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    量子點結構紫外-可見光電探測器制造技術

    技術編號:8149942 閱讀:184 留言:0更新日期:2012-12-28 21:20
    本實用新型專利技術公開了量子點結構紫外-可見光電探測器,為量子點與同質結相結合的多層結構。襯底頂端自下而上依次由透明導電層、本征ZnO層、ZnO:Cu補償層、金屬電極層組成。本征ZnO層和ZnO:Cu補償層通過旋涂納米晶并退火獲得,之后通過光刻方法刻蝕露出一定區域的透明導電層,頂部金屬電極層由電子束蒸發沉積獲得,并經快速熱退火處理得到歐姆接觸。本實用新型專利技術優點是:成本較低,很好兼容于平面印刷工藝,且具有更低的暗電流,有效地提高了光電響應性能。(*該技術在2021年保護過期,可自由使用*)

    【技術實現步驟摘要】

    本技術涉及光電探測器領域,具體的說是ー種量子點結構紫外-可見光電探測器。技術背景ZnO材料對應的室溫光學帶隙在3. 37eV,對紫外波段具有良好的響應特征,因此被人們認為是紫外探測器的優選基礎材料。光電探測器中的活性層ZnO現階段更多依賴于高真空設備生長,エ藝繁瑣、成本高。研究開發新的生長方法和エ藝也是大勢所趨。膠體化學法能很好兼容于平面印刷工藝,襯底選取多祥化,無需考慮晶格的匹配問題,方便實現材料的沉積與加工,大大降低了器件開發成本,拓寬了材料的應用范圍。研究表明,Cu在ZnO中是ー種可見光光電導激活劑,即可有效補償本征ZnO中的施主態,降低暗電流密度,又可實現不同波段的分別響應,對開發多波段響應的ZnO基光電探測器具有重要意義。目前,這方面研究尚處于起步階段,盡管Nikolai Kouklin已經制備出Cu摻雜ZnO納米線并實現了·對可見光的響應,但Cu的固溶度不夠高,光響應特性和器件靈敏度還有待提升。利用膠體化學法在結構設計上的優勢,將量子點與同質結結合起來構筑三維結型光電探測器,不僅能提高器件的內量子效率,而且能夠有效降低成本,充分體現該技術理念的創新和性能上的優勢。關于這種結構探測器的設計與制備國際上還鮮有報道,開展這方面工作勢必很有意義
    技術實現思路
    本技術的目的就是提供ー種量子點結構紫外-可見光電探測器,提高器件的內量子效率,而且能夠有效降低成本。本技術采用的技術方案為量子點結構紫外-可見光電探測器整體采用三明治式多層結構。具有導電襯底,所述導電襯底,為襯底上覆蓋透明導電層,透明導電層作為底電扱;在導電襯底上自下而上依次設置有本征ZnO層和ZnO = Cu補償層,ZnOiCu補償層上沉積有頂電極。ZnO: Cu補償層的Cu摩爾百分比在O 4. O %范圍內連續可調,可獲得不同的η型補償狀態。它是三維結構的。ZnO層和ZnO:Cu補償層之間為同質結接觸。所采用的襯底材料不受限制,只要足夠平整,均可采用平面印刷工藝涂覆活性ZnO層和ZnO: Cu補償層。所述的底電極可為ΙΤ0,摻Al的或摻Ga的η_ΖηΟ透明導電薄膜,頂電極為Ni/Au或Ti/Au合金。可同時探測紫外和可見光,并具有不同的響應效果。與現有技術相比,本技術的有益效果在于本技術采用量子點和同質結相結合的結構,可以提高光電探測器的內量子效率,且器件構筑成本低廉,很好兼容于平面印刷工藝,同時具有更低的暗電流,有效地提高了光電響應性能。附圖說明附圖I為本技術結構示意圖。具體實施方式以下結合附圖,通過實施例對本技術作進ー步詳細說明量子點結構紫外-可見光電探測器整體采用三明治式多層結構。具有導電襯底,所述導電襯底,為襯底I上覆蓋透明導電層2,透明導電層2作為底電極;在導電襯底上自下而上依次設置有本征ZnO層3和ZnO = Cu補償層4,ZnOiCu補償層4上沉積有頂電極5。 ZnO:Cu補償層4的Cu摩爾百分比在O 4. O %范圍內連續可調,可獲得不同的η型補償狀態。它是三維結構的。ZnO層3和ZnO:Cu補償層4之間為同質結接觸。