一種分層立體溫室制造技術

一種分層立體溫室，所述溫室包括一個或多個溫室本體，所述溫室本體包括東、西、北三面墻和透光膜，所述透光膜覆蓋在三面墻之上，在溫室本體北面墻的北側設有第一密閉空間，在第一密閉空間位于地面之上設有棚架，在所述棚架上進行有土種植或無土種植，在溫室本體的三面墻之間的地面之下設有一個或多個用于種植喜陰植物或菌類的第二密閉空間。本發明專利技術通過在溫室大棚地面之下和陰棚內分別設有密閉空間，從而擴大了使用面積，并且不會阻擋相鄰溫室大棚的陽光。而且，本發明專利技術通過在該密閉空間位于地面之上部分設置有棚架，解決了溫室陰棚部分因為光照較少無法種植和利用的問題，增加了同等土地使用面積的1～3倍。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術屬于溫室
，特別是涉及一種分層立體溫室。
技術介紹
日光溫室大棚是我國北方地區獨有的ー種溫室類型，主要由圍護墻體、后屋面和前屋面三部分組成，簡稱日光溫室的“三要素”，其中前屋面是溫室的全部采光面，白天采光時段前屋面只覆蓋塑料膜采光，當室外光照減弱時，及時用活動保溫被覆蓋塑料膜，以加強溫室的保溫。即使在最寒冷的季節，也只依靠太陽光來維持室內一定的溫度水平，以滿足蔬菜作物生長的需要。常規日光溫室土地利用率低，只利用一層土壤種植，溫室陰影不能利用或極少利用，受陰影部分影響，溫室行間距在十米或十米以上導致大量土地浪費，溫室內立體種植受制于光照影響，有效種植面積較小；連續作業效率低，由于溫室大棚自身條件的限制，其內的土壌肥力如果得不到及時有效的補充，連續作業時，蔬菜的產量和質量都會降低，并且容易隨著土壤傳播病蟲害。為了提高蔬菜的產量和品質，目前的有機蔬菜栽培方法用水、用肥量比較大，不僅污染周邊環境，更重要的是提高了蔬菜成本。不同地域與區域的土地，不一定能保證提供蔬菜生長所需要的營養成分。而且，常規溫室種植要求條件好的耕地或基本農田，但這類耕地或農田本身就是極為緊張的稀缺資源，建造成方連片的大規模種植基地面臨選址困難問題。
技術實現思路
(一)要解決的技術問題本專利技術要解決的技術問題是現有的溫室大棚受陰影部分影響，溫室行間距在十米或以上，導致大量土地浪費，溫室內立體種植受制于光照影響，有效種植面積較小。( ニ )技術方案為了解決上述技術問題，本專利技術提供一種分層立體溫室。其中，所述溫室包括ー個或多個溫室本體，所述溫室本體包括東、西、北三面墻和透光膜，所述透光膜覆蓋在三面墻之上，在溫室本體北面墻的北側設有第一密閉空間，在第一密閉空間位于地面之上設有棚架，在所述棚架上進行有土種植或無土種植，在溫室本體的三面墻之間的地面之下設有ー個或多個用于種植喜陰植物或菌類的第二密閉空間。優選地，所述棚架的頂部設有防蟲網、網棚溫室、溫室網棚或者塑料大棚。優選地，所述溫室本體與相鄰的溫室本體的北面墻之間的距離D為透光膜離地高度H的1.5 1.8倍。優選地，所述棚架的長度1和高度h滿足如下關系1 く Dh/H。優選地，所述第一密閉空間位于地面之下，在所述第一密閉空間內進行菌類種植。優選地，所述第一密閉空間的底面和頂面的距離大于2米。優選地，所述透光膜為塑料膜或者玻璃。優選地，所述溫室本體內進行無土種植。(三)有益效果上述技術方案具有如下優點本專利技術通過在溫室大棚地面之下和陰棚內分別設有密閉空間，在該密閉空間內進行喜陰植物或菌類的種植，從而擴大了使用面積，并且不會阻擋相鄰溫室大棚的陽光。而且，本專利技術通過在該密閉空間位于地面之上部分設置有進行有土種植或無土種植的棚架，解決了溫室陰棚部分因為光照較少無法種植和利用的問題，增加了同等土地使用面積的1 3倍。附圖說明圖1是本專利技術的一種實施例的結構示意圖。其中，1 透光膜；2 北面墻；3 第二密閉空間；4 第一密閉空間；5 棚架；6 頂棚。具體實施例方式下面結合附圖和實施例，對本專利技術的具體實施方式作進ー步詳細描述。以下實施例用于說明本專利技術，但不用來限制本專利技術的范圍。如圖1所示，為本專利技術的一種實施例的結構示意圖，該溫室包括ー個或多個溫室本體，所述溫室本體包括東、西、北三面墻和透光膜1，所述透光膜1覆蓋在三面墻之上，在溫室本體北面墻2的北側設有第一密閉空間4，第一密閉空間4位于陽光較少的北面墻的北側，又稱之為溫室陰棚。