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    立式光亮退火爐制造技術

    技術編號:5243401 閱讀:437 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
    本發明專利技術涉及一種立式光亮退火爐,包括入口密封、與所述的入口密封相連通的退火爐、與所述的退火爐相連通的冷卻裝置、導向輥裝置以及連接有出口密封的回程通道,并依次構成通路。所述的入口密封與所述的出口密封等高,所述的入口密封、退火爐、冷卻裝置,回程通道及出口密封均通入氫氣,在所述的入口密封處設置有密封糾偏裝置,該裝置包括兩個相外切設置的驅動輥和一個可調整的平衡輥,帶鋼從所述的驅動輥切點處經過,經所述的平衡輥調整,垂直進入所述的入口密封;所述的退火爐設置為帶馬弗的退火爐,所述的冷卻裝置設置為多段冷卻區。本發明專利技術能有效控制帶鋼在整個退火過程中處于最佳位置,確保其表面的平滑度,同時,全程的氫氣保護也有效防止帶鋼的氧化。

    【技術實現步驟摘要】

    本專利技術涉及一種立式光亮退火爐
    技術介紹
    立式光亮退火爐是適用于高合金Cr (鐵素體Cr合金鋼和馬氏體Cr合金鋼)和 CrNi(奧氏體CrNi合金鋼)的熱處理退火設備。適用于帶鋼的退火。合金鋼光亮退火過程中,合金鋼中含有的元素Cr、Mn、及微量添加元素Ti、Si、Al 等具有較高的氧親和力,容易形成氧化物從而破壞表面光潔度。此外,合金帶鋼在退火中,帶鋼在整個運行過程中很容易由于運行位置的偏差,使 之在通過時發生機械損傷,破壞帶鋼表面的平滑度。
    技術實現思路
    本專利技術的目的在于提供一種立式光亮退火爐。為了達到以上目的,本專利技術采用的方案是一種立式光亮退火爐,包括入口密封、與所述的入口密封相連通的退火爐、與所述 的退火爐相連通的冷卻裝置、導向輥裝置以及連接有出口密封的回程通道,并依次構成通 路。所述的入口密封與所述的出口密封等高,所述的入口密封、退火爐、冷卻裝置,回程通道 及出口密封均通入氫氣,在所述的入口密封處設置有密封糾偏裝置,該裝置包括兩個相外 切設置的驅動輥和一個可調整的平衡輥,帶鋼從所述的驅動輥切點處經過,經所述的平衡 輥調整,垂直進入所述的入口密封;所述的退火爐設置為帶馬弗的退火爐,所述的冷卻裝置 設置為多段冷卻區。以上技術方案可優選地,所述的馬弗的外壁厚度由下端部至上端部呈臺階狀,所 述的下段臺階的馬弗外壁厚度均小于其上段臺階的馬弗外壁厚度。另外,以上技術方案可優選地,所述的冷卻區設置有3段。本專利技術與現有技術相比具有如下優點本專利技術能有效控制帶鋼在整個退火過程中 處于最佳位置,確保其表面的平滑度,同時,全程的氫氣保護也有效防止帶鋼的氧化。附圖說明附圖1為本專利技術的結構示意圖;附圖2為本專利技術的馬弗結構示意圖;其中1、入口密封;2、退火爐;3、冷卻段;4、導向輥裝置;5、回程通道;6、出口密 封;7、驅動輥;8、平衡輥;9、帶鋼;10、馬弗;11、外壁。具體實施例方式下面將參照附圖詳細描述本專利技術的具體結構參照附圖1所示一種立式光亮退火爐,包括入口密封1、與入口密封1相連通的退火爐、與退火爐2相連通的冷卻裝置、導向輥裝置4以及連接有出口密封6的回程通道5, 并依次構成通路,入口密封1與出口密封6等高。入口密封1、退火爐2、冷卻裝置,回程通道5及出口密封6均通入氫氣,在入口密 封1處設置有密封糾偏裝置,該裝置包括兩個相外切設置的驅動輥7和一個可調整的平衡 輥8,帶鋼9從驅動輥7切點處經過,經平衡輥8調整,垂直進入入口密封1 ;退火爐2設置 為帶馬弗10的退火爐2,冷卻裝置設置為多段冷卻段3,本實施例的冷卻區3設置有3段。