施例中,所述控制裝置對蒸發舟(600)的加熱功率、送絲機構(700)的送絲速度調控時,加熱功率調整幅度按5%進行增減,送絲速度調整幅度以5mm/min進行增減。

    18、與現有技術相比,本專利技術的有益效果是:通過在鍍膜過渡段設置在線方阻檢測的方阻檢測儀和在蒸發鍍膜段通過控制裝置與蒸發舟和送絲機構連接,并實現前后兩段的聯鎖,通過控制蒸發舟加熱功率來調整蒸發溫度以及鍍膜送絲速度,實現了蒸發鍍膜膜面方阻均勻性更精確的調控。

    19、本本文檔來自技高網...

    【技術保護點】

    1.一種真空蒸鍍卷繞鍍膜裝置,其特征在于,包括:放卷輥(110)、收卷輥(120),以及位于放卷輥(110)和收卷輥(120)之間的鍍膜鼓(200)、鍍膜鼓刮刀(300)、膜面視覺檢測相機(400)、方阻檢測儀(500);還包括位于鍍膜鼓(200)底部的蒸發舟(600)和送絲機構(700)、位于真空蒸鍍室(A)外部的蒸發舟表面監測相機(800),以及與鍍膜鼓刮刀(300)、膜面視覺檢測相機(400)、方阻檢測儀(500)、蒸發舟(600)、送絲機構(700)和蒸發舟表面監測相機(800)連接的控制裝置。

    2.根據權利要求1所述的真空蒸鍍卷繞鍍膜裝置,其特征在于,鍍膜鼓(200)包括依次設置的第一側面鍍膜鼓(210)和第二側面鍍膜鼓(220),用于實現膜材兩面鍍厚。

    3.根據權利要求2所述的真空蒸鍍卷繞鍍膜裝置,其特征在于,鍍膜鼓刮刀(300)的數量與鍍膜鼓(200)的數量匹配,包括第一鍍膜鼓刮刀(310)和第二鍍膜鼓刮刀(320),第一鍍膜鼓刮刀(310)位于第一側面鍍膜鼓(210)的非蒸鍍面,用以清理刮除因蒸鍍過程金屬濺射黏附在第一側面鍍膜鼓(210)表面的金屬微粒;第二鍍膜鼓刮刀(320)位于第二側面鍍膜鼓(220)的非蒸鍍面,用以清理刮除因蒸鍍過程金屬濺射黏附在第二側面鍍膜鼓(220)表面的金屬微粒。

    4.根據權利要求2所述的真空蒸鍍卷繞鍍膜裝置,其特征在于,膜面視覺檢測相機(400)位于鍍膜鼓(200)完成蒸鍍作業之后的工藝流程中;包括第一膜面視覺檢測相機(410)和第二膜面視覺檢測相機(420),第一膜面視覺檢測相機(410)位于第一側面鍍膜鼓(210)完成蒸鍍作業之后的工藝流程中,第二膜面視覺檢測相機(420)位于第二側面鍍膜鼓(220)完成蒸鍍作業之后的工藝流程中。

    5.根據權利要求2所述的真空蒸鍍卷繞鍍膜裝置,其特征在于,方阻檢測儀(500)位于膜面視覺檢測相機(400)之后的工藝流程中;包括第一方阻檢測儀(510)和第二方阻檢測儀(520),第一方阻檢測儀(510)位于第一膜面視覺檢測相機(410)與第二側面鍍膜鼓(220)之間,第二方阻檢測儀(520)用于第二膜面視覺檢測相機(420)和收卷輥(120)之間。

    6.根據權利要求2所述的真空蒸鍍卷繞鍍膜裝置,其特征在于,送絲機構(700)向蒸發舟(600)輸送待蒸發的金屬絲,且每個蒸發舟(600)均配置一個送絲機構(700);在每個鍍膜鼓(200)的底部,按照膜面的幅寬方向,并排設置多個蒸發舟(600),對應的多個送絲機構(700)在多個蒸發舟(600)的兩端交替設置。

