在制造過程中改變組件內(nèi)部氣體的組成和/或密度制造技術(shù)

本發(fā)明專利技術(shù)涉及一種改變硬盤驅(qū)動器內(nèi)部氣體組成和/或密度的方法。所述方法包括將至少一根管與硬盤驅(qū)動器內(nèi)部接觸，并且通過所述至少一根管來交換氣體。所述氣體的交換大致與另一個硬盤驅(qū)動器制造工序同時進行。

【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
【國外來華專利技術(shù)】
本專利技術(shù)涉及在制造過程中改變組件(例如硬盤驅(qū)動器)內(nèi)部氣體的組成和/或密度。
技術(shù)介紹
硬盤驅(qū)動器的操作會受磁盤驅(qū)動器介質(zhì)與該硬盤驅(qū)動器磁頭組件周圍氣體組成和密度的影響。因為硬盤驅(qū)動器的磁頭組件在磁盤表面上方飛行，磁頭組件透過其飛行的氣體的組成和密度會影響磁頭組件結(jié)合氣體的顫振、共振以及其他關(guān)鍵參數(shù)。相似地，旋轉(zhuǎn)磁盤介質(zhì)周圍氣體的組成和密度會影響旋轉(zhuǎn)磁盤介質(zhì)所致的湍流。因為氣體對磁盤驅(qū)動器操作的影響，磁盤驅(qū)動器磁頭和介質(zhì)周圍氣體的組成和密度很多情況下需要在磁盤驅(qū)動器制造過程中進行控制。現(xiàn)代硬盤驅(qū)動器往往包括硬盤驅(qū)動器活動部件周圍的密封機罩，控制這些組件周圍氣體的組成和密度可以包括控制密封機罩內(nèi)部氣體的組成和/或密度。控制密封磁盤驅(qū)動器機罩內(nèi)部氣體的組成和/或密度的已知方法包括降低磁盤驅(qū)動器機罩內(nèi)空氣的密度，或在某些制造工序中把氣體(例如氦氣)引入磁盤驅(qū)動器機罩。對存在于機罩內(nèi)部氣體的組成和/或密度的操縱已經(jīng)通過把整個機罩放置到氣體壓強和組成受控的室內(nèi)，或由透過硬盤驅(qū)動器機罩中一個或多個孔隙來交換氣體在不同程度上得以實現(xiàn)。在透過硬盤驅(qū)動器機罩內(nèi)孔隙交換氣體的情況下，一個或多個孔隙永久性地或只是在制造期間配有閥門。在其他情況下，密封標簽可用于暫時地或永久性地打開和關(guān)閉一個或多個孔隙。交換硬盤驅(qū)動器機罩內(nèi)部氣體的一些已知方法包括同時在室中處理一批硬盤驅(qū)動器，或包括手工操作來交換氣體，或包括額外的工序以完成，或包括添加昂貴組件至硬盤驅(qū)動器。
技術(shù)實現(xiàn)思路
通常，本專利技術(shù)涉及在制造過程中改變組件(例如硬盤驅(qū)動器)內(nèi)部氣體的組成和/或密度。本專利技術(shù)的一個方面重點介紹一種改變硬盤驅(qū)動器內(nèi)部氣體的組成和/或密度的方法。該方法包括放置至少一根管接觸到硬盤驅(qū)動器內(nèi)部，并且通過這至少一根管來交換氣體。氣體的交換大致與另一個硬盤驅(qū)動器制造工序同時進行。本專利技術(shù)的另一個方面提供了一種改變硬盤驅(qū)動器內(nèi)部氣體的組成和/或密度的方法。該方法包括放置至少一根管接觸到硬盤驅(qū)動器內(nèi)部，并且通過這至少一根管來交換氣體。這至少一根管與該硬盤驅(qū)動器內(nèi)部之間的接觸是通過該硬盤驅(qū)動器上的至少一個自封口膜來進行的。這些方法的具體實施可以包括下列一個或多個特征。在某些具體實施中，這至少一根管與該硬盤驅(qū)動器內(nèi)部之間的接觸是通過該硬盤驅(qū)動器上的至少一個自封口膜來進行的。這些方法可以由自動化機械進行。在某些具體實施中，這至少一個自封口膜包含(例如，構(gòu)成于)彈性體。在某些具體實施中，這至少一個自封口膜包含選自橡膠、丁基合成橡膠、硅樹脂以及含氟彈性體(例如VitonkO的材料。 門進行的。在某些具體實施中，這至少一根管包括至少第一管和第二管。在一些情況下，交換氣體包括將一種或多種氣體通過第一管引入硬盤驅(qū)動器以及將一種或多種氣體通過第二管從硬盤驅(qū)動器抽空。氣體的交換可以通過感測從硬盤驅(qū)動器抽空的氣體的組成或密度來控制，并且當組成或密度達到預定標準時終止氣體的交換。在某些具體實施中，氣體的交換進行預定量的時間。在某些具體實施中，氣體的交換進行到交換了預定體積的氣體為止。在某些具體實施中，交換氣體包括啟動氣體交換機構(gòu)。在另一方面，本專利技術(shù)提供了用于交換硬盤驅(qū)動器內(nèi)部氣體的一種裝置。該裝置包括用于攜帶氣體或真空的至少一根管，以及將該至少一根管與硬盤驅(qū)動器內(nèi)部接觸的可操作機構(gòu)。這至少一根管和該機構(gòu)用于使該管穿透這硬盤驅(qū)動器上的自封口膜。該裝置的具體實施可以包括下列一個或多個特征。在某些具體實施中，將這至少一根管與硬盤驅(qū)動器內(nèi)部接觸的機構(gòu)適于限定這至少一根管的穿透深度。