所采用的襯底I材料不受限制,只要足夠平整,均可采用平面印刷工藝涂覆活性ZnO層和ZnO:Cu層。底電極可為ΙΤ0,摻Al的或摻Ga的n-ZnO透明導電薄膜,頂電極5為Ni/Au或Ti/Au合金。可同時探測紫外和可見光,并具有不同的響應效果。以ZnO- ZnO: Cu同質結型紫外-可見光電探測器制備為例I)膠體化學方法制備ZnO及ZnO: Cu量子點。將Zn (CH3COO) 2和Cu (CH3COO) 2按摩爾比(1:0 O. 96:0. 04)充分溶解于甲醇中,加入去離子水作為反應的催化劑,60°C下水浴回流30分鐘,得到前驅體溶液,再將O. 167mol/L的KOH甲醇溶液滴加至上述前驅體溶液中,控制Zn (CH3COO) 2和Cu (CH3COO)的混合物與KOH的摩爾比為I: I. 67^1: 2,60°C下水浴反應2. 5小時,用冰水冷卻,甲醇離心洗滌,得ZnO及ZnO = Cu量子點沉淀;2)在上述制得的量子點沉淀中分別加入三氯甲烷使其充分溶解,然后分別加入正辛胺分散劑,搖勻,得到ZnO和ZnO: Cu膠體量子點溶液,然后各自用O. 22 μ m孔徑的PTFE過濾器過濾,以200(T4000rpm的轉速將過濾后的ZnO和ZnO = Cu膠體量子點溶液依次旋涂在清洗過的ITO襯底上,80°C預烘干后,于250°C下空氣中退火廣2小時,得到厚度約為200nm的量子點同質結薄膜;使用電子束蒸發技術在ZnO: Cu層上圖形化沉積Ni (5nm)/Au (45nm)的合金薄膜,之后在多層結構表面利用光刻的方法刻蝕露出ITO電極。上述實施例僅為本技術的較佳的實施方式,除此之外,本技術還可以有其他實現方式。需要說明的是,在沒有脫離本技術構思的前提下,任何顯而易見的改進和修飾均應落入本技術的保護范圍之內。權利要求1.量子點結構紫外-可見光電探測器,其特征在于整體采用三明治式多層結構,具有導電襯底,所述導電襯底,為襯底上覆蓋透明導電層,透明導電層作為底電極;在導電襯底上自下而上依次設置有本征ZnO層和ZnO = Cu補償層,ZnOiCu補償層上沉積有頂電極。2.根據權利要求I所述的光電探測器,其特征在于ZnO層和ZnO:Cu補償層之間為同質結接觸。3.根據權利要求I所述的光電探測器,其特征在于所采用的襯底材料不受限制,只要足夠平整,均可采用平面印刷工藝涂覆活性ZnO層和ZnO:Cu補償層。專利摘要本技術公開了量子點結構紫外-可見光電探測器,為量子點與同質結相結合的多層結構。襯底頂端自下而上依次由透明導電層、本征ZnO層、ZnO:Cu補償層、金屬電極層組成。本征ZnO層和ZnO:Cu補償層通過旋涂納米晶并退火獲得,之后通過光刻方法刻蝕露出一定區域的透明導電層,頂部金屬電極層由電子束蒸發沉積獲得,并經快速熱退火處理得到歐姆接觸。本技術優點是成本較低,很好兼容于平面印刷工藝,且具有更低的暗電流,有效地提高了光電響應性能。文檔編號H01L31/0352GK202633358SQ20112054208公開日2012年12月26日 申請日期2011年12月22日 優先權日2011年12月22日專利技術者朱麗萍 申請人:安徽康藍光電股份有限公司本文檔來自技高網...

    【技術保護點】
    量子點結構紫外?可見光電探測器,其特征在于:整體采用三明治式多層結構,具有導電襯底,所述導電襯底,為襯底上覆蓋透明導電層,透明導電層作為底電極;在導電襯底上自下而上依次設置有本征ZnO層和ZnO:Cu補償層,ZnO:Cu補償層上沉積有頂電極。

    【技術特征摘要】

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:朱麗萍
    申請(專利權)人:安徽康藍光電股份有限公司
    類型:實用新型
    國別省市:

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