    7.根據權利要求1所述的真空蒸鍍卷繞鍍膜裝置,其特征在于,鍍膜鼓刮刀(300)設置有顆粒物收集槽,所述顆粒物收集槽與刮刀為一體式結構。

    8.一種根據權利要求1-7任一所述的真空蒸鍍卷繞鍍膜裝置的膜面質量調控方法,其特征在于,包括:

    9.根據權利要求8所述的真空蒸鍍卷繞鍍膜裝置的膜面質量調控方法,其特征在于,在所述控制裝置對接收到的膜面瑕疵數據和方阻數據進行調控運行參數后,膜面視覺檢測相機(400)和方阻檢測儀(500)再次將采集的數據反饋給所述控制裝置分別與第二標準圖像數據和方阻范圍對比,以確認是否二次執行參數調整,若符合設定的標準,則所述控制裝置,不再繼續參數調控,若不符合設定的標準,則所述控制裝置進行二次調控運行參數,直到膜面質量合格。

    10.根據權利要求8所述的真空蒸鍍卷繞鍍膜裝置的膜面質量調控方法,其特征在于,所述控制裝置對蒸發舟(600)的加熱功率、送絲機構(700)的送絲速度調控時,加熱功率調整幅度按5%進行增減,送絲速度調整幅度以5mm/min進行增減。

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    【技術特征摘要】

    1.一種真空蒸鍍卷繞鍍膜裝置,其特征在于,包括:放卷輥(110)、收卷輥(120),以及位于放卷輥(110)和收卷輥(120)之間的鍍膜鼓(200)、鍍膜鼓刮刀(300)、膜面視覺檢測相機(400)、方阻檢測儀(500);還包括位于鍍膜鼓(200)底部的蒸發舟(600)和送絲機構(700)、位于真空蒸鍍室(a)外部的蒸發舟表面監測相機(800),以及與鍍膜鼓刮刀(300)、膜面視覺檢測相機(400)、方阻檢測儀(500)、蒸發舟(600)、送絲機構(700)和蒸發舟表面監測相機(800)連接的控制裝置。

    2.根據權利要求1所述的真空蒸鍍卷繞鍍膜裝置,其特征在于,鍍膜鼓(200)包括依次設置的第一側面鍍膜鼓(210)和第二側面鍍膜鼓(220),用于實現膜材兩面鍍厚。

    3.根據權利要求2所述的真空蒸鍍卷繞鍍膜裝置,其特征在于,鍍膜鼓刮刀(300)的數量與鍍膜鼓(200)的數量匹配,包括第一鍍膜鼓刮刀(310)和第二鍍膜鼓刮刀(320),第一鍍膜鼓刮刀(310)位于第一側面鍍膜鼓(210)的非蒸鍍面,用以清理刮除因蒸鍍過程金屬濺射黏附在第一側面鍍膜鼓(210)表面的金屬微粒;第二鍍膜鼓刮刀(320)位于第二側面鍍膜鼓(220)的非蒸鍍面,用以清理刮除因蒸鍍過程金屬濺射黏附在第二側面鍍膜鼓(220)表面的金屬微粒。

    4.根據權利要求2所述的真空蒸鍍卷繞鍍膜裝置,其特征在于,膜面視覺檢測相機(400)位于鍍膜鼓(200)完成蒸鍍作業之后的工藝流程中;包括第一膜面視覺檢測相機(410)和第二膜面視覺檢測相機(420),第一膜面視覺檢測相機(410)位于第一側面鍍膜鼓(210)完成蒸鍍作業之后的工藝流程中,第二膜面視覺檢測相機(420)位于第二側面鍍膜鼓(220)完成蒸鍍作業之后的工藝流程中。

    5.根據權利要求2所述的真空...

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:徐輝,許曉龍,王超梁燕,鄭文賢,徐元琛,蒯赟毛志偉
    申請(專利權)人:安徽元琛環??萍脊煞萦邢薰?/a>,
    類型:發明
    國別省市:

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