導電薄膜制造技術

一種導電薄膜，包括塑料薄膜基材及鋪設于所述塑料薄膜基材上的金屬網，所述金屬網具有多個陣列排布的孔洞。上述導電薄膜通過在塑料薄膜基材表面鋪設金屬網，使用時可以根據需要將金屬網再次曝光顯影從而在塑料薄膜基材上形成圖案感應層而應用于觸控屏中，導電薄膜避免使用氧化銦錫，從而導電薄膜的成本較低。（*該技術在2022年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】

本技術涉及一種導電薄膜。
技術介紹
電容觸摸屏以其透明度高，多點觸摸，壽命長等居多優點，近年來，越來越受到市場的青睞。目前，通常采用真空蒸鍍或者磁控濺射方式將透明導電材料氧化銦錫(ITO)鍍制在PET或者玻璃基板上形成導電薄膜以應用于電容觸摸屏。然而，銦元素是一種稀土元素，在大自然中儲量比較小，價格比較昂貴，從而使得導電薄膜的成本較高
技術實現思路
基于此，有必要提供一種成本較低的導電薄膜。一種導電薄膜，包括塑料薄膜基材及鋪設于所述塑料薄膜基材上的金屬網，所述金屬網具有多個陣列排布的孔洞。在其中一個實施例中，所述孔洞為方形，所述金屬網包括多個相互平行的第一金屬線及多個相互平行的第二金屬線，所述第一金屬線與所述第二金屬線垂直相交形成所述孔洞。在其中一個實施例中，所述孔洞為菱形，所述金屬網包括多個相互平行的第一金屬線及多個相互平行的第二金屬線，所述第一金屬線與所述第二金屬線傾斜相交形成所述孔洞。在其中一個實施例中，所述金屬網的孔洞為正六邊形且呈蜂巢狀。在其中一個實施例中，所述金屬網的孔洞為三角形，所述金屬網包括多個相互平行的第一金屬線、多個相互平行的第二金屬線及多個相互平行的第三金屬線，第二金屬線與第一金屬線傾斜相交形成多個陣列排布的菱形孔，第三金屬線與菱形孔的兩個相對的端點相交從而將菱形孔分割形成所述三角形的孔洞。在其中一個實施例中，所述金屬網的表面形成有抗氧化鍍層。在其中一個實施例中，所述塑料薄膜基材的表面還形成具有防眩、硬化、增透或霧化功能的功能層。在其中一個實施例中，所述金屬網的網線寬度大于等于45nm且小于等于40000nmo在其中一個實施例中，所述金屬網由銅線、銀線、鑰鋁鑰合金線或銅鎳合金線形成。上述導電薄膜，通過在塑料薄膜基材表面鋪設金屬網，使用時可以根據需要將金屬網再次曝光顯影從而在塑料薄膜基材上形成圖案感應層而應用于觸控屏中，導電薄膜避免使用氧化銦錫，從而導電薄膜的成本較低。附圖說明圖I為一實施方式的導電薄膜的結構示意圖；圖2為圖I中導電薄膜的金屬網的結構示意圖；圖3為另一實施方式中導電薄膜的金屬網的結構示意圖；圖4為另一實施方式中導電薄膜的金屬網的結構示意圖；圖5為另一實施方式中導電薄膜的金屬網的結構示意圖；圖6為一實施方式的導電薄膜的制備方法的流程圖。具體實施方式為了便于理解本技術，下面將參照相關附圖對本技術進行更全面的描述。附圖中給出了本技術的首選實施例。但是，本技術可以以許多不同的形式來實現，并不限于本文所描述的實施例。相反地，提供這些實施例的目的是使對本技術的公開內容更加透徹全面。需要說明的是，當元件被稱為“固設于”另一個元件，它可以直接在另一個元件上或者也可以存在居中的元件。當一個元件被認為是“連接”另一個元件，它可以是直接連接到另一個元件或者可能同時存在居中元件。本文所使用的術語“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及類似的表述只是為了說明的目的。除非另有定義，本文所使用的所有的技術和科學術語與屬于本技術的