馬弗10的外壁11厚度由下端部至上端部呈臺階狀,下段臺階的馬弗10的外壁11 厚度均小于其上段臺階的馬弗10的外壁11厚度。上述實施例只為說明本專利技術的技術構思及特點,其目的在于讓熟悉此項技術的人 士能夠了解本專利技術的內容并加以實施,并不能以此限制本專利技術的保護范圍,凡根據本專利技術 精神實質所作的等效變化或修飾,都應涵蓋在本專利技術的保護范圍內。權利要求1.一種立式光亮退火爐,包括入口密封、與所述的入口密封相連通的退火爐、與所述的 退火爐相連通的冷卻裝置、導向輥裝置以及連接有出口密封的回程通道,并依次構成通路, 其特征在于所述的入口密封與所述的出口密封等高,所述的入口密封、退火爐、冷卻裝置, 回程通道及出口密封均通入氫氣,在所述的入口密封處設置有密封糾偏裝置,該裝置包括 兩個相外切設置的驅動輥和一個可調整的平衡輥,帶鋼從所述的驅動輥切點處經過,經所 述的平衡輥調整,垂直進入所述的入口密封;所述的退火爐設置為帶馬弗的退火爐,所述的 冷卻裝置設置為多段冷卻區。2.根據權利要求1所述的立式光亮退火爐,其特征在于所述的馬弗的外壁厚度由下 端部至上端部呈臺階狀,所述的下段臺階的馬弗外壁厚度均小于其上段臺階的馬弗外壁厚 度。3.根據權利要求1所述的立式光亮退火爐,其特征在于所述的冷卻區設置有3段。全文摘要本專利技術涉及一種立式光亮退火爐,包括入口密封、與所述的入口密封相連通的退火爐、與所述的退火爐相連通的冷卻裝置、導向輥裝置以及連接有出口密封的回程通道,并依次構成通路。所述的入口密封與所述的出口密封等高,所述的入口密封、退火爐、冷卻裝置,回程通道及出口密封均通入氫氣,在所述的入口密封處設置有密封糾偏裝置,該裝置包括兩個相外切設置的驅動輥和一個可調整的平衡輥,帶鋼從所述的驅動輥切點處經過,經所述的平衡輥調整,垂直進入所述的入口密封;所述的退火爐設置為帶馬弗的退火爐,所述的冷卻裝置設置為多段冷卻區。本專利技術能有效控制帶鋼在整個退火過程中處于最佳位置,確保其表面的平滑度,同時,全程的氫氣保護也有效防止帶鋼的氧化。文檔編號C21D1/26GK102071293SQ20091024605公開日2011年5月25日 申請日期2009年11月19日 優先權日2009年11月19日專利技術者羅伯特·艾伯納 申請人:艾伯納工業爐(太倉)有限公司本文檔來自技高網...

    【技術保護點】
    一種立式光亮退火爐,包括入口密封、與所述的入口密封相連通的退火爐、與所述的退火爐相連通的冷卻裝置、導向輥裝置以及連接有出口密封的回程通道,并依次構成通路,其特征在于:所述的入口密封與所述的出口密封等高,所述的入口密封、退火爐、冷卻裝置,回程通道及出口密封均通入氫氣,在所述的入口密封處設置有密封糾偏裝置,該裝置包括兩個相外切設置的驅動輥和一個可調整的平衡輥,帶鋼從所述的驅動輥切點處經過,經所述的平衡輥調整,垂直進入所述的入口密封;所述的退火爐設置為帶馬弗的退火爐,所述的冷卻裝置設置為多段冷卻區。

    【技術特征摘要】

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:羅伯特艾伯納
    申請(專利權)人:艾伯納工業爐太倉有限公司
    類型:發明
    國別省市:32

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