【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)涉及具有透明粘合劑層的粘合劑片的制造方法和可利用該制造方法來獲得的粘合劑片。尤其是,本專利技術(shù)涉及為了將透明的光學(xué)構(gòu)件接合于其它光學(xué)構(gòu)件而能夠使用的具有透明粘合劑層的粘合劑片的制造方法和可利用該制造方法來獲得的粘合劑片。
技術(shù)介紹
1、液晶顯示裝置或有機el顯示裝置那樣的圖像顯示裝置由層疊有偏光薄膜、相位差薄膜、護罩玻璃等透明護罩構(gòu)件、其它各種透明光學(xué)構(gòu)件的光學(xué)構(gòu)件層疊體構(gòu)成。為了將這些光學(xué)構(gòu)件之間進行接合而使用包含透明粘合劑層的粘接片。即,在要接合的兩個光學(xué)構(gòu)件之間配置粘合劑片,通過將它們彼此按壓而將這兩個光學(xué)構(gòu)件進行接合,形成光學(xué)構(gòu)件層疊體。另外,在光學(xué)制品的制造工序中,通常使用在基材薄膜的單面設(shè)置有粘合劑層的粘合劑片來作為用于防止前述光學(xué)構(gòu)件損傷、污垢附著的表面保護薄膜。
2、另外,在具備觸摸面板的圖像顯示裝置中,在光學(xué)構(gòu)件的表面形成經(jīng)圖案化的ito(氧化銦錫)等透明且導(dǎo)電性的印刷層。進而,在周邊部形成銀、銅的牽拉布線。另外,通常在透明護罩構(gòu)件的邊緣部以框狀印刷黑色的遮蔽部。對于將這種具有印刷層、布線的光學(xué)構(gòu)件進行接合的粘接劑片而言,要求在印刷高低差中不殘留氣泡那樣的高低差吸收性。
3、作為這種粘合劑片,廣泛使用無溶劑型的光固化型粘合劑片(例如參照專利文獻1)。光固化型粘合劑片在固化前處于一部分未固化(半固化)的狀態(tài),流動性高,因此具有如下優(yōu)點:高低差吸收性高,通過其后的基于紫外線照射的光固化而能夠提高粘接可靠性。
4、另一方面,在圖像顯示裝置中,為了抑制由入射的紫外線導(dǎo)致的圖
5、另一方面,不具有基材的類型的兩面粘合劑片(在本說明書中有時稱為“無基材的粘合劑片”)以兩面被剝離片保護的形態(tài)來使用。使用無基材的粘合劑片進行的光學(xué)構(gòu)件的貼合按照如下步驟來進行:首先,將單側(cè)的剝離片自粘合劑片上剝離后,貼附于第一個構(gòu)件,并將剩余的另一個剝離片剝離,并粘貼第二個構(gòu)件。此時,將兩個剝離片分別剝離所需的力(剝離力)相近時,會產(chǎn)生所謂的“背向而行”的問題,即,在剝離第一個剝離片的階段中,相反側(cè)的(第二個)剝離片也發(fā)生剝離。因此,以無基材的粘合劑片所具備的兩個剝離片的剝離力互不相同的方式進行設(shè)計。
6、現(xiàn)有技術(shù)文獻
7、專利文獻
8、專利文獻1:日本特開2016-222914號公報
9、專利文獻2:日本特開2012-211305公報
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、專利技術(shù)要解決的問題
2、前述專利文獻2的粘合劑片由在粘合劑組合物中配混紫外線吸收劑并使其均勻溶解而得到的紫外線吸收層構(gòu)成。然而,由于配混對于對粘合劑組合物賦予紫外線屏蔽性而言充分量的紫外線吸收劑,因此,存在對粘合劑的物性、固化性造成影響的問題。尤其是,通過照射紫外線而使配混有紫外線吸收劑的光固化型粘合劑片發(fā)生固化時,存在如下問題:紫外線被紫外線吸收劑吸收,固化性惡化,生產(chǎn)率降低。
3、另外,均勻溶解有紫外線吸收劑的光固化型粘合劑片還存在在粘合劑片的正面和背面產(chǎn)生粘接性、粘彈性等物性的差異的問題。這是因為:紫外線在通過粘合劑層內(nèi)部的過程中被紫外線吸收劑吸收,自紫外線照射側(cè)表面起越深,則紫外線照度越會降低,在正面和背面產(chǎn)生固化速度差。
4、進而,在粘合劑層中均勻溶解有紫外線吸收劑的無基材的粘合劑片還存在兩個剝離片的剝離力之差的設(shè)計發(fā)生變化的問題。即,作為應(yīng)對由紫外線吸收劑導(dǎo)致的固化性惡化的對策,若增加聚合引發(fā)劑的量、紫外線照射光的量,則照射側(cè)的剝離片的剝離力與設(shè)計相比也變大,其結(jié)果可能發(fā)生如下問題:難以利用剝離機進行剝離;兩個剝離片的剝離力相近而發(fā)生背向而行;兩個剝離片的剝離力反轉(zhuǎn)等。另外,在剝離力變大的情況下,在貼附于第一個構(gòu)件后將剩余的另一個剝離片剝離時,通過對粘合劑片施加力而發(fā)生伸長變形,因此,還可能發(fā)生無法完美地粘貼的不良情況。
5、因此,向光固化型粘合劑片中配混紫外線吸收劑時,為了在維持固化性的同時,減少正面和背面的物性差異、剝離片的剝離力變化等物性變化,需要從頭開始設(shè)計紫外線吸收劑的配混量等粘合劑組成、粘合劑片的厚度、紫外線照度等固化條件等。
6、尤其是,近年來由于圖像顯示裝置的薄型化,因而粘合劑層的薄型化、提高粘合劑組合物中包含的紫外線吸收劑的濃度的要求正在提高,上述問題愈專利技術(shù)顯。
7、本專利技術(shù)是基于以上那樣的情況而想出的,其目的在于提供一種粘合劑片的制造方法,所述制造方法即便在向光固化型粘合劑片中配混紫外線吸收劑的情況下,也不會發(fā)生由固化性惡化導(dǎo)致的生產(chǎn)率降低、正面和背面的物性差異、剝離片的剝離力變化等物性變化,容易進行設(shè)計。