在第一密閉空間4位于地面之上設有棚架5，在所述棚架5上進行有土種植或無土種植，在溫室本體的三面墻之間的地面之下設有ー個或多個用于種植喜陰植物或菌類的第二密閉空間3。圖中的A處為溫室本體的前坡面，B處為溫室本體的北面墻，C處為第一密閉空間的最北面，C處和溫室陰棚的最北面還設有過道。本專利技術通過在溫室大棚地面之下和陰棚內分別設有密閉空間，在該密閉空間內進行喜陰植物或菌類的種植，從而擴大了使用面積，并且不會阻擋相鄰溫室大棚的陽光。而且，本專利技術通過在該密閉空間位于地面之上部分設置有進行有土種植或無土種植的棚架，解決了溫室陰棚部分因為光照較少無法種植和利用的問題，増加了同等土地使用面積的1 3倍。本專利技術的第一密閉空間4用于種植喜陰植物或菌類，可以是全部位于地面之上、 地面之下或者部分位于地面之上，即可以是地下室、半地下室或者地面上房屋。優選地，第 ー密閉空間4位于溫室陰棚的地面之下，即為地下室，這種地下室的結構不會破壞溫室陰棚地面土壌，并且可以在該地下室進行菌類種植，從而擴大了使用面積。圖中示出了第一密閉空間4有部分位于地面之上，有部分位于地面之下，即半地下室結構。為了使相鄰的溫室大棚陽光充足，避免遮擋住相鄰溫室大棚的陽光，并且盡可能充分利用第一密閉空間上部的空間，在第一密閉空間4位于地面之上設有棚架5，在所述棚架5上進行有土種植或無土種植，溫室本體與相鄰的溫室本體的北面墻之間的距離D為透光膜離地高度H的1. 5 1. 8 倍。為了滿足棚架5不遮住相鄰溫室本體，優選地，所述棚架5的長度1和高度h滿足如下關系1彡Dh/H。本專利技術的棚架5的長度1的確定依據是1、不能遮擋相鄰溫室的日照；2、長度不能超出溫室陰棚部分的范圍；3、根據菌類種植和采摘需要，預留種植區間與走道的長度。其高度h的確定依據為1、不能遮擋相鄰溫室的日照；2、高度不低于菌室頂部八至九個月有日照以滿足頂部無土栽培需求的要求；3、根據人體工學要求，參考民用建筑規范中地下室凈高最低不得低于2米，以最大限度的利用陰影部分，并滿足菌類種植與采摘需要。本專利技術的棚架5的高度h和長度1之間需滿足的關系的確定依據如下當棚架的最北端與日光線 (圖中的位于棚架上的虛線)重合時為最高高度，此時1/D = h/H，為了避免棚架遮擋相連溫室本體的陽光，其棚架長度1和高度h滿足如下關系1 ^ Dh/H。優選地，第一密閉空間內的頂面和底面之間的距離大于2米，從而使得第一密閉空間內可以進行人工操作，符合人體工學要求。本專利技術還在溫室本體的三面圍墻之間的地面之下設有ー個或多個用于種植喜陰植物或菌類的第二密閉空間3，即在溫室本體的地面之下設有密閉空間，用于種植喜陰植物或菌類，從而將常規的溫室大棚內種植面積增加一倍左右。該實施例的密閉空間可以是設置統一品種的菌室，或者按照不同菌類所需溫度與濕度條件進行隔斷，設置不同環境條件的菌室。更優地，溫室大棚和該密閉空間通過水泥等隔絕較好的材質進行隔離，并且該隔離面為傾斜設置，隔離面與第二密閉空間之間保留一定距離。再次參閱圖1，本專利技術的透光膜1為塑料膜或者玻璃，從而可以在溫室本體中進行有土種植或無土種植。優選地，在溫室本體中進行無土種植，從而使得溫室本體的土壤選擇的空間更大，有利于充分利用現有的土地。本專利技術還在棚架5頂部設有頂棚6，頂棚6可以為防蟲網、網棚溫室、溫室網棚或者塑料大棚，從而可以在棚架5上進行土種植或無土種植，使得溫室大棚的種植面積擴大為現有陽光溫室的二倍到三倍左右。本專利技術的一個實施例中，溫室本體的面積為600平方米，第二密閉空間也為600平方米，第一密閉空間和棚架的面積各為360平方米，在兩個密閉空間內種植菌類，相對于陽光溫室，該實施例利用第一密閉空間增加了 720平方米的使用面積，増大了 1.2倍，利用第二密本文檔來自技高網...

【技術保護點】

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：王京生，
申請(專利權)人：王京生，
類型：發明
國別省市：