的技術人員通常理解的含義相同。本文中在本技術的說明書中所使用的術語只是為了描述具體的實施例的目的，不是旨在于限制本技術。本文所使用的術語“及/或”包括一個或多個相關的所列項目的任意的和所有的組合。請參閱圖1，一實施方式的導電薄膜10包括塑料薄膜基材110及鋪設于塑料薄膜基材Iio上的金屬網120。塑料薄膜基材110表面還形成有具有防眩、硬化、增透或霧化功能的功能層(圖未示)。其中，具有防?；蜢F化功能的功能層，由具有防?；蜢F化功能的涂料涂敷形成，涂料里面有金屬氧化物顆粒；具有硬化功能的功能層由具有硬化功能的高分子涂料涂敷形成；具有增透功能的功能層為二氧化鈦鍍層、氟化鎂鍍層或氟化鈣鍍層。功能層可以選擇性的設置于塑料薄膜基材110的一側表面或兩側相對的表面。優選的，功能層形成于塑料薄膜基材110遠離金屬網110的一側表面，即金屬網110及功能層分別鋪設于塑料薄膜基材110的兩個相對的表面。需要說明的是，當塑料薄膜基材110的表面具有功能層時，金屬網120形成于功能層的表面。請同時參閱圖2，金屬網120形成于塑料薄膜基材110的表面。金屬網120具有多個陣列排布的孔洞121。本實施方式中，多個孔洞121的形狀及大小均相同。本實施方式中，孔洞121為正方形。金屬網120包括多個相互平行的第一金屬線123及多個相互平行的第二金屬線125，第一金屬線123與第二金屬線125垂直相交形成多個陣列排布的正方形的孔洞321。本實施方式中，金屬網120的網線即第一金屬線123及第二金屬線125為銅線、銀線、鑰鋁鑰合金線或銅鎳合金線。為了防止金屬網120氧化，還可以在金屬網120的表面形成抗氧化層?？寡趸瘜拥牟牧蠟榻稹f、鎳或鎳金合金等惰性金屬。金屬網120的厚度大于等于45nm且小于等于40000nm。金屬網120的網線寬度D大于等于45nm且小于等于40000nm。需要說明的是，金屬網120的網線的寬度D對觸控屏10的分辨率會有影響，當金屬網120的網線寬度D過大時，肉眼可以看到網線，從而會影響觸控屏10的分辨率。優選的，金屬網120的網線寬度大于等于45nm且小于等于5000nm。為了保證觸控屏10對信號的敏感性，則金屬網120的開口率K與導電薄膜10的透過率T1以及塑料薄膜基材的透過率T2之間存在如下關系=T1 = τ2*κ。由此可以根據導電薄膜10的設計光學透過率計算出滿足條件的金屬網120的開口率。以下以金屬網120的孔洞121為正方形為例進行說明。金屬網120的網線寬度為D，金屬網120的孔洞121的開口寬度為L。金屬網120可以看作由多個邊長為D+L的晶胞組成，金屬網120的開口率K =孔洞121的面積除以晶胞的面積。具體在本實施方式中，K=L2/(L+D)2。 上述導電薄膜10中，在塑料薄膜基材110表面鋪設金屬網120，使用時可以根據需要將金屬網再次曝光顯影從而在塑料薄膜基材110上形成圖案感應層而應用于觸控屏中，導電薄膜10避免使用氧化銦錫，從而導電薄膜10的成本較低；同時，金屬網的透過率較高，且導電薄膜10的柔韌性較好；導電薄膜10的方塊電阻較低，可以達到I歐姆/ 口 ；導電薄膜10的透過率可以通過控制金屬網120的開口率及塑料薄膜基材110的透過率來控制，較為靈活。需要說明的是，金屬網120的孔洞121不限于為圖2所示的正方形，也可為多邊形。請參閱圖3，另一實施方式的導電薄膜的結構與導電薄膜10的結構大體相同，其不同在于金屬網320的孔洞321為陣列排布的菱形。金屬網320包括多個相互平行的第一金屬線323及多個相互平行的第二金屬線325,第一金屬線323與第二金屬線325相交且第一金屬線323與第二金屬線325相互傾斜形成多個陣列排布的菱形的孔洞321。請參閱圖4，另一實施方式的導電薄膜的結構與導電薄膜10的結構大體相同，其不同在于金屬網420的孔洞421為陣列排布的三角形。金屬網420包括多個相互平行的第一金屬線423、多個相互平行的第二金屬線425及多個相互平行的第三金屬線427，第二金屬線425與第一金屬線423傾斜相交形成多個陣列排布的菱形孔，第三金屬線427與菱形孔的兩個相對的端點相交從而將菱形本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種導電薄膜，包括塑料薄膜基材，其特征在于，所述導電薄膜還包括鋪設于所述塑料薄膜基材上的金屬網，所述金屬網具有多個陣列排布的孔洞。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：程志政，蔡榮軍，
申請(專利權)人：深圳歐菲光科技股份有限公司，
類型：實用新型
國別省市：