【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)涉及涂布，具體涉及一種涂布系統(tǒng)及涂布方法。
技術(shù)介紹
1、涂布，即把糊狀粘稠的漿料均勻地、連續(xù)或間斷地涂布在基板上的過程，涂布技術(shù)已在新能源電池、太陽(yáng)能電池、光學(xué)膜、柔性電路板等眾多行業(yè)中得到廣泛應(yīng)用。涂布形成薄膜的質(zhì)量直接決定著最終產(chǎn)品的性能表現(xiàn)，而涂布工藝是影響薄膜質(zhì)量的關(guān)鍵因素。
2、現(xiàn)有的涂布工藝為：涂布泵將漿料桶中的涂布液輸送至涂布模頭中，涂布模頭與基板相對(duì)運(yùn)動(dòng)，同時(shí)涂布模頭以設(shè)定速度和設(shè)定壓力將漿料吐出到基板表面，以在基板上形成涂層，通過涂布泵的開啟和關(guān)閉控制涂布過程的開始和停止。
3、涂布泵具有啟動(dòng)時(shí)間和停止時(shí)間，在啟動(dòng)時(shí)間內(nèi)，涂布泵輸出漿料的壓力具有逐步提升至設(shè)定壓力的過程，在停止時(shí)間內(nèi)，涂布泵輸出漿料的壓力具有逐步降低至為零過程，因此在啟動(dòng)時(shí)間和停止時(shí)間，涂布泵輸出漿料的壓力不穩(wěn)定，從而導(dǎo)致在涂布開始階段和停止階段均會(huì)出現(xiàn)涂層的厚度不均勻區(qū)域的情況，而涂層的厚度不均勻區(qū)域需要增加去除工藝進(jìn)行去除，且涂布的厚度不均勻區(qū)域也導(dǎo)致漿料的浪費(fèi)。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、有鑒于此，本專利技術(shù)提供了一種涂布工藝和涂布方法，以解決現(xiàn)有的涂布泵在啟動(dòng)時(shí)間和停止時(shí)間，涂布泵輸出漿料的壓力不穩(wěn)定，從而導(dǎo)致在涂布開始階段和停止階段出現(xiàn)涂層的厚度不均勻區(qū)域，而涂層的厚度不均勻區(qū)域需要增加去除工藝進(jìn)行去除，且涂布的厚度不均勻區(qū)域也導(dǎo)致漿料的浪費(fèi)的問題。
2、第一方面，本專利技術(shù)提供了一種涂布工藝，包括輸送支路和回流支路；
3、所述輸送支路
4、所述涂布泵的輸出端與所述第一閥體一端連通，所述第一閥體的另一端與所述涂布模頭的輸入端連通；所述涂布泵的輸出端與所述第二閥體一端連通，所述第二閥體另一端與所述供漿容器連通。
5、通過第一閥體的啟閉可實(shí)現(xiàn)涂布泵與涂布模頭之間的連通與阻斷，通過第二閥體的啟閉可實(shí)現(xiàn)涂布泵與供漿容器之間的連通與阻斷，通過調(diào)整第一閥體和第二閥體的啟閉順序以及啟閉時(shí)間，以在涂布泵的啟動(dòng)時(shí)間內(nèi)和停止時(shí)間內(nèi)，通過回流支路將涂布泵啟動(dòng)時(shí)間內(nèi)和停止時(shí)間內(nèi)向外輸送的壓力不均勻的漿料回流至供漿容器內(nèi)；而在涂布泵向外輸送壓力均勻的漿料時(shí)，通過輸送支路將壓力均勻的輸送至涂布模頭中，以減少涂布泵向涂布模頭輸送不均勻漿料的時(shí)間，從而減少涂層中的厚度不均勻區(qū)域，進(jìn)而減少了去除工藝的去除量，也減少了漿料的浪費(fèi)。
6、在一種可選的實(shí)施方式中，還包括供漿支路，所述供漿支路包括所述供漿容器、第三閥體和所述涂布泵，所述供漿容器與所述第三閥體一端連通，所述第三閥體另一端與所述涂布泵的輸入端連通。
7、在涂布泵需要補(bǔ)充自身容納腔內(nèi)的漿料時(shí)，第三閥體開啟，涂布泵將供漿容器內(nèi)的漿料抽取至自身容納腔內(nèi)，在涂布泵向外輸送漿料時(shí)，第三閥體關(guān)閉，避免涂布泵自身容納腔內(nèi)的漿料回流至供漿容器內(nèi)。
8、在一種可選的實(shí)施方式中，還包括基板，所述基板位于所述涂布模頭輸出端的下方，且所述基板與所述涂布模頭輸出端的間距為第一預(yù)設(shè)值。
9、通過調(diào)整基板與涂布模頭輸出端的間距，可實(shí)現(xiàn)對(duì)基板上形成的涂層厚度的調(diào)整，且將間距設(shè)為第一預(yù)設(shè)值有利于在基板上形成平整、光滑的涂布表面。
10、在一種可選的實(shí)施方式中，還包括；
11、升降驅(qū)動(dòng)件，所述升降驅(qū)動(dòng)件與所述涂布模頭連接，所述升降驅(qū)動(dòng)件能夠帶動(dòng)所述涂布模頭遠(yuǎn)離或靠近所述基板。
12、通過升降驅(qū)動(dòng)件，可方便調(diào)整涂布模頭輸出端與基板的間距。