8、另外,本專利技術(shù)的其它目的在于提供一種粘合劑片,其中,即便在向光固化型粘合劑片中配混紫外線吸收劑的情況下,也不會發(fā)生由固化性惡化導(dǎo)致的生產(chǎn)率降低、正面和背面的物性差異、剝離片的剝離力變化等物性變化,容易進行設(shè)計。
9、用于解決問題的方案
10、本專利技術(shù)人等為了實現(xiàn)前述目的而進行了深入研究,結(jié)果發(fā)現(xiàn):通過在對粘合劑層照射紫外線而使其固化后,將紫外線吸收劑供于粘合劑層,從而能夠得到使對粘合劑層的固化性造成的影響、正面和背面的物性差異、剝離片的剝離力變化等物性變化最小化,且粘合劑層的物性優(yōu)異、不會發(fā)生與剝離片的剝離力變化相伴的前述問題,且具有優(yōu)異的紫外線屏蔽性的粘合劑片。本專利技術(shù)是基于這些見解而完成的。
11、即,本專利技術(shù)的第一方面提供一種粘合劑片的制造方法,其包括如下工序:
12、在支承體上形成由透明的光固化型粘合劑基質(zhì)材料形成的粘合劑層,
13、對前述粘合劑層照射紫外線而使該粘合劑層固化,
14、準(zhǔn)備紫外線吸收劑的溶液,
15、在前述經(jīng)固化的粘合劑層的一個面涂布前述溶液,使該溶液中包含的前述紫外線吸收劑從前述粘合劑層的前述一個面沿著厚度方向進行滲透,
16、使前述粘合劑層干燥。
17、通過在使前述粘合劑層含有紫外線吸收劑之前對前述粘合劑層照射紫外線,從而能夠使前述粘合劑層固化而不受紫外線吸收劑的影響。因此,能夠?qū)⒂勺贤饩€吸收劑導(dǎo)致的固化性惡化所引起的生產(chǎn)率降低、正面和背面的物性差異等前述粘合劑層或剝離片的剝離力的物性變化控制為最小限。
18、通過對固化后的粘合劑層涂布紫外線吸收劑的溶液,從而使紫外線吸收劑向粘合劑層中滲透。由此,能夠?qū)φ澈蟿淤x予充分的紫外線屏蔽性。另外,通過使紫外線吸收劑以溶液的狀態(tài)進行滲透,從而保持粘合劑層的透明性。
19、其后,通過加熱等而將粘合劑層干燥。通過該工序,粘合劑層恢復(fù)至與涂布前相本文檔來自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護點】
1.一種粘合劑片,其特征在于,其具有支承體和該支承體上的透明的粘合劑層,
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的粘合劑片,其中,所述粘合劑層還溶解有吸收光譜的最大吸收波長存在于380~430nm的波長區(qū)域的色素化合物。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的粘合劑片,其中,所述粘合劑層是通過紫外線照射而發(fā)生固化的粘合劑層。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的粘合劑片,其特征在于,所述第二主面面向所述支承體上,所述第一主面所屬的區(qū)域的所述紫外線吸收劑的濃度高于所述第二主面所屬的區(qū)域的所述紫外線吸收劑的濃度。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的粘合劑片,其特征在于,所述單一層的光固化型粘合劑層沿著厚度方向具有所述紫外線吸收劑的濃度梯度。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的粘合劑片,其特征在于,所述支承體由剝離片形成。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的粘合劑片,其特征在于,由剝離片形成的所述支承體配置于所述粘合劑層的兩面。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的粘合劑片,其特征在于,所述紫外線吸收劑的吸收光譜的最大吸收波長存在于300~400nm的波長區(qū)域。
...【技術(shù)特征摘要】
1.一種粘合劑片,其特征在于,其具有支承體和該支承體上的透明的粘合劑層,
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的粘合劑片,其中,所述粘合劑層還溶解有吸收光譜的最大吸收波長存在于380~430nm的波長區(qū)域的色素化合物。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的粘合劑片,其中,所述粘合劑層是通過紫外線照射而發(fā)生固化的粘合劑層。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的粘合劑片,其特征在于,所述第二主面面向所述支承體上,所述第一主面所屬的區(qū)域的所述紫外線吸收劑的濃度高于所述第二主面所屬的區(qū)域的所述紫外線吸收劑的濃度。
5.根據(jù)權(quán)利...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員:小原裕貴,形見普史,野中崇弘,
申請(專利權(quán))人:日東電工株式會社,
類型:發(fā)明
國別省市:
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