在某些具體實施中，該裝置還包括用于感測流經(jīng)這至少一根管的氣體組成的傳感器。在某些具體實施中，該裝置還包括用于感測流經(jīng)這至少一根管的氣體體積流量的傳感器。在某些具體實施中，這至少一根管包括用于攜帶氣體或真空的第一管，以及用于攜帶氣體或真空的第二管。該第一管用于將氣體注入硬盤驅(qū)動器，而該第二管用于將氣體從同一硬盤驅(qū)動器中抽空。根據(jù)另一方面，硬盤驅(qū)動器包括覆蓋了該硬盤驅(qū)動器外部和該硬盤驅(qū)動器內(nèi)部之間至少一個孔隙的至少一個自封口膜。該硬盤驅(qū)動器的具體實施可以包括下列一個或多個特征。在某些具體實施中，這至少一個孔隙和這至少一個自封口膜用于允許該硬盤驅(qū)動器外部和該硬盤驅(qū)動器內(nèi)部之間的氣體通過致使穿透這自封口膜的管進行交換。在某些具體實施中，這至少一個自封口膜具有基本上不影響該硬盤驅(qū)動器適用性的足夠厚度。在某些具體實施中，這至少一個自封口膜包含(例如，構(gòu)成于)彈性體。 在某些具體實施中，這至少一個自封口膜包含選自橡膠、丁基合成橡膠、硅樹脂以及含氟彈性體(例如Viton'O的材料。在某些具體實施中，該自封口膜適于具有充分的柔性以允許硬盤驅(qū)動器內(nèi)部和外部的氣壓平衡。具體實施可包括下列一個或多個優(yōu)點。某些具體實施允許多個制造工序基本上異步進行，以保持制造工藝的連續(xù)性。保持連續(xù)流的一個優(yōu)點是它使空閑時間最小化，這空閑時間是指部分完成的硬盤驅(qū)動器等待下一個工序的時間。空閑時間可能是對工廠空間和庫存成本的低效利用。在某些具體實施中，提供了可以連續(xù)工作的制造方法，該制造方法與工序的自動 化兼容，添加了很少的或沒有附加工序，并且只向硬盤驅(qū)動器添加了非常低成本的組件。在某些具體實施中，提供了使用自動化注入和/或從硬盤驅(qū)動器抽空氣體的方法，該方法以這樣的方式實施其可以在其他一些硬盤驅(qū)動器制造工序期間執(zhí)行。在某些具體實施中，提供了可以作為獨立自動化步驟進行操作的方法，該方法與許多可選方案相比持續(xù)時間短。在某些具體實施中，提供了可以作為手動工序的一部分進行操作的方法，該方法與許多可選方案相比持續(xù)時間短并且錯誤可能性低。其他的方面、特征和優(yōu)點在說明、附圖以及權(quán)利要求書中。附圖說明圖I為硬盤驅(qū)動器的透視圖。圖2為端部執(zhí)行器組件的透視圖。圖3為硬盤驅(qū)動器測試儀的透視圖。圖4為應用有本專利技術(shù)的自封口膜的硬盤驅(qū)動器透視圖。圖5為端部執(zhí)行器組件的透視圖，該組件包括圖示處于靜止位置的樞轉(zhuǎn)氣體交換機構(gòu)。圖6為端部執(zhí)行器組件的透視圖，該組件包括圖示處于接合位置的樞轉(zhuǎn)氣體交換機構(gòu)。圖7為端部執(zhí)行器組件以及相關(guān)的氣體處理和氣體感測設備示意圖。不同附圖中的類似參考符號表示類似的元件。具體實施例方式參見圖1，硬盤驅(qū)動器400包括包封磁盤介質(zhì)的上蓋440、磁頭懸浮組件(HGA)以及圖I中未示出的硬盤驅(qū)動器其他部分。上蓋440可以包括一個或多個允許氣體在硬盤驅(qū)動器機罩的內(nèi)部和外部之間交換的孔隙430。在制造過程的最后，孔隙430可以用密封標簽410蓋上，以防止污染物進入硬盤驅(qū)動器400。硬盤驅(qū)動器400還可包括排氣孔450，其在硬盤驅(qū)動器400工作壽命期間起到平衡內(nèi)部和外部氣壓的作用。當排氣孔450存在時，內(nèi)部過濾器、柔性膜或曲徑連接可以用于防止污染物進入硬盤驅(qū)動器400。在一些硬盤驅(qū)動器制造工藝中，硬盤驅(qū)動器400可以由自動輸送器(參見例如零件610，圖3)所輸送。參見圖2，該自動輸送器可能包括端部執(zhí)行器組件200，其可能包括攝像頭220、光源230和機械致動器210。硬盤驅(qū)動器400可以由端部執(zhí)行器組件200通過機械致動器210夾持的托架300 (圖3)所托載。參見圖3，在一些硬盤驅(qū)動器制造工藝中，附接到端部執(zhí)行器200的自動輸送器610可能會構(gòu)成較大制造系統(tǒng)(例如硬盤驅(qū)本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護點】

【技術(shù)特征摘要】
【國外來華專利技術(shù)】...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：菲利普·坎貝爾，彼得·馬蒂諾，布萊恩·S·梅洛，埃里克·L·特呂本巴赫，
申請(專利權(quán))人：泰拉丁公司，
類型：發(fā)明
國別省市：