13、平移驅(qū)動(dòng)件，所述平移驅(qū)動(dòng)件與所述基板或所述涂布模頭連接，所述平移驅(qū)動(dòng)件能夠帶動(dòng)所述基板沿第一方向移動(dòng)，或所述平移驅(qū)動(dòng)件能夠帶動(dòng)所述涂布模頭沿第二方向移動(dòng)。
14、通過平移驅(qū)動(dòng)件可帶動(dòng)涂布模頭或基板移動(dòng)，從而使得涂布模頭將漿料均勻涂布在基板上。
15、在一種可選的實(shí)施方式中，還包括：
16、檢測(cè)件，設(shè)置在所述涂布泵和所述第一閥體之間，用于獲取經(jīng)過其內(nèi)漿料的壓力值；
17、第四閥體，設(shè)置在所述第二閥體和所述供漿容器之間，所述第四閥體用于調(diào)整經(jīng)過其內(nèi)的漿料的流量。
18、第二方面，本專利技術(shù)提供一種涂布方法，應(yīng)用于上述的涂布系統(tǒng)，所述涂布方法包括：
19、當(dāng)需要開始涂布時(shí)，開啟第二閥體，并開啟涂布泵，第二閥體保持開啟狀態(tài)第一預(yù)設(shè)時(shí)間，然后關(guān)閉第二閥體，第一閥體基于關(guān)閉第二閥體的時(shí)間節(jié)點(diǎn)提前或滯后第二預(yù)設(shè)時(shí)間開啟；
20、當(dāng)需要停止涂布時(shí)，關(guān)閉第一閥體，第二閥體基于關(guān)閉第一閥體的時(shí)間節(jié)點(diǎn)提前或滯后第三預(yù)設(shè)時(shí)間開啟。
21、根據(jù)上述技術(shù)手段，在本專利技術(shù)提供的涂布系統(tǒng)中，實(shí)現(xiàn)了在涂布泵的啟動(dòng)時(shí)間內(nèi)和停止時(shí)間內(nèi)，通過回流支路將涂布泵啟動(dòng)時(shí)間內(nèi)和停止時(shí)間內(nèi)向外輸送的壓力不均勻的漿料回流至供漿容器內(nèi)，以減少涂布泵向涂布模頭輸送不均勻漿料的時(shí)間，從而減少涂層中的厚度不均勻區(qū)域，進(jìn)而減少了去除工藝的去除量，也減少了漿料的浪費(fèi)。
22、在一種可選的實(shí)施方式中，在步驟第一閥體基于關(guān)閉第二閥體的時(shí)間節(jié)點(diǎn)提前或滯后第二預(yù)設(shè)時(shí)間開啟之后，還包括：
23、第一閥體保持開啟狀態(tài)第四預(yù)設(shè)時(shí)間。
24、根據(jù)上述技術(shù)手段，實(shí)現(xiàn)在涂布泵向外輸送壓力均勻的漿料時(shí)，通過輸送支路將壓力均勻的輸送至涂布模頭中。
25、在一種可選的實(shí)施方式中，還包括基板和升降驅(qū)動(dòng)件，所述升降驅(qū)動(dòng)件與所述涂布模頭連接，所述基板位于所述涂布模頭輸出端下方；
26、在步驟第一閥體基于關(guān)閉第二閥體的時(shí)間節(jié)點(diǎn)提前或滯后第二預(yù)設(shè)時(shí)間開啟之前，還包括：
27、開啟升降驅(qū)動(dòng)件，驅(qū)動(dòng)件帶動(dòng)涂布模頭遠(yuǎn)離或靠近基板，以使得涂布模頭的輸出端與基板的間距為第一預(yù)設(shè)值。
28、根據(jù)上述技術(shù)手段，實(shí)現(xiàn)對(duì)涂布模頭輸出端與基板的間距的調(diào)整。
29、在一種可選的實(shí)施方式中，還包括平移驅(qū)動(dòng)件，所述平移驅(qū)動(dòng)件與所述基板和/或所述涂布模頭連接；所述平移驅(qū)動(dòng)件能夠帶動(dòng)所述基板沿第一方向移動(dòng)和/或所述平移驅(qū)動(dòng)件能夠帶動(dòng)所述涂布模頭沿第二方向移動(dòng)；
30、在步驟關(guān)閉第二閥體之后，在步驟第一閥體基于關(guān)閉第二閥體的時(shí)間節(jié)點(diǎn)提前或滯后第二預(yù)設(shè)時(shí)間開啟之前，還包括：
31、平移驅(qū)動(dòng)件基于關(guān)閉第二閥體的時(shí)間節(jié)點(diǎn)提前或滯后第五預(yù)設(shè)時(shí)間開啟。
32、在一種可選的實(shí)施方式中，還包括供漿支路，所述供漿支路包括所述供漿容器、第三閥體和所述涂布泵，所述供漿容器與所述第三閥體一端連通，所述第三閥體另一端與所述涂布泵的輸入端連通；
33、當(dāng)涂布泵需要吸取漿料時(shí)，開啟第三閥體，開啟涂布泵，第三閥體保持開啟狀態(tài)第六預(yù)設(shè)時(shí)間，關(guān)閉涂布泵，同時(shí)關(guān)閉第三閥體。
34、根據(jù)上述手段，實(shí)現(xiàn)涂布泵自身容納腔漿料的補(bǔ)充。
