本發明專利技術提供推算用多項式生成裝置、推算裝置、推算用多項式生成方法及推算方法，推算用多項式生成裝置具備：存儲由輸入參數的數據和輸出參數的數據的組構成的分析用數據的分析用數據存儲部(1)、存儲對相似變換后的輸入參數與輸出參數的關系進行限定的函數曲面的算式的函數曲面存儲部(2)、存儲用于對輸入參數和輸出參數進行相似變換的相似變換算式的相似變換算式存儲部(3)、使用分析用數據、函數曲面的算式和相似變換算式來搜索并確定相似變換算式的系數的相似變換參數搜索部(4)、將函數曲面的算式和確定了系數的相似變換算式合成，來計算出用于根據輸入參數值推算輸出參數值的推算用多項式的推算用多項式計算部(5)。
Polynomial generation device, prediction device, polynomial generation method and calculation method for calculation
The present invention provides calculation by polynomial generation device, calculation device, calculation by polynomial generation method and calculation method, calculated by polynomial generation device includes: an analysis of data stored by the input data and output parameters of the group used for data analysis with the data storage unit (1), storage function surface of function surface which store the input parameters and the output parameters of the similarity transformation formula (2), storage for input and output parameters of the similarity transform formula transform similarity transform formula storage unit (3), the use of analysis of data, the function surface formula and similar transformation algorithms to search and to determine the parameters of similarity transformation coefficient of similarity transformation formula (4), the search function will determine the surface equation and similar transformation formula synthesis coefficient, calculated by The calculation of the output parameter value is based on the input parameter value, and the polynomial is calculated by the polynomial calculation unit (5).
【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及計算出用于推算狀態量等輸出參數值的推算用多項式的推算用多項 式生成裝置、以及使用推算用多項式來推算狀態量等的推算裝置。
技術介紹
半導體制造裝置、FPD(Flat Panel Display 平板顯示器)制造裝置或者太陽能電 池制造裝置的熱處理和等離子處理，要求在執行處理工序時對晶片或玻璃的表面溫度(實 體溫度)等重要狀態量進行在線管理和控制。但是，在晶片或玻璃的表面安裝有溫度傳感 器的狀態下進行處理是比較困難的。因此，預先在離線的狀態下對執行處理工序時能夠測定的部位的溫度和在執行處 理工序時無法測定的晶片或玻璃的表面溫度(實體溫度)之間的關系進行調查，并根據在 執行處理工序時能夠測定的溫度和預先把握的關系，推算晶片或玻璃的表面溫度(實體溫 度)，由此對重要的狀態量進行在線管理與控制。在這樣的情況下，通過將多變量分析方法 應用于離線調查得到的能夠測定的溫度和晶片或玻璃的表面溫度(實體溫度)的測量數據 (分析用數據)來求出用于近似推算能夠測定的溫度與晶片或玻璃的表面溫度的數值關系 的多項式的方法(基于多項式的狀態量推算)被廣泛實施(例如參照專利文獻1)。在使用 多變量分析方法的情況下，將執行處理工序時能夠測定的溫度定位成多項式的輸入參數。 另一方面，將推算對象、即晶片或玻璃的表面溫度(實體溫度)定位成多項式的輸出參數。日本特開平5-141999號公報對于狀態量推算的對象來說，在多數情況下，輸入參數和輸出參數不是單純的線 性關系。因此，在希望提高狀態量推算的準確度的情況下，必須使通過多變量分析求出的推 算用多項式成為高次多項式。這時，只要不是實驗性地分配輸入條件，就會在作為分析用數 據的輸入參數的參數空間中存在數據的疏密。在使推算用多項式成為高次多項式的情況 下，雖然容易提高數據密集區域的準確度，但是成為在數據稀疏的區域計算出不現實的推 算值的多項式的概率較高。尤其在裝置制造商將推算功能安裝在半導體制造裝置等裝置中 并提供給裝置用戶后，裝置用戶收集分析用數據的情況下等，裝置制造商方面假定的輸入 參數空間與裝置用戶方面考慮的輸入參數空間未必一致。因此，在這種裝置的通用形式中， 雖然容易產生分析用數據收集的疏密問題，但還是容易被忽略。為了簡化說明，將輸入參數假定為1個。設作為分析用數據而得到輸入參數X與輸 出參數Y 的組合(Χ，γ)是Α(1· 6,20. 024) ,B(2. 0,21. 000) X(2. 4,23. 304) ,D(2. 8,27. 272)、 E (3. 2，33. 288)、F (3. 5，39. 375)這6組A F的值的組合。此時的6組分析用數據A F 的分布如圖12所示。對于此時的分析用數據的特征，如果考慮該輸入輸出參數(X，Y)的物理關系，則 設為一般可以認為存在單調遞增的關系。即，假定能夠合乎常識地認為輸入輸出參數(X，Y) 具有圖13所示那樣的關系。即使在具有這樣的關系的情況下，也會因為裝置用戶方面的數5據收集認識等的關系而導致在半導體制造等的工作現場頻繁發生無法得到X = 0附近的數 據的狀況，即存在數據稀疏的區域的狀況。這里，如果使用A F數據組，并通過多變量分析等求出高準確度地再現輸入輸出 參數(X，Y)的關系的3次多項式，則得到例如下面那樣的算式。Y = X3-2. 0X2+21. 0. . . (1)由式⑴的3次多項式得到如圖14所示的3次曲線220。而221是表示通過前 面所述那樣的合乎常識的假設得到的輸入輸出參數(X，Y)的關系的曲線。如圖14所示那 樣，式(1)的3次多項式高準確度地匹配A F的數據。其中，根據該3次多項式得到X = 0附近的點S (0. 0,21. 00)。即，在輸入參數X的參數空間中，雖然存在1. 6≤X≤3. 5的數 據密集的區域和除此以外的數據稀疏的區域，但是式(1)的3次多項式成為在數據稀疏的 區域中計算出不現實的推算值的多項式。若這樣忽略推算用多項式計算出不現實的推算值的狀況來實施例如半導體制造 工序中的在線的溫度推算等，則會導致存在能夠期待高準確度的推算的區域(數據密集區 域)和進行不現實的推算的區域(數據稀疏區域)。于是，如果是進行不現實的溫度推算的 區域，則可能會對制造過程造成較大的不良影響。
技術實現思路
本專利技術是為了解決上述問題而完成的，其目的在于，提供一種能夠計算出推算用 多項式的，能夠在利 用分析用數據求出推算用多項式并利用推算用多項式進行狀態量等的推算的情況下降低 在分析用數據稀疏的區域中計算出不現實的推算值的概率。本專利技術的推算用多項式生成裝置的特征在于，具備分析用數據存儲單元，其預先 存儲由輸入參數的數據和與其對應的輸出參數的數據的組構成的分析用數據；函數曲面存 儲單元，其預先存儲對相似變換后的上述輸入參數與上述輸出參數之間的關系進行限定的 函數曲面的算式；相似變換算式存儲單元，其預先存儲用于對上述輸入參數和上述輸出參 數進行相似變換的相似變換算式；相似變換參數搜索單元，其使用上述分析用數據、上述函 數曲面的算式和上述相似變換算式來搜索并確定上述相似變換算式的系數；和推算用多項 式計算單元，其將上述函數曲面的算式和確定了上述系數的相似變換算式合成來計算出用 于根據輸入參數值推算輸出參數值的推算用多項式。另外，本專利技術的推算用多項式生成裝置的特征在于，具備分析用數據存儲單元， 其預先存儲由輸入參數的數據和與其對應的輸出參數的數據的組構成的分析用數據；函數 曲面存儲單元，其預先存儲對相似變換后的上述輸入參數與上述輸出參數之間的關系進行 限定的函數曲面的算式；相似變換算式存儲單元，其預先存儲用于對上述輸入參數和上述 輸出參數進行相似變換的相似變換算式；分析用數據個數確認單元，其判定上述分析用數 據稀疏的區域是否存在；相似變換參數搜索單元，其在判定為上述分析用數據稀疏的區域 存在的情況下，使用上述分析用數據、上述函數曲面的算式和上述相似變換算式來搜索并 確定上述相似變換算式的系數；推算用多項式計算單元，其在判定為上述分析用數據稀疏 的區域存在的情況下，將上述函數曲面的算式和確定了上述系數的相似變換算式合成來計 算出用于根據輸入參數值推算輸出參數值的推算用多項式；多變量分析執行單元，其在判定為上述分析用數據稀疏的區域不存在的情況下，通過對上述分析用數據的多變量分析， 計算出用于根據輸入參數值推算輸出參數值的推算用多項式；和函數曲面更新單元，其將 該多變量分析執行單元計算出的推算用多項式作為新的函數曲面的算式來更新存儲在上 述函數曲面存儲單元中的函數曲面的算式。另外，對于本專利技術的推算用多項式生成裝置的1構成例，其特征在于，上述相似變 換參數搜索單元使用將上述相似變換算式代入上述函數曲面的算式而得到的搜索用算式， 按每個分析用數據求出上述分析用數據的輸出參數與將上述分析用數據代入上述搜索用 算式而計算出的輸出參數之間的誤差，并以使得針對各個分析用數據求出的誤差的累計值 成為最小的方式搜索上述相似變換算式的系數。并且，對于本專利技術的推算用多項式生成裝置的1構成例，其特征在于，上述分析用 數據個數確認單元將輸入參數空間分割成多個子區域，當在全體子區域或者預先規定的比 例以上的子區域中存在規定個數以上的分析用數據的本文檔來自技高網...
【技術保護點】
１．一種推算用多項式生成裝置，其特征在于，具備：分析用數據存儲單元，其預先存儲由輸入參數的數據和與其對應的輸出參數的數據的組構成的分析用數據；函數曲面存儲單元，其預先存儲對相似變換后的上述輸入參數與上述輸出參數之間的關系進行限定的函數曲面的算式；相似變換算式存儲單元，其預先存儲用于對上述輸入參數和上述輸出參數進行相似變換的相似變換算式；相似變換參數搜索單元，其使用上述分析用數據、上述函數曲面的算式和上述相似變換算式，搜索并確定上述相似變換算式的系數；和推算用多項式計算單元，其將上述函數曲面的算式和確定了上述系數的相似變換算式合成來計算出用于根據輸入參數值推算輸出參數值的推算用多項式。
【技術特征摘要】
...
【專利技術屬性】
技術研發人員：田中雅人，
申請(專利權)人：株式會社山武，
類型：發明
國別省市：JP
還沒有人留言評論。發表了對其他瀏覽者有用的留言會獲得科技券。