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1.一種涂布系統(tǒng)，其特征在于，包括輸送支路和回流支路；
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂布系統(tǒng)，其特征在于，還包括供漿支路，所述供漿支路包括所述供漿容器(5)、第三閥體(6)和所述涂布泵(1)，所述供漿容器(5)與所述第三閥體(6)一端連通，所述第三閥體(6)另一端與所述涂布泵(1)的輸入端連通。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的涂布系統(tǒng)，其特征在于，還包括基板(7)，所述基板(7)位于所述涂布模頭(3)輸出端的下方，且所述基板(7)與所述涂布模頭(3)輸出端的間距為第一預(yù)設(shè)值。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的涂布系統(tǒng)，其特征在于，還包括：
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的涂布系統(tǒng)，其特征在于，還包括：
6.一種涂布方法，其特征在于，應(yīng)用于權(quán)利要求1-5中任意一項(xiàng)提供的涂布系統(tǒng)，所述涂布方法包括：
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的涂布方法，其特征在于，在步驟第一閥體(2)基于關(guān)閉第二閥體(4)的時(shí)間節(jié)點(diǎn)提前或滯后第二預(yù)設(shè)時(shí)間開啟之后，還包括：
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的涂布方法，其特征在于，還包括基板(7)和升降驅(qū)動(dòng)件，所述升降驅(qū)
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的涂布方法，其特征在于，還包括平移驅(qū)動(dòng)件，所述平移驅(qū)動(dòng)件與所述基板(7)和/或所述涂布模頭(3)連接；所述平移驅(qū)動(dòng)件能夠帶動(dòng)所述基板(7)沿第一方向移動(dòng)和/或所述平移驅(qū)動(dòng)件能夠帶動(dòng)所述涂布模頭(3)沿第二方向移動(dòng)；
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的涂布方法，其特征在于，還包括供漿支路，所述供漿支路包括所述供漿容器(5)、第三閥體(6)和所述涂布泵(1)，所述供漿容器(5)與所述第三閥體(6)一端連通，所述第三閥體(6)另一端與所述涂布泵(1)的輸入端連通；
...【技術(shù)特征摘要】
1.一種涂布系統(tǒng)，其特征在于，包括輸送支路和回流支路；
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂布系統(tǒng)，其特征在于，還包括供漿支路，所述供漿支路包括所述供漿容器(5)、第三閥體(6)和所述涂布泵(1)，所述供漿容器(5)與所述第三閥體(6)一端連通，所述第三閥體(6)另一端與所述涂布泵(1)的輸入端連通。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的涂布系統(tǒng)，其特征在于，還包括基板(7)，所述基板(7)位于所述涂布模頭(3)輸出端的下方，且所述基板(7)與所述涂布模頭(3)輸出端的間距為第一預(yù)設(shè)值。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的涂布系統(tǒng)，其特征在于，還包括：
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的涂布系統(tǒng)，其特征在于，還包括：
6.一種涂布方法，其特征在于，應(yīng)用于權(quán)利要求1-5中任意一項(xiàng)提供的涂布系統(tǒng)，所述涂布方法包括：
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的涂布方法...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：楊香武，彭建林，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：深圳市曼恩光電科技有限公司，
類型：發(fā)明
國(guó)別省市：
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